1、 建设项目环境影响报告表（污染影响类）项目名称：项目名称：xxxx光电科技股份有限公司xx分公司年产5000 万颗（件/套）智能光电子元器件项目 建设单位建设单位(盖章盖章)：xxxx光电科技股份有限公司xx分公司 编制日期：编制日期：2023 年 1月 目录目录 一、建设项目基本情况.1 二、建设项目工程分析.21 三、区域环境质量现状、环境保护目标及评价标准.50 四、主要环境影响和保护措施.61 五、环境保护措施监督检查清单.98 六、结论.99 七、大气专项评价.100 八、环境风险专项评价.137 附图：附图：附图1 项目地理位置图 附图2 项目周边环境概况图 附图3 项目周边环境现2、状照片 附图4 总平面布置图 附图5 xx市地表水环境功能区划图 附图6 xx市环境管控单元分类图 附图7 xx市环境空气质量功能区划图 附图8 xx市生态保护红线分布图 附图9 地下水、土壤现状监测点位图 附图10 xx农业对外综合开发区总体规划-用地规划图 附图11 5km评价范围内大气环境保护目标分布图 附图12 大运河（xx段）遗产保护规划遗产分布图 附件：附件：附件1 xx省工业企业“零土地”技术改造项目备案通知书（含基本信息表）附件2 企业营业执照 附件3 法人身份证复印件 附件4 xx市租赁工业厂房申报表 附件5 厂房租赁协议 附件6 不动产权证 附件7 城市污水排入排水管网许可3、证 附件8 安全技术说明书 附件9 废水委托处置协议 附件10 环境质量现状监测报告 附件11 内审记录单 附件12 专家函审意见 附件13 修改清单 附件14 复核意见 附件15 安全评价技术服务合同 附件16 企业法人承诺书 附件17 建设项目污染物总量平衡替代方案 附表：附表：建设项目污染物排放量汇总表 xxxx光电科技股份有限公司xx分公司年产 5000 万颗（件/套）智能光电子元器件项目环境影响报告表 1 一、一、建设项目基本情况建设项目基本情况 建设项目名称 xxxx光电科技股份有限公司xx分公司年产5000万颗（件/套）智能光电子元器件项目 项目代码 建设单位联系人/联系方式/建4、设地点 地理坐标 国民经济 行业类别 C3976光电子器件制造 建设项目 行业类别 三十六、计算机、通信和其他电子设备制造业 39 中的电子器件制造 397 建设性质 新建（迁建）改建扩建技术改造建设项目 申报情形 首次申报项目不予批准后再次申报项目超五年重新审核项目重大变动重新报批项目项目审批（核准/备案）部门 xx市经济和信息化局 项目审批（核准/备案）文号 2204-330481-07-02-929156 总投资（万元）1562.5 万美元（10000万元人民币）环保投资（万元）215 环保投资占比（%）2.15 施工工期 6 个月 是否开工建设 否是：用地面积（m2）6480 专项评价5、 设置情况 根据建设项目环境影响报告表编制技术指南（污染影响类）（试行），大气、地表水、环境风险、生态和海洋专项评价根据指南中的表1进行设置，经对照，本项目需设置大气和风险专项评价（具体判断结果如下）。表表1 专项设专项设置判置判断表断表 专项评价的类别 设置原则 本项目设置情况 大气 排放废气含有毒有害污染物1、二噁英、苯并a芘、氰化物、氯气且厂界外500米范围内有环境空气保护目标2的建设项目 本项目涉及使用氯气，且厂界外500m范围内有环境空气保护目标，因此需设置大气专项。地表水 新增工业废水直排建设项目（槽罐车外送污水处理厂的除外）；新增废水直排的污水集中处理厂 本项目产生的废水经预处理6、后纳管处理，不直接外排，因此无需设置地表水专项。环境风险 有毒有害和易燃易爆危险物质存储量超过临界量的建设项目 经风险调查可知，厂区内危险物质存储量超过临界量，因此需设置环境风险专项。生态 取水口下游500米范围内有重要水生生物的自然产卵场、索饵场、越冬场和洄游通道的新增河道取水的污染类建设项目 本项目不涉及河道取水，项目500m范围内无取水口及上述的“三场”。海洋 直接向海排放污染物的海洋工程建设项目 本项目不涉及。规划情况 xx农业对外综合开发区总体规划调整（修改）（2003年）规划环境影响评价情况 1、规划环境影响评价文件名称：xx农业对外综合开发区规划环境影响报告书 xxxx光电科技股7、份有限公司xx分公司年产 5000 万颗（件/套）智能光电子元器件项目环境影响报告表 2 召集审查机关：（原）xx省环境保护厅 审查文件名称及文号：关于xx农业对外综合开发区规划环境影响报告书的审查意见（浙环函2009427号）审查时间：2009年11月30日 2、规划环境影响评价文件名称：xx农业对外综合开发区总体规划调整（修改）环境影响跟踪评价报告书 召集审查机关：（原）xx省环境保护厅 审查文件名称及文号：关于xx农业对外综合开发区总体规划调整（修改）环境影响跟踪评价环保意见的函（浙环函2017462号）审查时间：2017年12月6日 3、2020年12月，xxxx高新技术产业园区管理委8、员会完成海宁农业对外综合开发区总体规划调整（修改）环境影响报告书“六张清单”修订稿，并通过专家评审。规划及规划环境影响评价符合性分析 1.1 规划符合性分析规划符合性分析（1）规划范围）规划范围 规划范围限定在xx农业对外综合开发区管辖范围之内，北以新塘河为界，东、东南至xx江，西、西南分别与xx市乔司农场接壤。规划总面积为20.20平方公里。（2）规划产业结构）规划产业结构 农发区将建设成为以发展高新技术产业为先导，第二产业为主体，以旅游度假和生态景观住宅为特色，一、二、三产业协调发展的综合开发区。（3）工业）工业用地用地 工业用地主要安排三大区块，即中堤河东工业区块、中堤河西工业区块、许巷9、二围区工业区块。中堤河东工业区块规划为综合性工业区块，主要以轻工、机械、农副产品加工、纺织等工业为主，三类工业主要以现状工业为主；中堤河西工业区块规划以一、二类工业用地为主，发展以电子信息产业、食品/生物医药、新能源/新材料、汽车零部件制造、高端装备制造及现代服务业等的高新技术产业；许巷二围区工业区块规划为综合性工业区块，主要发展一、二类工业，以高新xxxx光电科技股份有限公司xx分公司年产 5000 万颗（件/套）智能光电子元器件项目环境影响报告表 3 技术产业、轻工、机械、农副产品加工、纺织等工业为主。规划符合性分析：规划符合性分析：本项目位于xx市长安镇高新区（原为xx农业对外综合开发区10、），农发区主要发展产业为电子信息产业、食品/生物医药、新能源/新材料、汽车零部件制造、高端装备制造及现代服务业等。根据xx农业对外综合开发区总体规划调整（修改）可知，项目建设地规划为工业用地，根据出租方提供的不动产权证，项目拟建地性质为工业用地，用地性质符合规划要求。本项目为光电子器件制造，科技含量较高，属于电子信息产业，为该功能区的主导产业之一，符合该区域的功能定位，符合规划要求。1.2 规划环评符合性分析规划环评符合性分析 1、规划环评符合性分析 该规划环评针对区域发展制定了生态空间清单、现有问题整改措施清单、规划优化调整建议清单、环境准入条件清单等6张规划环评结论清单。为了解本项目与规划11、环评中该区域相关要求的符合性，本报告着重针对生态空间清单、环境准入条件清单等相关内容进行分析评价，具体见表2至表3。表表2 生态空间清单生态空间清单 生态空间 名称及编号 管控要求 本项目情况 xx市长安镇产业集聚重点管控单元-盐仓区块（ZH33048120002）1、优化产业布局和结构，实施分区差别化的产业准入条件；2、合理规划布局三类工业项目，控制三类工业项目布局范围和总体规模，鼓励对现有三类工业项目进行淘汰和提升改造；3、禁止新增钢铁、铸造、水泥和平板玻璃等行业产能，严格执行相关污染物排放量削减替代管理要求和产能置换实施办法；提高电力、化工、印染、造纸、化纤等重点行业环保准入门槛，控制新12、增污染物排放量；4、严格限制新、扩建医药、印染、化纤、合成革、工业涂装、包装印刷、塑料和橡胶等涉VOCs重污染项目，新建涉VOCs排放的工业企业全部进入工业功能区，严格执行相关污染物排放量削减替代管理要求；5、所有改、扩建耗煤项目，严格执行相关新增燃煤和污染物排放减量替代管理要求，且排污强度、能效和碳排放水平必须达到国内先进水平；6、合理规划居住区与工业功能区，在居住区和工业区、工业企业之间设置防护绿地、生态绿地等隔离带。符合。本项目属于二类工业项目；不属于钢铁、铸造、水泥和平板玻璃等行业，也不属于电力、化工、印染、造纸、化纤等行业；本项目不属于医药、印染、化纤、合成革、工业涂装、包装印刷、塑13、料和橡胶等涉VOCs重污染项目；本项目属于新建涉VOCs排放的工业企业，项目位于工业区，且与居住区之间有防护绿地；本项目新增的VOCs将按照1:2进行区域替代削减。1、严格实施污染物总量控制制，根据区域环境质量改善目标，削减污染物排放总量；2、新建二类、三类工业项目污染物排放水平要达到同行业国内先进水平；3、加快落实污水处理厂建设及提升改造项目，推进工符合。本项目实施后将严格实施总量控制指标；本项目属于二类工业性项目其污染物排放较少，经采取相应的措施后xxxx光电科技股份有限公司xx分公司年产 5000 万颗（件/套）智能光电子元器件项目环境影响报告表 4 业园区（工业企业）“污水零直排区”建14、设，所有企业实现雨污分流；4、加强土壤和地下水污染防治与修复。可达同行业国内先进水平；本项目废水全部纳管处理，符合“污水零直排区”建设要求；项目建设完成后将按照要求加强土壤和地下水污染防治。1、定期评估沿江河湖库工业企业、工业集聚区环境和健康风险；2、强化工业集聚区企业环境风险防范设施设备建设和正常运行监管，加强重点环境风险管控企业应急预案制定，建立常态化的企业隐患排查整治监管机制，加强风险防控体系建设。符合。本项目不属于沿江河湖库企业，本项目环境风险可控，企业将严格按照风险防控要求编制应急预案，同时做到营运期间做到重视环境风险防范措施的基础上，其风险可控。综上分析，项目符合生态空间清单管控要15、求。表表3 环境准入条件清单（相关部分内容）环境准入条件清单（相关部分内容）区域 分类 行业清单 本项目 xx市长安镇产业集聚重点管控单元（ZH33048120002）-盐仓区块 禁止准入产业 禁止新增钢铁、铸造、水泥和平板玻璃等行业产能，严格执行相关污染物排放量削减替代管理要求和产能置换实施办法。本项目不属于禁止准入行业，也不属于限制准入行业。本项目为光电子器件制造，不属于钢铁、铸造、水泥和平板玻璃等行业，也不属于医药、印染、化纤、合成革、工业涂装、包装印刷、塑料和橡胶等涉 VOCs 重污染 项 目，项 目 实 施 后 其CODcr、NH3-N 将按照 1:1进行替代削减，氮氧化物及VOCs16、 将按照 1:2 进行替代削减，颗粒物暂不实施替代削减。项目污染物排放较少，经采取相应的措施后可达同行业国内先进水平，项目建设地位于工业区内，与居住区之间有隔离带。限制准入产业 严格限制新、扩建医药、印染、化纤、合成革、工业涂装、包装印刷、塑料和橡胶等涉 VOCs 重污染项目，新建涉 VOCs 排放的工业企业全部进入工业功能区，严格执行相关污染物排放量削减替代管理要求。其他 1、合理规划布局三类工业项目，控制三类工业项目布局范围和总体规模，鼓励对现有三类工业项目进行淘汰和提升改造。2、提高电力、化工、印染、造纸、化纤等重点行业环保准入门槛，控制新增污染物排放量。3、所有改、扩建耗煤项目，严格执17、行相关新增燃煤和污染物排放减量替代管理要求，且排污强度、能效和碳排放水平必须达到国内先进水平。4、合理规划居住区与工业功能区，在居住区和工业区、工业企业之间设置防护绿地、生态绿地等隔离带。规划环评符合性分析：规划环评符合性分析：本项目位于xx市长安镇产业集聚重点管控单元（ZH33048120002），属于规划中的工业区块，且周边用地规划为工业用地，因此符合生态空间清单。本项目属于电子器件制造，为二类工业，不属于环境准入条件清单中禁止准入类和限制准入类产业，符合开发区的空间准入标准，符合生态空间清单要求，满足环境准入条件清单要求；项目不涉及规划实施中存在的环境问题及整改方案清单中的问题内容和规划18、优化调整建议清单；项目建设符合农发区污染物排放总量管控限值清单要求；项目实施后执行的标准满足环境xxxx光电科技股份有限公司xx分公司年产 5000 万颗（件/套）智能光电子元器件项目环境影响报告表 5 标准清单中的相应要求。项目实施后，废水经出租方（xx美迪凯xx半导体有限公司）现有的污水处理系统处理达标后纳入xx紫薇水务有限责任公司处理达标后排放；废气经车间内收集处理后通过25m排气筒排放。生活垃圾经厂区集中收集后，委托当地环卫部门清运；危险废物暂存于危险废物暂存间内，定期委托资质单位进行无害化处置；一般性固体废物出售进行综合利用；通过选择低噪声设备、合理布局、构筑物隔声降低生产噪声。通过19、预测分析，项目在采取适当的污染防治措施后，废水、废气、噪声均能达标排放，不会对区域环境造成明显影响。综上所述，本项目建设符合xx农业对外综合开发区总体规划调整（修改）环境影响跟踪评价报告书以及xx农业对外综合开发区总体规划调整（修改）环境影响跟踪评价报告书六张清单修订稿相关要求。2、规划环评审批意见符合性分析 本项目建设地址位于工业区块，符合生态空间清单。本项目属于电子器件制造，为二类工业，不属于环境准入条件清单中禁止准入类和限制准入类产业，符合开发区的空间准入标准，符合生态空间清单要求，满足环境准入条件清单要求；项目实施后，经采取污染防治措施后，废水、废气、噪声均能达标排放，不会对区域环境造20、成明显影响。对照关于xx农业对外综合开发区规划环境影响报告书的审查意见（浙环函2009427号），本项目的实施符合审查意见相关要求。其他符合性分析 1.3“三线一单三线一单”生态管控符合性分析生态管控符合性分析 1、生态保护红线符合性分析 项目拟建地位于xx市长安镇（高新区）新潮路15号，依据海宁市生态保护红线划定方案，项目占地及周边无自然保护区、饮用水源保护区等生态保护目标，不在生态红线保护范围内，符合生态保护红线要求。2、环境质量底线 本项目与环境质量底线符合性分析见表 4。表表4 环境质量底线符合性分析环境质量底线符合性分析 环境质量底线 项目情况 是否符合 xxxx光电科技股份有限公司21、xx分公司年产 5000 万颗（件/套）智能光电子元器件项目环境影响报告表 6 大气环境质量底线目标 以改善环境空气质量、保障人民群众人体健康为基本出发点，结合xx市大气环境治理相关工作部署，分阶段确定xx市大气环境质量底线目标：到2020年，PM2.5年均浓度达到35g/m3及以下，O3污染恶化趋势基本得到遏制，其他污染物稳定达标，空气质量优良天数比例达到90%。到2025年，环境空气质量持续改善，PM2.5年均浓度稳定达到33g/m3以下，O3浓度达到拐点，其他污染物浓度持续改善，空气质量优良天数比例稳定保持在90%以上。到2035年，PM2.5年均浓度达到25g/m3左右，O3浓度达到国22、家环境空气质量二级标准，其他污染物浓度持续改善，环境空气质量出现根本好转。项目所在地区域大气环境属于达标区。项目各废气经采取有效措施后均能达标排放，对周边环境影响较小，不会导致周边环境空气质量下降。符合 水环境质量底线目标 按照水环境质量“只能更好，不能变坏”的原则，基于水环境主导功能、上下游传输关系、水源涵养需求、需要重点改善的优先控制单元等内容，衔接水环境功能区划等既有要求，考虑水环境质量改善潜力，确定水环境质量底线。到2020年，xx市水环境质量进一步改善，在上游来水水质稳定改善的基础上，全面消除县控以上（含）V类及劣V类水质断面；xx市控以上（含）断面水质好于III类（含）的比例达到623、0%以上，水质满足功能区要求的断面比例达到60%以上。到2025年，xx市环境质量持续改善，在上游来水水质稳定改善的基础上，切实保障V类及劣V类水质断面消除成效，xx市控以上（含）断面水质好于III类（含）的比例达到85%以上，水质满足功能区要求的断面比例达到85%以上，县级以上饮用水水源地水质和跨行政区域河流交接断面水质力争实现100%达标。到2035年，xx市水环境质量总体改善，重点河流水生态系统实现良性循环，水质基本满足水环境功能要求。根据引用的现状监测结果可知，项目所在地附近的地表水水质不能达地表水环境质 量 标 准 （GB3838-2002）中的类标准，随着xx省“五水共治”行动的全24、面启动，全省各地均加大城镇基础设施改造和新建力度、扩大截污纳管范围、紧抓工业转型和农业转型，将污水治理作为首要任务完成，项目所在区域附近地表水体水环境质量将会得到一定的改善。项目废水经预处理后接入市政污水管网，不排放到附近水体，故不会对周边水体有直接影响。符合 土壤环境质量底线目标 按照土壤环境质量“只能更好、不能变坏”原则，结合xx省、xx市和xx市土壤污染防治工作方案要求，设置土壤环境风险防控底线目标，到2020年，xx市土壤污染加重趋势得到初步遏制，农用地和建设用地土壤环境安全得到基本保障，土壤环境风险得到基本管控，受污染耕地安全利用率达到92%左右，污染地块安全利用率不低于92%。到225、025年，土壤环境质量稳中向好，受污染耕地安全利用率、污染地块安全利用率均达到92%以上。到2030年，土壤环境质量明显改善，生态系统基本实现良性循环，受污染耕地安全利用率、污染地块安全用率均达到95%以上。企业生产车间、危险废物暂存场所等均按要求做好地面硬化及防渗措施。废气经收集处理后达标排放，废水经预处理达标后纳入市政污水管网送xx市盐仓污水处理厂统一处理达标后排放，危险废物放置于危险废物暂存间内，正常情况下，项目运营不会导致所在地及附近土壤环境质量下降。符合 3、资源利用上线符合性分析 本项目与资源利用上线符合性分析详见表 5。表表5 资源利用上线符合性分资源利用上线符合性分析析 资源利26、用上线 项目情况 是否符合 能源（煤炭资源利用上线）根据中共中央国务院关于全面加强生态环境保护坚决打好污染防治攻坚战的意见(中发201817号)、国务院关于印发打赢蓝天保卫战三年行动划的通知（国发201822号）、xx省人民政府关于印发xx省“十三五”节能减排综合工作方案的通知(浙政发201719号)和xx市能源发展“十三五”规划要求，确定xx市能源利用上线：到2020项 目 不 使 用 煤 炭 等 能源，同时设备耗电量不大，且不属于高能耗项目，不会突破能源利用上线。符合 xxxx光电科技股份有限公司xx分公司年产 5000 万颗（件/套）智能光电子元器件项目环境影响报告表 7 年，xx全市累27、计腾出用能空间55.5万吨标准煤以上；能源消费总量达到370万吨标准煤，天然气和煤油占能源消费比重分别达到8.6%、22.7%。水资源利用上线 根据xx省实行水资源消耗总量和强度双控行动加快推进节水型社会建设实施方案、xx市实行水资源消耗总量和强度双控行动加快推进节水型社会建设实施方案和xx市水利局关于下达2020年实行最严格水资源管理制度考核指标的通知等要求：到2020年，xx市用水总量、工业和生活用水总量分别控制在3.8422亿立方米和1.6775亿立方米以内（无地下水取水），万元GDP用水量、万元工业增加值用水量分别比2015年降低22%和16%以上（国内生产总值、工业增加值为2015年28、可比价），农田灌溉水有效利用系数提高至0.659以上。项目用水量不会突破水资源消耗上线。符合 土地资源利用上线 衔接自然资源管理部门对土地资源开发利用总量及强度的管控要求，包括基本农田保护面积、城乡建设用地规模、人均城镇工矿用地等因素，作为土地资源利用上线要求。经衔接，到2020年，xx市耕地保有量不少于47.36万亩，基本农田保护面积41.60万亩。2020年xx市建设用地总规模控制在35.70万亩以内，土地开发强度控制在28.8%以内，城乡建设用地规模控制在30.10万亩以内。到2020年，xx市人均城乡建设用地控制在220平方米，人均城镇工矿用地控制在130平方米/万元，二三产业GDP用29、地量控制在5.0平方米以内。本 项 目 不 涉 及 新 增 用地，利用出租方现有的闲置厂房进行，不会突破土地资源利用上线。符合 4、与xx市“三线一单”生态环境分区管控方案符合性分析 根据关于印发的通知（海政发202040 号），本项目位于xx市长安镇产业集聚重点管控单元（ZH33048120002）中的盐仓区块。该管控单元的管控要求及其与本项目符合性分析详见表 6，xx市环境管控单元分类详见附图6。表表6 环境管控单元分类准入清单符合性对照表环境管控单元分类准入清单符合性对照表 环境管控单元名称 管控内容 管控要求 项目符合性分析 xx市长安镇产业集聚重点管控单元（ZH3304812000230、）盐仓区块 空间布局约束 1、优化产业布局和结构，实施分区差别化的产业准入条件。2、合理规划布局三类工业项目，控制三类工业项目布局范围和总体规模，鼓励对现有三类工业项目进行淘汰和提升改造。3、禁止新增钢铁、铸造、水泥和平板玻璃等行业产能，严格执行相关污染物排放量削减替代管理要求和产能置换实施办法；提高电力、化工、印染、造纸、化纤等重点行业环保准入门槛，控制新增污染物排放量。4、严格限制新、扩建医药、印染、化纤、合成革和橡胶等涉VOCs重污染项目，新建涉VOCs排放的工业企业全部进入工业功能区，严格执行相关污染物排放量削减替代管理要求。5、所有改、扩建耗煤项目，严格执行符合。本项目属于电子器件制31、造，为二类工业项目，不属于三类工业项目；本项目不属于钢铁、铸造、水泥和平板玻璃行业、也不属于医药、印染、化纤、合成革和橡胶等涉VOC重污染项目；且本项目不属于耗煤项目；经对照xx农业对外综合开发区总体规划调整（修改）环境影响跟踪评价报告书，本项目位于工业区内，且根据企业提供不动产权证，本项目属于工业用地。根据周围环境调查可知，在居住区与工业区之间设有防护绿地等隔离带。xxxx光电科技股份有限公司xx分公司年产 5000 万颗（件/套）智能光电子元器件项目环境影响报告表 8 相关新增燃煤和污染物排放减量替代管理要求，且排污强度、能效和碳排放水平必须达到国内先进水平。6、合理规划居住区与工业功能区32、，在居住区和工业区、工业企业之间设置防护绿地、生态绿地等隔离带。污染物排放管控 1、严格实施污染物总量控制制度，根据区域环境质量改善目标，削减污染物排放总量。2、新建二类、三类工业项目污染物排放水平要达到同行业国内先进水平。3、加快落实污水处理厂建设及提升改造项目，推进工业园区（工业企业）“污水零直排区”建设，所有企业实现雨污分流。4、加强土壤和地下水污染防治与修复。符合。本项目建设后，其废水经出租方现有的污水处理设施处理后纳入市政污水管网，不直接排放，满足“污水零直排区”建设要求，且项目建设将实现雨污分流。本项目CODcr、NH3-N、VOCs 将严格按照建设项目主要污染物排放总量指标审核及33、管理 暂 行 办 法 (环 发2014197 号)实施总量控制制度。在本项目实施后，企业将加强土壤和地下水污染防治与修复。环境风险防控 1、定期评估沿江河湖库工业企业、工业集聚区环境和健康风险。2、强化工业集聚区企业环境风险防范设施设备建设和正常运行监管，加强重点环境风险管控、企业应急预案制定，建立常态化的企业隐患排查整治监管机制，加强风险防控体系建设。符合。项目所在地北侧20m处为二号直河属于新塘河支流，企业外排废水经出租方现有的污水处理设施处理达标后纳管，且本报告针对企业情况提出了相应的风险防范措施，建设单位在落实本报告所提的措施后，其环境风险在可控范围内，要求企业在后期运营过程中建立完善34、的应急体系，加强风险管控体系以及常态化的企业隐患排查整治监管机制。资源开发效率要求 推进工业集聚区生态化改造，强化企业清洁生产改造，推进节水型企业、节水型工业园区建设，落实煤炭消费减量替代要求，提高资源能源利用效率。符合。项目采用电等清洁原料，无煤炭消耗，整体而言本项目所用资源相对较小，符合资源开发效率要求。综合分析，项目建设符合xx市“三线一单”生态环境分区管控方案管控要求。1.4 建设项目环评审批原则符合性分析建设项目环评审批原则符合性分析 根据xx省建设项目环境保护管理办法（2021年修正，xx省人民政府令第388号）第三条：“建设项目应当符合生态保护红线、环境质量底线、资源利用上线和生35、态环境准入清单管控的要求；排放污染物应当符合国家、省规定的污染物排放标准和重点污染物排放总量控制要求；建设项目还应当符合国土空间规划、国家、省及地方产业政策等要求。xxxx光电科技股份有限公司xx分公司年产 5000 万颗（件/套）智能光电子元器件项目环境影响报告表 9 本项目对照xx省建设项目环境保护管理办法具体符合性分析见表7，根据分析可知，本项目建设符合生态保护红线、环境质量底线、资源利用上线和生态环境准入清单管控的要求，符合xx省建设项目环境保护管理办法要求。表表7 xx省建设项目环境保护管理办法符合性分析xx省建设项目环境保护管理办法符合性分析 序号 内容 本项目情况 是否符合 1 36、建设项目应当符合生态保护红线、环境质量底线、资源利用上线和生态环境准入清单管控的要求。1、根据xx市“三线一单”生态环境分区管控方案，本项目选址位于xx 市长安镇产业集聚重点管控单元（ZH33048120002），对照xx 市生态保护红线分布图，本项目不在生态保护红线范围内，满足生态保护红线要求。2、本项目周边水体水质不能达地表水环境质量标准（GB3838-2002）中的类标准，随着“五水共治”工作的持续推进，预计周边地表水环境质量能够得到逐步改善，并最终满足水环境功能区的要求；2020年大气环境质量达到环境空气质量标准（GB3095-2012）的二级标准。项目的实施不会导致区域环境质量等级的37、改变，不会对区域环境质量底线造成冲击影响。3、本项目用水来自市政供水管网，项目建成运行后通过内部管理、设备选择、原辅材料的选用和管理、废物回收利用、污染治理等多方面采取合理可行的防治措施，以“节约、降耗、减污”为目标，有效地控制污染。项目的用水等资源不会突破区域的资源利用上线。4、根据表6分析可知，本项目符合生态环境总体准入清单要求，项目建设符合管控单元分类准入清单要求。综合分析，本项目建设符合生态保护红线、环境 质 量 底线、资源利用上线和生态环境准入清单管控的要求。2 排放污染物应当符合国家、省规定的污染物排放标准和重点污染物排放总量控制要求。1、本项目废水、废气等污染物经治理后均可达到国38、家、省规定的污染物排放标准，各类固体废物能够得到资源化利用或无害化处置。2、本项目CODcr、NH3-N、VOCs和氮氧化物需严格实施总量控制制度，根据建设项目主要污染物排放总量指标审核及管理暂行办法(环发2014197号)及xx市生态环境局关于修订护航经济稳进提质助力企业纾困解难若干措施的通知（嘉环发20237号），本项目化学需氧量、氨氮需按照1:1进行替代削减，氮氧化物、挥发性有机物按照1:2进行替代削减，烟粉尘暂不实施总量替代削减。综合分析，项目污染物符合国家、省规定的污染物排放标准和重点污染物排放总量控制要求。3 建设项目还应当符合国土空间规划、国家和省产业政策等要求 1、本项目位于x39、x省xx市长安镇（高新区）新潮路15号，所在土地性质为工业用地，符合土地利用规划。2、企业位于xx市长安镇产业集聚重点管控单元，项目建设符合该单元管控要求，符合空间规划要求。3、本项目属于“C3976光电子器件制造”（国民经济行业分类），对照产业结构调整指导目录（2019年本）及2021年修改清单和市场准入负面清单（2022年版），本项目不属于产业政策中的限制、禁止或淘汰类，属于允许类，符合国家和地方产业政策。综合分析，项目符合国土空间规划、国家和省产业政策等要求 1.5 太湖流域管理条例符合性分析太湖流域管理条例符合性分析 项目选址于xx省xx市长安镇（高新区）新潮路15号，周边地表水主要为40、新塘河支流，新塘河属于杭嘉湖平原河网水系、太湖流域。2011年8月24日国务院第169次常务会议通过太湖流域管理条xxxx光电科技股份有限公司xx分公司年产 5000 万颗（件/套）智能光电子元器件项目环境影响报告表 10 例(中华人民共和国国务院令第604号)，本报告摘取条例相关规定进行符合性分析，具体分析结果见表8。表表8 太湖流域管理条例符合性分析太湖流域管理条例符合性分析 要求 项目实际情况 结论 禁止在太湖流域饮用水水源保护区内设置排污口、有毒有害物品仓库以及垃圾场；已经设置的，当地县级人民政府应当责令拆除或者关闭。项目不在饮用水水源保护区范围，废水纳管排放，不单独设排污口。符合 排41、污单位排放水污染物，不得超过经核定的水污染物排放总量，并应当按照规定设置便于检查、采样的规范化排污口，悬挂标志牌；不得私设暗管或者采取其他规避监管的方式排放水污染物。本项目外排废水包括生产废水和生活污水，根据建设项目主要污染物排放总量指标审核及管理暂行办法(环发2014197号)及xx市生态环境局关于修订护航经济稳进提质助力企业纾困解难若干措施的通知（嘉环发20237号），本项目生产废水需严格实施总量控制制度，且运营过程中水污染物排放量不得超过本报告核定量。本项目利用出租方现有的污水处理设施处理后达标排放，且双方已签订污水委托处置协议，并已在协议中明确双方法律责任界限，具体见附件9，经现场踏勘42、，出租方已设置了便于检查、采样的规范化排污口，并按要求悬挂标志牌。符合 禁止在太湖流域设置不符合国家产业政策和水环境综合治理要求的造纸、制革、酒精、淀粉、冶金、酿造、印染、电镀等排放水污染物的生产项目，现有的生产项目不能实现达标排放的，应当依法关闭。项目不属于条例中禁止设置的不符合国家产业政策和水环境综合治理要求的行业，本项目外排废水经处理达标后将全部纳入市政污水管网，送至污水处理厂处理达标后外排入海，尾水排放不进入太湖流域。符合 在太湖流域新设企业应当符合国家规定的清洁生产要求，现有的企业尚未达到清洁生产要求的，应当按照清洁生产规划要求进行技术改造，两省一市人民政府应当加强监督检查。企业污染43、物产生量较少，同时本项目一般性固体废物将出售进行综合利用等，危险废物将委托资质单位进行无害化处置，经核算，本项目单位产品排水量小于电子工业水污染物排放标准（GB39731-2020）中的单位产品基准排水量，因此，本项目清洁生产水平满足国家规定的清洁生产要求。符合 第二十九条新孟河、望虞河以外的其他主要入太湖河道，自河口1万米上溯至5万米河道岸线内及其岸线两侧各1000米范围内，禁止下列行为：(一)新建、扩建化工、医药生产项目；(二)新建、扩建污水集中处理设施排污口以外的排污口；(三)扩大水产养殖规模。项目不在主要入太湖河道1000米范围内，不属于条例划定的禁建范围。符合 根据上表分析可知，项目44、建设符合太湖流域管理条例。1.6 关于落实水污染防治行动计划实施区域差别化环境准入的指关于落实水污染防治行动计划实施区域差别化环境准入的指导意见符合性分析导意见符合性分析 根据（环环评2016190号），为落实水污染防治行动计划严格环境准入的任务，指导地方根据流域水质目标和主体功能区规划要xxxx光电科技股份有限公司xx分公司年产 5000 万颗（件/套）智能光电子元器件项目环境影响报告表 11 求，制定实施差别化的环境准入政策，不同区域差别化环境准入的指导意见如下（摘录相关内容）：长江三角洲地区。落实长江经济带取水口排污口和应急水源布局规划，沿江地区进一步严格石化、化工、印染、造纸等项目环境45、准入，对干流两岸一定范围内新建相关重污染项目不予环境准入，推进石化化工企业向尚有一定环境容量的沿海地区集中、绿色发展。对太湖流域新建原料化工、燃料、颜料及排放氮磷污染物的工业项目，不予环境准入；实施江、湖一体的氮、磷污染控制，防范和治理江、湖富营养化。严格沿江港口码头项目环境准入，强化环境风险防范措施。符合性分析：符合性分析：对照环环评2016190 号，项目建设符合该区域环境功能区划，污染物均采取规范、有效的防治措施。本项目为光电子器件制造，不属于港口码头项目，且项目废水经xx紫薇水务有限责任公司（xx盐仓污水处理厂）处理达标后排海，不排入太湖流域，综合分析项目建设符合关于落实实施区域差别化46、环境准入的指导意见。1.7 长江经济带发展负面清单指南（试行，长江经济带发展负面清单指南（试行，2022年版）xx省实施年版）xx省实施细则符合性分析细则符合性分析 对照长江经济带发展负面清单指南（试行，2022年版）xx省实施细则，项目符合性分析见表9。表表9 长江经济带发长江经济带发展负展负面清面清单指南（试行，单指南（试行，2022年版）xx省实施细则年版）xx省实施细则 符合性分析符合性分析 条例 要求 本项目情况 结论 第三条 港口码头项目建设必须严格遵守中华人民共和国港口法、交通运输部港口规划管理规定、港口工程建设管理规定以及xx省港口管理条例的规定。本项目属于光电子器件制造，非港47、口码头项目。符合 第四条 禁止建设不符合全国沿海港口布局规划、全国内河航道与港口布局规划、xx省沿海港口布局规划、xx省内河航运发展规划以及项目所在地港口总体规划、国土空间规划的港口码头项目。经国务院或国家发展改革委审批、核准的港口码头项目，军事和渔业港口码头项目，按照国家有关规定执行。城市休闲旅游配套码头、陆岛交通码头等涉及民生的港口码头项目，结合国土空间规划和督导交通专项规划等另行研究执行。本项目属于光电子器件制造，非港口码头项目 符合 第五条 禁止在自然保护地的岸线和河段范围内投项目建设地址位于xx省xx市符合 xxxx光电科技股份有限公司xx分公司年产 5000 万颗（件/套）智能光电48、子元器件项目环境影响报告表 12 资建设不符合xx省自然保护地建设项目准入负面清单（试行）的项目。禁止在自然保护地的岸线和河段范围内采石、采砂、采土、砍伐及其他严重改变地形地貌、破坏自然生态、影响自然景观的开发利用行为。禁止在I级林地、一级国家级公益林内建设项目。自然保护地由省林业局会同相关管理机构界定。长安镇（高新区）新潮路15号，根据不动产权证，项目所在地用地性质属于工业用地，不涉及自然保护区、森林公园、地质园、级林地、一级国家级公益林。第六条 禁止在饮用水水源一级保护区、二级保护区、准保护区的岸线和河段范围内投资建设不符合xx省饮用水源保护条例的项目。饮用水水源一级保护区、二级保护区、准49、保护区由省生态环境厅会同相关管理机构界定。项目实施地并不在饮用水源一级保护区和二级保护区的岸线和河段范围内。符合 第七条 禁止在水产种质资源保护区的岸线和河段范围内新建围湖造田、围海造地或围填海等投资建设项目。水产种质资源保护区由省农业农村厅会同相关管理机构界定。项目实施并不在水产种质资源保护区、长江流域河湖岸线保护区和保留区内。符合 第八条 在国家湿地公园的岸线和河段范围内：（一）禁止挖沙、采矿；（二）禁止任何不符合主体功能定位的投资建设项目；（三）禁止开（围）垦、填埋或者排干湿地；（四）禁止截断湿地水源；（五）禁止倾倒有毒有害物质、废弃物、垃圾；（六）禁止破坏野生动物栖息地和迁徙通道、鱼类50、洄游通道，禁止滥采滥捕野生动植物；（七）禁止引入外来物种；（八）禁止擅自放牧、捕捞、取土、取水、排污、放生；（九）禁止其他破坏湿地及其生态功能的活动。国家湿地公园由省林业局会同相关管理机构界定。项目实施地用地性质属于工业用地，并不在国家湿地公园的的岸线和河段范围内。符合 第九条 禁止违法利用、占用长江流域河湖岸线。不涉及，本项目不属于违法利用、占用长江流域河湖岸线的项目。符合 第xx 禁止在长江岸线保护和开发利用总体规划划定的岸线保护区和保留区内投资建设除事关公共安全及公众利益的防洪护岸、河道治理、供水、生态环境保护、国家重要基础设施以外的项目。项目建设地不属于长江岸线保护和开发利用总体规划划51、定的岸线保护区和保留区。符合 第十一条 禁止在全国重要江河湖泊水功能区划划定的河段及湖泊保护区、保留区内投资建设不利于水资源及自然生态保护的项目。项目建设地不在全国重要江河湖泊水功能区划划定的河段及湖泊保护区、保留区。符合 第十二条 禁止未经许可在长江支流及湖泊新设、改设或扩大排污口。不涉及，本项目产生的废水全部纳管排放，不新增排污口。符合 第十三条 禁止在长江支流、太湖等重要岸线一公里范围内新建、扩建化工园区和化工项目。不涉及，本项目建设地址位于海宁市长安镇（高新区）新潮路15号，不属于长江支流、太湖重要岸线一公里范围内。符合 第十四条 禁止在长江重要支流岸线一公里范围内新建、改建、扩建尾矿52、库、冶炼渣库和磷石膏库，以提升安全、生态环境保护水平为目的的改扩建除外。不涉及，本项目不属于尾矿库、冶炼渣库和磷石膏库建设，且项目拟建地不属于长江支流、太湖重要岸线一公里范围内。符合 第十五条 禁止在合规园区外新建、扩建钢铁、石化、化工、焦化、建材、有色、制浆造纸等高污染项目。高污染项目清单参照生态不涉及，本项目不属于环境保护综合目录中的高污染产品目录。符合 xxxx光电科技股份有限公司xx分公司年产 5000 万颗（件/套）智能光电子元器件项目环境影响报告表 13 环境部环境保护综合目录中的高污染产品目录执行。第十六条 禁止新建、扩建不符合国家石化、现代煤化工等产业布局规划的项目。不涉及，本53、项目不属于石化、煤化工项目，且项目实施过程中仅涉及电力使用。符合 第十七条 禁止新建、扩建法律法规和相关政策明令禁止的落后产能项目，对列入产业结构调整指导目录淘汰类中的落后生产工艺装备、落后产品投资项目，列入外商投资准入特别管理措施（负面清单）的外商投资项目，一律不得核准、备案。禁止向落后产能项目和严重过剩产能行业项目供应土地。本项目不属于法律法规和相关政策明令禁止的落后产能项目，不属于市场准入负面清单（2022年版）项目，不属于外商投资准入特别管理措施（负面清单）的外商投资项目，本项目不涉及新增土地。符合 第十八条 禁止新建、扩建不符合国家产能置换要求的严重过剩产能行业的项目。部门、机构禁止54、办理相关的土地（海域）供应、能评、环评审批和新增授信支援等业务。本项目属于光电子器件制造，不属于国家产能置换要求的严重过剩产能行业的项目。符合 第十九条 禁止新建、扩建不符合要求的高耗能高排放项目 不属于高耗能、高排放项目。符合 第二xx 禁止在水库和河湖等水利工程管理范围内堆放物料，倾倒土、石、矿渣、垃圾等物质。本项目不涉及在水库和河湖等水利工程管理范围内堆放物料，倾倒土、石、矿渣、垃圾等物质。符合 根据上述分析，本项目建设及其选址符合长江经济带发展负面清单指南（试行，2022年版）xx省实施细则要求。1.8 鼓励外商投资产业目录（鼓励外商投资产业目录（2022 年版）年版）符合性分析符合性55、分析 本项目为外商投资项目，经对照鼓励外商投资产业目录（2022年版），本项目产品属于鼓励外商投资产业目录（2022年版）中的全国鼓励外商投资产业目录下的（二十二）计算机、通信和其他电子设备制造业中的343.新型电子元器件制造，因此项目建设符合鼓励外商投资产业目录（2022年版）政策要求。1.9 xx省xx省“十四五十四五”挥发性有机物综合治理方案符合性分析挥发性有机物综合治理方案符合性分析 本报告节选xx省“十四五”挥发性有机物综合治理方案中与本项目相关内容，进行符合性分析，具体见表10。表表10 xx省xx省“十四五十四五”挥发性有机挥发性有机物综物综合治合治理方案符合性分析理方案符合性分56、析 序号 方案相关内容 实际情况 是否 符合 1 引导石化、化工、工业涂装、包装印刷、合成革、化纤、纺织印染等重点行业合理布局，限制高VOCs排放化工类建设项目，禁止建设生产和使用VOCs含量限值不符合国家标准的涂料、油漆、胶粘剂、清洗剂等项目。贯彻落实产业结构调整指导目录 国家鼓励的有毒有害原料（产品）替代品目录，依法律规淘汰涉VOCs排放工艺和装备，加大引导退出限制类工艺和装备力度，从源头减少涉VOCs污染物产生。本项目为电子器件制造，对照产业结构调整指导目录（2019年本）及2021年修改清单和市场准入负面清单（2022年版），本项目不属于产业政策中的限制、禁止或淘汰类，属于允许类，符合57、国家和地方产业政策，本项目使用的光刻胶，不属于胶粘剂，也无胶粘剂特性，不适用于胶粘剂挥发性有机化合物限量（GB33372-2020）要求；使用的UV油墨属于能量固化油墨，满足油墨中可挥发性机化合物（VOCs）含量的符合 xxxx光电科技股份有限公司xx分公司年产 5000 万颗（件/套）智能光电子元器件项目环境影响报告表 14 限量（GB38507-2020）要求。企业已从源头控制VOCs废气的产生。2 严格执行“三线一单”为核心的生态环境分区管控体系，制（修）订纺织印染（数码喷印）等行业绿色准入指导意见。严格执行建设项目新增VOCs排放量区域削减替代规定，削减措施原则上应优先来源于纳入排污许58、可管理的排污单位采取的治理措施，并与建设项目位于同一设区市。上一年度环境空气质量达标的区域，对石化等行业的建设项目VOCs排放量实行等量削减；上一年度环境空气质量不达标的区域，对石化等行业的建设项目VOCs排放量实行2倍量削减，直至达标后的下一年再恢复等量削减。本项目为电子器件制造，符合“三线一单”相关要求，本项目实施后，化学需氧量、氨氮需按照1:1进行替代削减，氮氧化物和VOCs按照1:2进行替代削减，烟粉尘暂不实施总量替代削减。符合 3 石化、化工等行业应采用原辅材料利用率高、废弃物产生量少的生产工艺，提升生产装备水平，采用密闭化、连续化、自动化、管道化等生产技术，鼓励工艺装置采取重力流布59、置，推广采用油品在线调和技术、密闭式循环水冷却系统等。工业涂装行业重点推进使用紧凑式涂装工艺，推广采用辊涂、静电喷涂、高压无气喷涂、空气辅助无气喷涂、热喷涂、超临界二氧化碳喷涂等技术，鼓励企业采用自动化、智能化喷涂设备替代人工喷涂，减少使用空气喷涂技术。包装印刷行业推广使用无溶剂复合、共挤出复合技术，鼓励采用水性凹印、醇水凹印、辐射固化凹印、柔版印刷、无水胶印等印刷工艺。鼓励生产工艺装备落后、在既有基础上整改困难的企业推倒重建，从车间布局、工艺装备等方面全面提升治理水平。本项目不属于石化、化工等行业，使用的生产设备较为先进，密闭性较好，同时采用的胶黏剂均属于环保型胶黏剂，且生产过程中将对车间进60、行洁净，废气经车间内收集处理后达标排放。符合 4 严格执行大气污染防治法第四十六条规定，选用粉末涂料、水性涂料、无溶剂涂料、辐射固化涂料等环境友好型涂料和符合要求的（高固体分）溶剂型涂料。工业涂装企业所使用的水性涂料、溶剂型涂料、无溶剂涂料、辐射固化涂料应符合低挥发性有机化合物含量涂料产品技术要求规定的VOCs含量限值要求，并建立台账，记录原辅材料的使用量、废弃量、去向以及VOCs含量。本项目使用的光刻胶，不属于胶粘剂中的任何一种，也无胶粘剂的特性，因而不适用于胶粘剂挥发性有机化合物限量（GB33372-2020）要求。项目印刷过程涉及到少量UV油墨使用，属于环境友好型油墨，经对照油墨中可挥发61、性有机化合物含量的限值（GB38507-2020）中的能量固化油墨限值要求，本项目实施后，企业将按照要求建立台账，记录记录原辅材料的使用量、废弃量、去向以及VOCs含量。符合 5 全面排查使用溶剂型工业涂料、油墨、胶粘剂、清洗剂等原辅材料的企业，各地应结合本地产业特点和本方案指导目录，制定低VOCs含量原辅材料源头替代实施计划，明确分行业源头替代时间表，按照“可替尽替、应代尽代”的原则，实施一批替代溶剂型原辅材料的项目。加快低VOCs含量原辅材料研发、生产和应用，在更多技术成熟领域逐渐推广使用低VOCs含量原辅材料，到2025年，溶剂型工业涂料、油墨、胶粘剂等使用量下降比例达到国家要求。本项目62、由于其工艺的特殊性，需使用UV油墨（属于能量固化油墨）和光刻胶，但其使用量较少，油墨仅为0.5t/a，光刻胶仅为0.5t/a，此外由于工艺的特殊性，因乙醇、异丙醇、丙酮等物质不含电解质，不会产生导电短路，既可以擦去油腻和沉积的灰尘，使线路板光洁如初，又因其容易挥发，在通风处晾几分钟就会干透，没有残留，使得上述物质普遍作为电子及光电子行业的必要清洗剂，具有行业普遍性，而本项目即为光电子器件制造，因此生产过程中需使用乙醇、异丙醇、丙酮等原料，建议企业在后期过程中注重研发，尽可能的降低乙醇、异丙醇、丙酮等原料的使符合 xxxx光电科技股份有限公司xx分公司年产 5000 万颗（件/套）智能光电子元器63、件项目环境影响报告表 15 用。6 在保证安全前提下，加强含VOCs物料全方位、全链条、全环节密闭管理，做好VOCs物料储存、转移和输送、设备与管线组件泄漏、敞开液面逸散以及工艺过程等无组织排放环节的管理。生产应优先采用密闭设备、在密闭空间中操作或采用全密闭集气罩收集方式，原则上应保持微负压状态，并根据相关规范合理设置通风量；采用局部集气罩的，距集气罩开口面最远处的VOCs无组织排放位置控制风速应不低于0.3米/秒。对VOCs物料储罐和污水集输、储存、处理设施开展排查，督促企业按要求开展专项治理。本项目胶粘剂使用后密封存放，并存放在原料仓库内。显影、去胶等工序均在密闭空间内进行。本项目不涉及V64、OCs物料储罐；要求企业在运营过程中做好物料储存、治理设施的定期排查工作。符合 7 按照治理设施较生产设备“先启后停”的原则提升治理设施投运率。根据处理工艺要求，在治理设施达到正常运行条件后方可启动生产设备，在生产设备停止、残留VOCs收集处理完毕后，方可停运治理设施。VOCs治理设施发生故障或检修时，对应生产设备应停止运行，待检修完毕后投入使用；因安全等因素生产设备不能停止或不能及时停止运行的，应设置废气应急处理设施或采取其他替代措施。本项目实施后将严格落实治理设施较生产设备“先启后停”的要求，定期对VOCs治理设施进行检修，同时确保VOCs治理设施发生故障或检修时，对应的生产设备将立即停止65、运行，待检修完毕后方投入使用。符合 1.10 与xx省工业企业恶臭异味管控技术指南（试行）符合性分析与xx省工业企业恶臭异味管控技术指南（试行）符合性分析 根据xx省工业企业恶臭异味管控技术指南（试行），本项目符合性分析见表11。由表11，本项目的建设符合xx省工业企业恶臭异味管控技术指南（试行）中相关要求。表表11 xx省工业企业恶臭异味管控技术指南（试行）xx省工业企业恶臭异味管控技术指南（试行）符合性分析符合性分析 序号 排查重点 防治措施 本项目 是否 符合 1 原辅料替代 采用低毒、低害、低挥发性、低异味阈值的原料进行源头替代，减少废气的产生量和废气异味污染；本项目实施过程中将严格落66、实低毒、低害、低挥发性、低异味阈值原料源头替代技术，最大限度减少废气产生量和废气异味污染。符合 2 设备或工艺革新 推广使用自动化、连续化、低消耗等环保性能较高的设备或生产工艺；本项目采用的设备自动化程度高，设备密闭性等均较高，生产工艺属于行业先进水平。符合 3 设施密闭性 加强装卸料、输运设备的密封或密闭，或收集废气经处理后排放；加强生产装置、车间的密封或密闭，或收集废气经处理后排放；存储设备（罐区）加强密封或密闭、加强检测，或收集废气经处理后排放；暂存危废参照危险化学品进行良好包装。其中液态危废采用储罐、防渗的密闭地槽或外观整洁良好的密闭包装桶等，固态危废采用内衬塑料薄膜袋的编织袋密闭包装67、，半固态危废综合考虑其性状进行合理包装；污水处理站产生恶臭气体的区域加罩或加盖，投放除臭剂，收集恶臭气体到除臭装置处理后经排气筒排放；本项目气体原辅材料消耗采用管道输送，采用的废气也将通过管道收集，最大限度降低了无组织排放，废气经收集处理后达标排放；危险化学品按照危险化学品贮存要求做好相应的防腐防渗、防漏监措施，本报告要求要求企业在后期运行过程中，严格落实上述措施。符合 4 废气处理 实现废气“分质分类”、“应收尽收”，治 本项目各工序产生的有机废 符合 xxxx光电科技股份有限公司xx分公司年产 5000 万颗（件/套）智能光电子元器件项目环境影响报告表 16 能力 理设施运行与生产设备“同68、启同停”，分类配套燃烧、生物处理、氧化吸收或其他高效废气处理设施进行治理，确保废气稳定达标排放；气、酸雾等均进行收集处理，收集后的废气经碱喷淋+除湿+光催化氧化+活性炭（二级）吸附处理后通过25m排气筒排放；喷砂粉尘经自带除尘设施处理后通过25m排气筒高空排放，在上述基础上，可确保废气稳定达标排放。5 环境管理 措施 根据实际情况优先采用污染预防技术，并 采 用 适 合 的 末 端 治 理 技 术。按 照HJ944的要求建立台账，记录含VOCs原辅材料的名称、采购量、使用量、回收量、废弃量、去向、VOCs含量，污染治理设施的工艺流程、设计参数、投运时间、启停时间、温度、风量，过滤材料更换时间和69、更换量，药剂添加量、添加时间、喷淋液pH值，吸附剂脱附周期、更换时间和更换量，催化剂更换时间和更换量等信息。台账保存期限不少于三年。本项目实施后按要求落实环境管理制度，建立相关环保设施运维台账。符合 1.11 xx市大运河核心监控区国土空间管控细则xx市大运河核心监控区国土空间管控细则符合性分析符合性分析 为贯彻落实大运河文化保护传承利用规划纲要、xx省大运河文化保护传承利用实施规划、xx省大运河核心监控区国土空间管控通则等精神，加强大运河核心监控区国土空间用途、空间形态和景观风貌管控，打造彰显运河古韵的文化活力传承带、展现现代治理的生态文明展示带、弘扬中华文明的运河旅游休闲带、重现千年古道的70、航运发展示范带、承接国家战略的沿河开放利用带，xx市人民政府特制定了xx市人民政府办公室关于印发xx市大运河核心监控区国土空间管控细则的通知（嘉政办发202237号）。根据大运河文化保护传承利用规划纲要、xx省大运河文化保护传承利用实施规划、xx省大运河核心监控区国土空间管控通则等文件要求，xx市大运河核心监控区（包括拓展河道监控区）内国土空间用途、空间形态和景观风貌管控以及国土空间规划编制、实施和监管均应遵循。京杭大运河（xx段）包含世界文化遗产河道和拓展河道，共127.9公里。其中世界文化遗产河道包括苏州塘、xx环城河、xx塘、崇长港、上塘河，长度110公里；拓展河道（澜溪塘）长度17.971、公里。京杭大运河（xx段）世界文化遗产河道两岸起始线至同岸终止线距离2000米内的范围、拓展河道（澜溪塘）两岸起始线至同岸终止线距离1000米内的范围划定为核心监控区，面积约385平方公里。xxxx光电科技股份有限公司xx分公司年产 5000 万颗（件/套）智能光电子元器件项目环境影响报告表 17 其他符合性分析 本项目位于xx市长安镇（高新区）新潮路15号，与岸线的距离约为8.7km2km，不在核心监控区范围内，因此可不开展xx省大运河核心监控区建设项目准入负面清单（试行）符合性分析。1.12 电器及元件制电器及元件制造造业挥发性有机物污染整治规范符合性分析业挥发性有机物污染整治规范符合性分72、析 项目属于 C3976 光电子器件制造，根据关于转发等 12 个行业 VOCs污染整治规范的通知（浙环办函201656 号），电器及元件行业参照温州市电器及元件制造业挥发性有机物污染整治规范，其符合性分析见表 12。表表12 温州市温州市电器及电器及元件制造业挥元件制造业挥发性有机物污染整治规范符合性发性有机物污染整治规范符合性分析分析 序号 规范要求 本项目情况 是否符合 1 源头控制 禁止使用含苯溶剂；环保型涂料使用比例达到50%以上；所有有机溶剂及低沸点物料采取密闭式存储。本项目不涉及含苯溶剂，其采用的UV油墨属于环保型油墨。由于其工艺特殊性，采用了丙酮、异丙醇等原料，且说所有溶剂及低73、沸点物料采取密闭式存。符合 2 废气收集 调漆、喷烤漆处理过程必须在封闭或半密闭空间中进行，配备废气收集设施；所有盛装溶剂的容器在调配、转用和投料过程保持密闭；收集系统能与生产设备自动同步启动，控制目标区域处于负压状态；安全、安装等其他废气收集要求满足涂装作业安全规程的要求；废气集和输送管路与其他管线设置较为明显的颜色区分及走向。不涉及喷漆等工序，其余工序产生的废气设有相应治理措施，且该措施满足重点行业挥发性有机物综合治理方案、xx省挥发性有机物污染防治可行技术指南 电子工业。符合 3 废气处理 产生挥发性有机物的环节配套建设收集处理装置，经净化后达到大气污染物综合排放标准(GB16297-174、996）排放限值及环评要求；污染治理过程产生的危险废物委托有资质单位进行无害化处理；其他通风、净化设施安装要求满足涂装作业安全规程-有机废气净化装置安全技术规定（GB20101-2006)。符合 4 内部管理 制定环保设施运行管理制度（包含应急措施）、定期保养制度、环保考核奖励制度、监测制度等。要求企业后期运营过程中，做好相应的环保设施运行管理制度（包含应急措施）、定期保养制度、环保考核奖励制度、监测制度等。符合 5 日常监测 企业制定长期监测计划，每年废气排放口监测、厂界无组织监测不少于两次，监测指标须包含行业主要特征污染物和TVOCs指标。本报告提出了相应的自行监测要求，建议企业按照本报告75、要求做好相应的自行监测计划。符合 6 档案管理 建立台帐。包括废气监测台帐、废气处理设施运行台帐、有机溶剂物料的消耗台帐、废气处理耗材（活性炭、催化剂）更换台账 企业在后期运营过程中将按照相应要求做好台账管理。符合 经分析，本项目建设符合温州市电器及元件制造业挥发性有机物污染整治规范相关要求。xxxx光电科技股份有限公司xx分公司年产 5000 万颗（件/套）智能光电子元器件项目环境影响报告表 18 1.13 与与xx省xx省臭氧污染防治攻坚三年行动臭氧污染防治攻坚三年行动方案方案符合性分析符合性分析 省美丽xx建设领导小组办公室印发了xx省臭氧污染防治攻坚三年行动方案（浙美丽办202226号76、），本项目与浙江省臭氧污染防治攻坚三年行动方案（节选）符合性分析详见表13。表表13 xx省臭氧污染防治攻坚三年行动方案xx省臭氧污染防治攻坚三年行动方案（节选节选）符合性分析符合性分析 序号 攻坚重点 措施 本项目建设要求及符合性 1 低效治理设施改造升级相关要求 对于采用低效VOCs治理设施的企业，应对照xx省重点行业挥发性有机物污染防治技术指南排查废气处理技术是否符合指南要求，不符合要求的应按照指南和相关标准规范要求实施升级改造。典型的除臭情形主要包括：废水站废气处理（高浓度有机废水调节池除外），橡胶制品企业生产废气处理（溶剂浸胶除外），废塑料造粒、加工成型废气处理，使用ABS及其他有异77、味塑料原料的加工成型废气处理，使用UV涂料、含不饱和键且异味明显VOCs成分（如低浓度的苯乙烯）的涂料等涂装废气处理，低浓度沥青烟气的除臭单元，生物发酵、农副食品加工、垃圾中转站恶臭异味处理等。采用吸附技术的企业，应按照吸附法工业有机废气治理工程技术规范（HJ2026-2013）、xx省分散吸附 集中再生活性炭法挥发性有机物治理体系建设技术指南（试行）进行设计、建设与运行管理。颗粒状吸附剂的气体流速不超过0.6米/秒，纤维状吸附剂的气体流速不超过0.15米/秒，废气在吸附层中的停留时间一般不低于0.75秒。有机聚合物加工或其他生产工序的进口VOCs浓度很低时可适当降低相关参数要求。采用活性炭作78、为吸附剂的企业，宜选用颗粒状活性炭。颗粒状活性炭的碘值不宜低于800mg/g。活性炭分散吸附技术一般适用于VOCs产生量不大的企业，活性炭的动态吸附容量宜按10-15%计算。采用单一或组合燃烧技术的企业，催化燃烧装置应按照催化燃烧法工业有机废气治理工程技术规范（HJ2027-2013）进行设计、建设与运行管理，蓄热燃烧装置应按照蓄热燃烧法工业有机废气治理工程技术规范（HJ1093-2020）进行设计、建设与运行管理。相关温度、开关参数应自动记录存储，保存时间不少于5年。新建、改建和扩建涉VOCs项目不使用低温等离子、光氧化、光催化等低效治理设施（恶臭异味治理除外）。本项目废气治理措施采用碱喷淋79、+除湿+UV光氧化+活性炭（二级）吸附，其中UV光氧化专门用于去除项目生产过程中的恶臭和异味，乙醇、丙酮等水溶性物质采用碱喷淋处理，VOC则由活性炭吸附处理，经对照，本项目采取的废气及恶臭治理措施符合xx省挥发性有机物污染防治可行技术指南 电子工业和xx省工业企业恶臭异味管控技术指南（试行）要求；本报告要求企业在后期运行过程中严格采用颗粒状活性炭吸附，其颗粒状活性炭的碘值不低于800mg/g。在上述基础上，其废气治理满足治理措施要求，不属于低效治理措施。2 源头替代相关要求 到2025年，溶剂型工业涂料、油墨使用比例分别降低20个百分点、10个百分点，溶剂型胶粘剂使用量降低20%。到2025年80、底，涉及使用溶剂型工业涂料的汽车整车、工程机械整机、汽车零部件、木质家具、钢结构、船舶制造，涉及使用溶剂型油墨的吸收性承印物凹版印刷，以及涉及使用溶剂型胶粘剂的软包装复合、纺织品复合、家具胶粘等10个重点行业，原则上实现溶剂型工业涂料、油墨和胶粘剂“应替尽替”。本项目使用的油墨属于为能量固化油墨，属于环保型油墨，企业已从源头上替代了溶剂型油墨，降低VOC产生量，满足相应环保要求。3 VOCs无组织优先采用密闭设备、在密闭空间中操作或采用全密闭集气罩收集废气的方式，并保持微 本项目在密闭空间内实施生产且采用密闭设备，xxxx光电科技股份有限公司xx分公司年产 5000 万颗（件/套）智能光电子元81、器件项目环境影响报告表 19 排放控制相关要求 负压运行。密闭空间或全密闭集气罩常开开口面（进出通道、窗户、补风口等）的控制风速参照印刷工业污染防治可行技术指南（HJ1089-2020）附录D执行，即与车间外大气连通的开口面控制风速不小于1.2米/秒；其他开口面控制风速不小于0.4米/秒。当密闭空间或全密闭集气罩内需要补送新风时，净抽风量应满足控制风速要求，否则应在外层设置双层整体密闭收集空间，收集后进行处理。开放环境中采用局部集气罩方式收集废气的企业，距废气收集系统排风罩开口面最远处的VOCs无组织排放位置控制风速不低于0.3米/秒。根据行业排放标准和挥发性有机物无组织排放控制标准（GB3782、822-2019）要求，做好工艺过程和公用工程的VOCs无组织排放控制。完善非正常工况VOCs管控，不得进行敞开式退料、清洗、吹扫等作业。火炬燃烧装置原则上只用于应急处置，应安装温度、废气流量、助燃气体流量等监控装置，并逐步安装热值检测仪。废气通过管道收集，最大限度降低了无组织排放，项目实施过程中将确保密闭空间与车间外大气连通的开口面控制风速不小于1.2米/秒，其他开口面控制风速不小于0.4米/秒，密闭空间补送新风时，净抽风量应满足控制风速要求。后期运行过程中将完善非正常工况VOCs管控，清洗、吹扫等作业也均在密闭空间内进行，且废气经处理后排放。本报告要求要求企业在后期运行过程中，严格落实上述83、措施。4 数字化监管相关要求 完善无组织排放控制的数字化监管。针对采用密闭空间、全密闭集气罩收集废气的企业，建议现场安装视频监控，有条件的在开口面安装开关监控、微负压传感器等装置，确保实现微负压收集。安装废气治理设施用电监管模块，采集末端治理设施的用电设备运行电流、开关等信号，用以判断监控末端治理设施是否正常开启、是否规范运行。可结合工作需要采集仪器仪表的必要运行参数。活性炭分散吸附设施应配套安装运行状态监控装置，通过计算累计运行时间，对照排污许可证或其他许可、设计文件确定的更换周期，提前预警活性炭失效情况。活性炭分散吸附设施排放口应设置规范化标识，便于监督管理人员及时掌握活性炭使用情况。本项84、目属于密闭空间集气，建议企业加强无组织排放控制的数字化监管。建议有条件的再现场安装视频监控，在开口面安装开关监控、微负压传感器等装置；同时活性炭吸附装置配套安装运行状态监控装置，性炭分散吸附设施排放口应设置规范化标识便于监督管理人员及时掌握活性炭使用情况。在落实上述基础上，满足数字化监管要求。企业后期运行过程中将严格落实xx省臭氧污染防治攻坚三年行动方案。1.14“四性五不批四性五不批”符合性分析符合性分析 根据建设项目环境保护管理条例（国务院令2017第682号）第九条、第十一条，本报告需对建设项目“四性五不批”进行分析，其具体符合性分析详见表14。经分析可知，项目建设项目符合建设项目环境保85、护管理条例“四性五不批”要求。表表14 “四性五不批四性五不批”符合性分析符合性分析 建设项目环境保护管理条例 本项目情况 符合性分析结论 四性 建设项目的环境可行性 本项目为二类工业项目，报告已对项目建设对大气、水、声以及生态环境等环境影响进行分析和评价，根据分析结论可知，项目建设和运营过程对环境存在一定影响，但通过实施本报告提出的各项环保设施后，其影响在可接受范围内。因此，本项目建设环境具备可行性。符合 环境影响分析预测评估的可靠性 本项目采用生态环境部颁布的环境影响评价技术导则推荐模式和方法进行环境影响预测和分析，使用技术和方法均较为成熟，环境影响分析预测评估方法及其结论可靠。符合 xx86、xx光电科技股份有限公司xx分公司年产 5000 万颗（件/套）智能光电子元器件项目环境影响报告表 20 环境保护措施的有效性 本项目产生污染物均有较为成熟的技术进行处理，因此只要切实落实本报告提出的污染防治措施，本项目废气、废水、噪声可做到达标排放，固体废物可实现零排放。符 环境影响评价结论的科学性 本报告结论客观、过程公开、评价公正，并综合考虑建设项目实施后不同时期的各环境因素可能造成的影响，环评结论是科学的。符合 五不批 建设项目类型及其选址、布局、规模等不符合环境保护法律和相关法定规划 本项目建设符合国土空间规划、国家和省、地方产业政策等要求，符合xx市“三线一单”生态环境分区管控要求87、，项目营运过程中各类污染源均能得到有效控制，并做到达标排放，符合清洁生产、总量控制和达标排放原则，环境影响不大。不属于不予批准的情形 所在区域环境质量未达到国家或者地方环境质量标准，且建设项目拟采取的措施的不能满足区域环境质量改善目标管理要求 本项目所在地环境空气质量（属于达标区）、声环境质量现状较好。项目所在地周边地表水环境达不到地表水环境质量标准（GB3838-2002）中的类标准；随着“五水共治”工作的持续推进，预计周边地表水环境质量能够得到逐步改善，并最终满足水环境功能区的要求。项目废水经处理达标后排入xx盐仓污水处理厂，不排入周围水环境，不会对周边水环境质量造成冲击。项目噪声经采取隔88、声、降噪措施后，能达标排放；固体废物可做到无害化处置。根据预测分析，本项目经采取相应的防治措施后，对环境影响在可接受范围内；项目拟采取的措施满足区域环境质量改善目标管理求。不属于不予批准的情形 建设项目采取的污染防治措施无法确保污染物排放达到国家和地方排放标准，或者未采取必要措施预防和控制生态破坏 项目营运过程中各类污染源均可得到有效控制并能做到达标排放，符合审批要求。本报告提出了相应的污染防治措施，建设单位在落实污染防治措施后，不会降低周围环境质量等级。不属于不予批准的情形 改建、扩建和技术改造项目、未针对原有环境污染和生态破坏提出有效治理措施 本项目建设性质为新建，不存在原有环境污染和生态89、破坏问题。不属于不予批准的情形 设项目的环境影响报告书、环境影响报告表的基础资料数据明显不实，内容存在重大缺失、遗漏，或者环境影响评价结论不明确、不合理 本项目基于建设单位提供的相关资料，按照现行导则、技术指南编制，环境影响评价结论明确、合理，不存在重大缺失或遗漏，符合审批要求。不属于不予批准的情形 xxxx光电科技股份有限公司xx分公司年产 5000 万颗（件/套）智能光电子元器件项目环境影响报告表 21 二、二、建设项目工程分析建设项目工程分析 建设内容 2.1 项目项目由来由来 xxxx光电科技股份有限公司xx分公司位于xx省xx市长安镇（高新区）新潮路15号，系由xxxx光电科技股份有90、限公司设立的分公司。经营范围包括一般项目：技术服务、技术开发、技术咨询、技术交流、技术转让、技术推广；xx仪器制造；电子元器件制造；货物进出口；技术进出口(除依法须经批准的项目外，凭营业执照依法自主开展经营活动)。(在总公司经营范围内从事经营活动)。xx股份公司生产的智能光电子元器件广泛应用于智能手机、安防监控、数码相机、智能家居、智能汽车、机器镜头、工业相机、无人机、AR/MR等领域，伴随双摄像头乃至多摄像头、人脸识别、屏下指纹识别等技术快速发展，智能光电子元器件市场面临着广阔的市场发展空间。随之光电子元气件行业不断更新迭代，新技术、新工艺对生产环境要求越来越高，为了迎合市场需求增长和应用领91、域的延伸及拓展，公司有必要加大新产品的投入力度，扩大新产品的生产能力，满足客户工艺改进和技术升级的需求。因此拟在xx市设立子公司（xxxx光电科技股份有限公司xx分公司）用于新产品的生产。基于上述缘由，xxxx光电科技股份有限公司xx分公司拟投资1562.5万美元（折约10000万元人民币），租用xxxxxx半导体有限公司（曾用名：浙江嘉美光电科技有限公司）空余厂房，搬迁xxxx光电科技股份有限公司（杭州xx光电科技股份有限公司成立于2010年，位于xx经济技术开发区20号大街578号，与本项目不属于同一行政区）光刻机、匀胶显影设备、刻蚀设备、PVD装置、激光切割设备、晶圆切割机、镜面研磨机、92、精雕机、xx检测机、套刻精度测量设备、原子力显微镜、激光椭偏仪等设备，同时新增匀胶显影机等设备，最终形成年产5000万颗（件/套）智能光电子元器件的生产能力。该项目已于2022年4月获得xx市经济和信息化局出具的xx省工业企业“零土地”技术改造项目备案通知书。根据中华人民共和xx境影响评价法、建设项目环境保护管理条例（国务院682号令）等法律法规的有关规定，应对建设项目进行环境影响评价。根据国民经济行业分类(GB/T4754-2017)，xxxx光电科技股份有限公司xx分公司年产5000万颗（件/套）智能光电子元器件项目对应的行业类别为“C3976光电子器件制造”。对照建设项目环境影响评价分类93、管理名录（2021年xxxx光电科技股份有限公司xx分公司年产 5000 万颗（件/套）智能光电子元器件项目环境影响报告表 22 本），项目对应“三十六、计算机、通信和其他电子设备制造业39-电子器件制造397”需要编制环境影响报告表。根据xx市人民政府办公室关于印发xx市全面推行“区域环评+环境标准”改革实施方案的通知（海政办发2017181号），xx农业对外综合开发区已 列入“区域环评+环境标准”改革实施方案区域。对照xx农业对外综合开发区“区域环评+环境标准”改革实施方案（试行），本项目涉及新增重点污染物排放，列入了建设项目环评审批负面清单内，需依法实行环评审批，不得简化。为此，xxxx94、光电科技股份有限公司xx分公司委托中xx工集团杭州研究院有限公司（以下简称“我公司”）进行该项目环境影响评价，我公司在现场踏勘、资料收集基础上，根据国家法律法规、地方法律法规以及建设项目环境影响报告表编制技术指南（污染影响类）（试行）等文件编制了xxxx光电科技股份有限公司xx分公司年产5000万颗（件/套）智能光电子元器件项目环境影响报告表。2.2 项目概况项目概况 项目名称：xxxx光电科技股份有限公司xx分公司年产5000万颗（件/套）智能光电子元器件项目 建设单位：xx美迪凯光电科技股份有限公司xx分公司 项目性质：新建 建设地点：xx省xx市长安镇（高新区）新潮路15号3号厂房 建设95、内容：企业租赁xxxxxx半导体有限公司3幢3层空余厂房，总投资1562.5万美元（折约10000万元人民币），搬迁原xxxx光电科技股份有限公司光刻机、匀胶显影设备、刻蚀设备、PVD装置、激光切割设备、晶圆切割机、镜面研磨机、精雕机、xx检测机、套刻精度测量设备、原子力显微镜、激光椭偏仪等设备，同时新增匀胶显影机等设备，形成年产5000万颗（件/套）智能光电子元器件的生产能力。投资总额：1562.5万美元（折约10000万元人民币），其中环保投资215万元，占总投资的2.15%。劳动定员：100人 工作制度：年工作300天，实行三班制，单班工作时间为8小时，本项目不单独设置食堂和宿舍，全部依96、托出租方现有。2.3 项目主要组成项目主要组成 xxxx光电科技股份有限公司xx分公司年产 5000 万颗（件/套）智能光电子元器件项目环境影响报告表 23 本项目主要由主体工程、公用工程、环保工程、辅助工程等组成。具体组成汇总如表15所示。表表15 项目基本组成项目基本组成 类别 工程概况 主体工程 生产 车间 本项目实施地位于xx市长安镇（高新区）新潮路15 号，租用xxxxxx半导体有限公司的 1 号厂房 1 楼以及 3 号厂房 2 楼和 4 楼区域作为生产区域，主要设有无尘车间（除包装工序外，其余均在无尘车间内完成）、清洗间、纯水制备间，并配以成品堆放区、原料堆放区。储运工程 原料仓库97、 玻璃等原料主要设置在办公区边上的原料仓库内，光刻胶、显影液、剥离液、抛光液以及无水乙醇、丙酮等化学品原料贮存于化学品库内，氮气依赖出租方现有的大宗气站，由大宗气体输送设备输送至气柜间纯化处理后，再由气柜间输送至各生产设备。氯化氢、氯气、溴化氢、三氯化硼、六氟化硫、六氟乙烷、三氟甲烷、二氟甲烷、四氟化碳、氟甲烷等气体通过钢瓶运输至厂区内自建的特气房，本项目设有 2 个特气房，占地面积分别约为 15m2，具体位置详见附图 4-1。特气房内的气体通过管道输送至气柜间纯化处理后，再由气柜间输送至各生产设备。其余气体（如氧气、氩气、氦气等惰性气体）通过瓶装后贮存于气体仓库内（依托出租方现有）。产品仓库98、 成品仓库主要设置 3#厂房 4 楼的东侧区域，位于电气间和喷砂区域之间。一般性固体废物暂存区 位于 3#厂房 2 楼辅助设施区域南侧，占地面积约为 50m2，具体位置见总平布置图。危险废物 暂存场所 依托出租方现有已建的危险废物暂存间（216m2），在现有的危险废物暂存间中隔出 30m2，作为本项目危险废物暂存间，并按照要求做好标识标牌以及分隔措施，危险废物暂存间具体位置见附图 4-1。气体贮存 本项目设有特气房，氯化氢、氯气、溴化氢、三氯化硼、六氟化硫、六氟乙烷、三氟甲烷、二氟甲烷、四氟化碳、氟甲烷等气体通过钢瓶运输至厂区特气房内暂存，通过管道输送至各个用气场所。氮气贮存依托出租方现有的大99、宗气站，氧气、氩气、氦气、氢气、氖气、氙气等气体依托于出租方现有的气体仓库。具体位置详见附图 4-1。辅助工程 会议室、办公室 位于 3 号厂房 3 楼东南侧，会议室、办公室等辅助工程以及食堂和宿舍均依托出租方现有。公用工程 供水系统 依托出租方现有，由长安镇（高新区）自来水公司供给，通过现有的管道接入，本项目将新增生活用水 3000t/a，新增生产用水 45095t/a。纯水制备 项目设置 3 套 5t/h 的纯水制备系统，采用反渗透膜法制备纯水，供生产过程使用。纯水产水率为 70%。供电系统 依托出租方现有，由长安镇（高新区）供电公司供电，项目利用出租方现有 1 台 SCB13-2500/100、10 型变压器，全厂预计用电量为 150 万 kWh。排水系统 依托出租方现有，企业雨污分流，依托现有市政雨污水管网。雨水经雨水管道收集后排入厂外市政雨水管网。生产废水利用出租方现有的污水处理设施，采用“中和、混凝+沉淀+水解酸化+接触氧化”处理达标与经化粪池预处理的生活污水一起达标纳管，送至xx紫薇水务有限责任公司处理达城镇污水处理厂污染物排放标准（GB18918-2002）一级 A标准后外排。车间 洁净度 本项目生产车间（除特气房、喷砂室、走道和更衣室外）均为无尘室，车间洁净区分为 100级、1000 级、10000 级和 100000 级四个等级。空气由空调箱经风管及无尘室内空气过滤器进101、入无尘室，并由无尘室高架地板回风。为保证无尘室的洁净度，无尘室正压保持在 1015pa来防止外界的灰尘进入。无尘室的正压控制在空调箱出风口装设静压传感器，当静压偏低时，风机加载，静压过高时，风机减载。通风系统 对生产过程中产生的废气，设计局部排风系统。存放或使用易燃易爆、有腐蚀性或有毒物质的工作间设有事故排风。本项目在化学品库房及特气房设置事故排放系统，在报警系统检测到泄漏气体后启动排风，事故废气经事故排气筒排放。卫生间、更衣室等设计全室排风，通过风道排至大气。配电室、泵房和空压站等，均设有自然或机械通风装置，将室内余热和废气迅速排至室外。排除易燃易爆气体的排风系统为防爆系统，采用防爆风机；排102、除腐蚀性气体的排风系统为防腐系统，采用防腐风机。环保工程 废水处理 生产废水利用出租方现有的污水处理设施，采用“中和、混凝+沉淀+水解酸化+接触氧化”处理达标与经化粪池预处理的生活污水一起达标纳管，送至xx紫薇水务有限责任公司处理达城镇污水处理厂污染物排放标准（GB18918-2002）一级 A标准后外排。废气处理 本项目实施后将新增 4 根排气筒，厂区内设有 3 套废气处理装置，印刷工序产生的废气经活性炭吸附处理后通过 25m 排气筒排放（DA004），光刻、去胶、显影等工序产生的有机废xxxx光电科技股份有限公司xx分公司年产 5000 万颗（件/套）智能光电子元器件项目环境影响报告表 2103、4 气、酸雾经收集后通过碱喷淋+除湿+光催化氧化+活性炭（二级）吸附处理后通过 25m 排气筒排放（DA001 和 DA002）；喷砂粉尘经自带除尘设施处理后通过 25m 排气筒高空排放（DA003）。固体废物 一般性固体废物主要为边角料以及次品等，暂存于一般性固体废物暂存场所内，出售给物资回收公司进行综合利用；危险废物包括废UV灯管、化学试剂包装桶等，暂存于南侧危险废物暂存间（本项目危险废物暂存车间面积为30m2），定期委托资质单位进行无害化处置。生活垃圾经厂区集中收集后，由环卫部门定期清运。噪声 主要采取墙体隔声降噪，生产时关闭门窗，为高噪声设备加装减振垫等。防渗措施 做好分区防渗措施，危104、险废物暂存间、危化品仓库以及污水处理间需做好一般处理，原料仓库、一般固体废物暂存间、生产车间等除一般防渗外的其他区域全部做好简单防渗。依托工程 危险废物暂存间 依托出租方现有已建的危险废物暂存间（216m2），在现有的危险废物暂存间中隔出 30m2，作为本项目危险废物暂存间，并按照要求做好标识标牌以及分隔措施。供水系统 出租方全厂区内已整体铺设供水管道，因此，本项目将直接利用出租方现有的供水系统 原料仓库 氮气贮存依托出租方现有的大宗气站，氧气、氩气、氦气、氢气、氖气、氙气等气体依托于出租方现有的气体仓库，具体位置详见附图 4-1。供电系统 出租方全厂区内已整体铺设电线，因此本项目将直接利用现105、有的供电系统。排水系统 生产废水经收集后进入出租方现有的污水处理设施（污水处理站设计规模为 60t/h）经“中和、混凝+沉淀+水解酸化+接触氧化”处理达标与经化粪池预处理的生活污水一起达标纳管，送至xx紫薇水务有限责任公司处理达城市污水处理厂水染物排放标准（GB18918-2002）一级 A标准后外排。会议室、办公室 位于 3 号厂房 3 楼东南侧，会议室、办公室等辅助工程以及食堂和宿舍均依托出租方现有。企业之间关系简介企业之间关系简介:xxxx光电科技股份有限公司xx分公司(本项目企业)成立于 2021 年，由xxxx光电科技股份有限公司实际控股。xxxxxx半导体有限公司(出租方)成立于 106、2018 年，由xxxx光电科技股份有限公司全资占比 100%控股。xxxx光电科技股份有限公司xx分公司和xxxx光学半导体有限公司实际均由xxxx光电科技股份有限公司控股。2.4 项目产品项目产品方案方案 本项目产品为智能光电子元器件 5000 万颗（件/套），具体产品规模见表 16。表表16 项目产品方案一览表项目产品方案一览表 产品名称产品名称 产品小类产品小类 生产产能生产产能 应用领域应用领域 智能光电元器件 生物识别xx光电子元器件 1500 万颗/年 生物识别 半导体零部件 2000 万件/年 半导体 成像xx部品及组件 1500 万件/年 影像xx 合计 5000 万颗（件/107、套）2.5 项目主要原辅项目主要原辅材料消耗清单材料消耗清单 项目原辅材料消耗情况企业所需原辅材料见表 17。表表17 企业主要原辅材料表企业主要原辅材料表 序号 原辅材料名称 包装规格 年消耗量 最大暂存量 储存位置 物料性状 备注 1 玻璃 50 片/箱 50000 片/年 50 箱 原料仓库 固体 原料 2 水晶 9 块/箱 100000 块/年 100 箱 原料仓库 固体 3 硅晶圆 25 片/盒 60000 片/年 200 盒 原料仓库 固体 4 钼酸锂、铌酸锂 等晶圆 25 片/CST 100000 片/年 100CST 原料仓库 固体 xxxx光电科技股份有限公司xx分公司年产 108、5000 万颗（件/套）智能光电子元器件项目环境影响报告表 25 5 光刻胶 1 加仑/瓶 0.5 吨/年 0.05 吨 光刻胶库 液体 涂胶 显影 6 稀释剂（RZQ-3070）1 加仑/瓶 3 吨/年 0.3 吨 化学品库 液体 7 增粘剂 1L/瓶 0.5 吨/年 0.1 吨 化学品库 液体 8 聚酰亚胺原液 1 加仑/瓶 0.2 吨/年 0.05 吨 化学品库 液体 9 显影液 20L/桶 0.5 吨/年 0.2 吨 化学品库 液体 10 BOE刻蚀液 20L/桶 300L/年 80L 化学品库 液体 湿法 刻蚀 11 60%硝酸 200L/桶 1.5 吨/年 0.5 吨 化学品库 液109、体 12 40%氢氟酸 200L/桶 2.5 吨/年 0.25 吨 化学品库 液体 13 85%磷酸 200L/桶 0.1 吨/年 0.5 吨 化学品库 液体 14 5%醋酸 200L/桶 0.1 吨/年 0.1 吨 化学品库 液体 15 20%双氧水 20L/桶 2000L/年 1000L 原料仓库 液体 16 98%硫酸 200L/桶 1.0 吨/年 0.5 吨 化学品库 液体 17 60%硝酸 200L/桶 0.5 吨/年 0.5 吨 化学品库 液体 酸洗 18 40%氢氟酸 200L/桶 0.5 吨/年 0.25 吨 化学品库 液体 19 98%硫酸 200L/桶 0.5 吨/年 0.110、5 吨 化学品库 液体 20 31%盐酸 200L/桶 3 吨/年 0.5 吨 化学品库 液体 21 氯化氢 47L 钢瓶 1 瓶/年（25kg/瓶）1 瓶 特气房 气体 干法 刻蚀 22 氯气 47L 钢瓶 1 瓶/年（25kg/瓶）1 瓶 特气房 气体 23 溴化氢 47L 钢瓶 1 瓶/年（50kg/瓶）1 瓶 特气房 气体 24 三氯化硼 47L 钢瓶 1 瓶/年（50kg/瓶）1 瓶 特气房 气体 25 六氟化硫 47L 钢瓶 1 瓶/年（50kg/瓶）1 瓶 特气房 气体 26 八氟环丁烷 47L 钢瓶 1 瓶/年（50kg/瓶）1 瓶 特气房 气体 27 六氟乙烷 47L 钢瓶 111、1 瓶/年（50kg/瓶）1 瓶 特气房 气体 28 三氟甲烷 47L 钢瓶 20 瓶/年（50kg/瓶）6 瓶 特气房 气体 29 二氟甲烷 47L 钢瓶 1 瓶/年（50kg/瓶）1 瓶 特气房 气体 30 氟甲烷 47L 钢瓶 1 瓶/年（50kg/瓶）1 瓶 特气房 气体 31 氙气 47L 钢瓶 1 瓶/年（50kg/瓶）1 瓶 气体仓库 气体 32 氖气 47L 钢瓶 1 瓶/年（50kg/瓶）1 瓶 气体仓库 气体 33 四氟化碳 47L 钢瓶 1 瓶/年（50kg/瓶）1 瓶 特气房 气体 34 五氧化三钛 1kg/瓶 0.2 吨/年 0.05 吨 原料仓库 气体 镀膜 材料（112、膜层沉积）35 二氧化硅 1kg/瓶 0.8 吨/年 0.1 吨 原料仓库 气体 36 氟化镁 1kg/瓶 0.05 吨/年 0.01 吨 原料仓库 气体 37 三氧化二铝 1kg/瓶 0.05 吨/年 0.1 吨 原料仓库 气体 38 铝铜 1kg/袋 0.05 吨/年 0.01 吨 原料仓库 固体 39 氮化铝 1kg/袋 0.05 吨/年 0.01 吨 原料仓库 固体 40 钼 1kg/袋 0.05 吨/年 0.01 吨 原料仓库 固体 41 铝 1kg/袋 0.05 吨/年 0.01 吨 原料仓库 固体 42 管控片 25 片/盒 5000 片/年 50 盒 原料仓库 固体 43 靶材113、 块 2 块/年 0.6 块 原料仓库 固体 44 正硅酸乙酯 47L 钢瓶 2 瓶/年（50kg/瓶）1 瓶 化学品库 气体 45 反 1,2-二氯乙烯 47L 钢瓶 2 瓶/年（50kg/瓶）1 瓶 化学品库 气体 46 硼酸三甲酯 1 加仑/桶 0.01 吨/年 0.0025 吨 化学品库 液体 47 磷酸三甲酯 1 加仑/桶 0.01 吨/年 0.0025 吨 化学品库 液体 48 六氟化钨 47L 钢瓶 1 瓶/年（50kg/瓶）1 瓶 化学品库 气体 49 六氯丁二烯 47L 钢瓶 1 瓶/年（50kg/瓶）1 瓶 化学品库 液体 50 硅烷 47L 钢瓶 15 瓶/年（50kg/114、瓶）4 瓶 化学品库 气体 xxxx光电科技股份有限公司xx分公司年产 5000 万颗（件/套）智能光电子元器件项目环境影响报告表 26 51 磷化氢 47L 钢瓶 1 瓶/年（50kg/瓶）1 瓶 化学品库 气体 52 硼烷 47L 钢瓶 1 瓶/年（50kg/瓶）1 瓶 化学品库 气体 53 砷烷 47L 钢瓶 1 瓶/年（50kg/瓶）1 瓶 化学品库 气体 54 氨气 47L 钢瓶 0.75 吨/年 0.06 吨 化学品库 气体 55 二氯硅烷 40L 钢瓶 1 瓶/年（35kg/瓶）1 瓶 化学品库 气体 56 一氧化二氮 47L 钢瓶 15 吨/年 3.75 吨 化学品库 气体 5115、7 一氧化碳 47L 钢瓶 1 瓶/年（50kg/瓶）1 瓶 化学品库 气体 58 三甲基铝 47L 钢瓶 1 瓶/年（50kg/瓶）1 瓶 化学品库 气体 59 三氟化硼 47L 钢瓶 1 瓶/年（45kg/瓶）1 瓶 化学品库 气体 60 三氟化氮 47L 钢瓶 10 瓶/年（45kg/瓶）1 瓶 化学品库 气体 61 光刻胶去除剂 200L/桶 6 吨/年 0.5 吨 化学品库 液体 去胶 62 40%氢氟酸 200L/桶 3 吨/年 0.2 吨 化学品库 液体 63 NMP缓冲液 200L/桶 8 吨/年 2 吨 化学品库 液体 64 二甲基亚砜 200L/桶 5 吨/年 1.5 吨 116、化学品库 液体 65 研磨砂 20kg/包 15 吨/年 2 吨 辅料库 1 固体 研磨 66 研磨液 200kg/桶 2 吨/年 0.4 吨 化学品库 液体 67 碳化硼 20kg/包 0.5 吨/年 0.5 吨 辅料库 1 固体 68 磨头 20 只/盒 5000 只/年 500 只 辅料库 1 固体 69 切割膜 按个计 350 个/年 100 个 辅料库 1 固体 切割 辅材 70 专用刀片 20 片/盒 3000 片/年 50 盒 辅料库 1 固体 71 离型膜 按个计 500 个/年 100 个 辅料库 1 固体 72 切割液（表面活性剂 168LB）1 吨/桶 3 吨/桶 1 吨117、 化学品库 液体 73 钢丝 300km/卷 90000km 3000km 辅料库 1 固体 74 抛光皮 20 张/箱 400 张/年 40 张 辅料库 2 固体 抛光 75 抛光液SCHRECK#105 16kg/箱 7 吨/年 2 吨 化学品库 液体 76 金刚玉 25kg/袋 0.5 吨/年 0.5 吨 辅料库 2 固体 77 棕刚玉砂 2.5kg/袋 200kg/a 200kg 原料仓库 固体 喷砂 78 UV油墨 5L/桶 0.5 吨/年 0.2 吨 化学品库 液体 印刷 79 UV膜 2 卷/箱 6600 卷 1650 卷 辅料库 2 固体 贴膜 覆膜 80 松香 5kg/桶 0118、.1 吨/年 0.1 吨 化学品库 液体 81 石蜡 20kg/桶 0.2 吨/年 0.2 吨 化学品库 液体 82 丙酮 20L/桶 3 吨/年 0.75 吨 化学品库 液体 剥离 83 异丙醇 200L/桶 6 吨/年 1.5 吨 化学品库 液体 84 无水乙醇 2.5L/桶 1 吨/年 0.2 吨 化学品库 液体 无尘车间清洁 85 无水乙醇 2.5L/桶 0.5 吨/年 0.2 吨 化学品库 液体 表面 去水 86 洗利隆 10kg/箱 0.5 吨/年 0.05 吨 化学品库 粉末 清洗 87 氧气 47L 钢瓶 171 瓶/年（50kg/瓶）10 瓶 气体仓库 气体 辅助 气体 88119、 氦气 47L 钢瓶 30 瓶/年（50kg/瓶）4 瓶 气体仓库 气体 89 氩气 47L 钢瓶 35 瓶/年（50kg/瓶）5 瓶 气体仓库 气体 90 氮气 直供 1000 吨/年 250 吨 大宗气站 气体 91 氢气 47L 钢瓶 30 瓶/年（50kg/瓶）8 瓶 气体仓库 气体 92 Kr/Ne混合气体 47L 钢瓶 10 瓶/年（50kg/瓶）10 瓶 气体仓库 气体 光刻 93 F2/Kr/Ne混合气体 47L 钢瓶 3 瓶/年（50kg/瓶）2 瓶 气体仓库 气体 94 包装盒 50 只/箱 10000 箱/年 5000 箱 原料仓库 固体 辅助 xxxx光电科技股份有限公120、司xx分公司年产 5000 万颗（件/套）智能光电子元器件项目环境影响报告表 27 95 中空板 100 只/箱 20000 箱/年 5000 箱 原料仓库 固体 96 反渗透膜/0.02 吨/年 0.02 吨 原料仓库 固体 97 干燥剂/1 吨/年 1 吨 原料仓库 固体 98 水/45938 吨/年/生产、办公 99 电/350万 kW h/电力管线接入/合计 40%氢氟酸 200L/桶 6 吨/年 0.2 吨 化学品库 液体/98%硫酸 200L/桶 1.5 吨/年 0.5 吨 化学品库 液体 无水乙醇 2.5L/桶 1.5 吨/年 0.2 吨 化学品库 液体 光光刻刻胶：胶：本项目使121、用正性光刻胶，主要成分为丙二醇甲醚醋酸酯、酚醛树脂类衍生物、DNQ类衍生物，为红棕色粘稠液体，有特殊的芳香气味，熔点为-20，沸点为146，相对密度1.05（水=1），微溶于水，几乎可溶于所有的有机溶剂，爆炸上限为7.0%；爆炸下限1.5%，急性毒性：LD505045mg/kg（大鼠口服），接触限值：短期550mg/m3。稀释剂稀释剂（RZQ-3070）：由苏州瑞红电子化学品有限公司提供，主要成分为丙二醇甲醚醋酸酯、丙二醇甲醚，为无色透明液体，有特殊的芳香气味，沸点为126，相对密度0.88（水=1），微溶于水，爆炸上限为7.5%；爆炸下限1.4%，急性毒性：LD505500mg/kg（大鼠口122、服）。增粘剂：增粘剂：主要成分为丙二醇甲醚，含量大于等于98%，为无色透明液体，沸点为118119，相对密度0.922（水=1），爆炸上限为16%（V），爆炸下限1.8%（V），与水和乙醇完全混溶，用于有机和无机物粘合时的增粘，化学性质稳定，急性毒性：LD5011700mg/kg（小鼠口服）。聚酰亚胺聚酰亚胺原液原液：属于混合物，淡琥珀色液体，有轻微的气味，主要成为聚酰胺酸酯，二甲亚砜、醚化合物，异丁烯酸单体，-丁内酯、添加剂、沸点为190，相对密度1.2，在正常条件下化学性质稳定。显影液：显影液：由上海飞凯光电材料股份有限公司提供，主要成分为碳酸钠、水和添加剂，为浅黄色透明液体，相对密度1.123、00+0.05（水=1），易溶于水、醇类，急性毒性：LD504090mg/kg（大鼠口服），接触限值：PEL-TWA150ppm。BOE刻蚀液：刻蚀液：是氢氟酸HF和氟化铵NH4F依不同比例混合而成，具体比例为6:1，即49%氢氟酸溶液：40%氟化铵水溶液（体积比）混合而成，刻蚀速度约为10nm每秒，HF会浸蚀玻璃及任何含硅石的物质，对皮肤有强烈的腐蚀性。硝酸：硝酸：CAS号7697-37-2，无色透明发烟液体，有酸味，分子式为HNO3，分子量63，相对密度(水=1)1.50(无水)，本品助燃，具强腐蚀性、强刺激性，可致人体灼伤。主要用于化肥、染料、国防、炸药、冶金、医药等工业。氢氟酸：氢氟酸124、：CAS号7664-39-3，外观呈无色透明液体状，具强酸性。对金属和玻xxxx光电科技股份有限公司xx分公司年产 5000 万颗（件/套）智能光电子元器件项目环境影响报告表 28 璃有强烈的腐蚀性。能烧伤皮肤并有渗透至骨骼的危险。分子量20，分子式HF，相对蒸汽密度(空气=1)：1.27，沸点120(35.3%)，主要用途：用作分析试剂、高纯氟化物的制备、玻璃刻蚀及电镀表面处理等。磷酸：磷酸：CAS号7664-38-2，无色透明有辛辣收敛性酸味黏稠状液体，长时间受冷即生成柱状结晶，溶于水并放热，有腐蚀性，熔点：42.35，沸点：213，能与水或乙醇混溶，易吸收空气中的湿气，85%的磷酸相对密125、度1.69，用于制药、颜料、电镀、防锈等。醋酸：醋酸：CAS号64-19-7，无色透明液体，有刺激性气味，熔点16.635，沸点117.9，相对密度1.05(20/4)，折射率1.3716，闪点（开杯）57，自燃点465，粘度11.83mPa s（20），与水、乙醇、苯和乙醚混溶，不溶于二硫化碳。双氧水：双氧水：CAS号7722-84-1，无色透明液体状，熔点-0.43，沸点158，相对密度1.46(无水)，能与水任意混溶，其水溶液呈弱酸性。溶于乙醚，不溶于石油醚，能被多种有机溶剂分解，有氧化性，用于漂白，用于医药，也用作分析试剂。硫酸：硫酸：CAS号7664-93-9，无色无臭透明油状液体，126、分子式为H2SO4；分子量为98；98.3%硫酸的熔沸点：熔点10；沸点338。LD50：2140mg/kg(大鼠经口)；LC50：510mg/m3，2小时(大鼠吸入)；320mg/m3，2小时(小鼠吸入)；用于生产化学肥料，在化工、医药、塑料、染料、石油提炼等工业也有广泛的应用。盐酸：盐酸：CAS号7647-01-0，中文别名氯化氢，无色有刺激性气味，分子量36.5，易溶于水，有强腐蚀性，急性毒性：LD50：900mg/kg(兔经口)LC50：3124ppm1小时(大鼠吸入)，主要用途：制染料、香料、药物、各种氯化物及腐蚀抑制剂。光刻胶去除剂：光刻胶去除剂：琥珀色液体，有类似于胺的气味，主要127、成分为2-氨基乙醇，异丙醇胺、羟胺、芳香族溶剂、水，沸点为100-171，相对密度1.07（水=1），与水完全混溶，急性毒性：LD501285mg/kg（大鼠口服）。正硅酸乙酯：正硅酸乙酯：CAS号：78-10-4，无色透明液体，熔点-77，沸点168.8，相对密度0.9320（20/4），折光率1.3928，闪点46。能与乙醇、乙醚混溶，不溶于水。无水分时稳定，蒸馏时不分解。遇水逐渐分解成氧化硅。硼酸三甲酯硼酸三甲酯:CAS号：121-43-7，湿敏性液体，在空气中发烟，熔点-29.3，沸点68-69，与甲醇形成共沸混合物，共沸点55，相对密度(20/4)0.920，折光率(nD25)1.3128、543（1.3548）。极易燃烧，闪点-1，LD50：6140mgkg(大鼠经口)，与乙醚、甲醇、四氢呋喃、异丙胺及己烷等互溶，无水状态稳定，遇水分解xxxx光电科技股份有限公司xx分公司年产 5000 万颗（件/套）智能光电子元器件项目环境影响报告表 29 成甲醇及硼酸。用作溶剂、脱氢剂、杀虫剂及用于有机合成、半导体硼扩散原。磷酸三甲酯：磷酸三甲酯：CAS号：512-56-1，无色透明液体，易燃，熔点-46（），-62（），沸点180-190，相对密度（20/4）1.215，折射率1.3967，易溶于水，溶于乙醚，但难溶于乙醇，LD50：1.65mlkg(大鼠经口)，本品对动物可产生驰缓性瘫129、痪，无致畸作用，用作医药、农药的溶剂和萃取剂。NMP缓冲液：缓冲液：CAS号872-50-4，中文名为N-甲基吡咯烷酮，别名为1-甲基-2-吡咯烷酮，透明液体有胺样气味，分子式为C5H9NO，分子量为99.15，密度：1.033g/cm3，沸点为202，能与水、醇、醚、酯、酮、卤代烃、芳烃和蓖麻油互溶。是一种选择性强和稳定性好的极性溶剂，具有毒性低、溶解力强、不易燃、可生物降解等优点。广泛用于芳烃萃取、乙炔、烯烃、二烯烃的纯化，锂离子电池的电极辅助材料，合成气脱硫、润滑油精制、润滑油抗冻剂、烯烃萃取剂、难溶工程塑料聚合时的溶剂，农用除草剂，绝缘材料、集成电路制作，半导体行业精密仪器、线路板的洗130、净，清洗剂、染料助剂、分散剂等。二甲基亚砜：二甲基亚砜：CAS号67-68-5，无色无臭液体，可燃。分子式C2H6OS，分子量78，凝固点18.4，沸点189，85-87（2.67kPa），20（49.3Pa），相对密度1.1014（20/20），比热容2.93J/（kg）（液体），折射率1.4783，闪点95（开杯），介电常数48.9（20），燃点300-302，粘度（20）2.20mPa s。该品是极性高的有机溶剂，可与水以任意比例混合，除石油醚外，可溶解一般有机溶剂。切割液（表面活性剂切割液（表面活性剂168LB）：）：主要由水、聚乙二醇、甲基环氧乙烷与单辛苯基醚支链化环氧乙烷的聚合物混131、合而成，透明至淡黄色、易流动粘稠液体，pH值7.0-9.5，沸点小于100，相对密度1.0-1.02，可溶于水。抛光液：抛光液：由大智化学产业株式会社提供，主要成分为三乙醇胺、水、亚硝酸盐以及润滑剂，为淡黄色液体，有弱氨味，沸点105，相对密度（水=1）1.230，易溶于水。油墨：油墨：由苏州昭奇凯虹精细化工有限公司提供，主要成分丙烯酸树脂60-90%、光引发剂5-10%以及助剂3-5%，为有芳香气味的液体，沸点为180-220。洗利隆：洗利隆：由香港金利恒有限公司提供，主要为螯合剂、硫酸钠、磺酸盐、磷酸酯盐、烷基醇酰胺型，为白色无味粉末，沸点为100，密度为1.53g/cm3，溶解于水，急性132、毒性LD504000mg/kg以上。丙酮：丙酮：CAS号67-64-1，分子式为C3H6O，分子量为58.08，饱和蒸汽压xxxx光电科技股份有限公司xx分公司年产 5000 万颗（件/套）智能光电子元器件项目环境影响报告表 30(kPa)53.32(39.5)。无色透明易流动液体，有芳香气味，极易挥发，是基本的有机原料和低沸点溶剂，与水混溶，可混溶于乙醇、乙醚、氯仿、油类、烃类等多数有机溶剂。异丙异丙醇：醇：CAS号67-63-0，无色透明可燃性液体，有类似乙醇的气味。熔点-88.5，凝固点-89.5，沸点82.45，蒸汽压（20）4.4kPa，相对密度0.7855（20/4），折射率1.3133、772，粘度（20）2.4mPa s，闪点22。在空气中自燃上限7.99，下限2.02。能与水、乙醇、乙醚及氯仿混溶。分子式C3H8O，分子量60；CAS号67-63-0，是重要的化工产品和原料。主要用于制药、化妆品、塑料、香料、涂料等。无水乙醇：无水乙醇：CAS号64-17-5，又名酒精、火酒；分子式为CHO，分子量为46.07，为无色液体，具有特殊香味，密度0.79g/cm3，沸点为78，饱和蒸汽压5.33kPa（19），易挥发，与水以任意比互溶，可混溶于醚、氯仿、甘油等多数有机溶剂。乙醇是重要的有机溶剂，广泛用于医药、涂料、卫生用品、化妆品、油脂等各个方面。本项目使用的气体相关理化特性和134、镀膜工序使用的膜材理化特性详见表18。表表18 物质理化特性表物质理化特性表 物质名称 CAS号 理化特性 毒理学资料 接触限值 氯化氢 7647-01-0 分子式为HCl，室温下为无色气体，熔点-114.2度，沸点-85度，空气中不燃烧，热稳定，到约1500才分解。遇空气中的水汽形成白色盐酸酸雾，有窒息性的气味，对上呼吸道有强刺激，对眼、皮肤、黏膜有腐蚀。密度大于空气，其水溶液为盐酸，浓盐酸具有挥发性。LD50：900mg/kg(兔经口)LC50：3124ppm 1小时(大鼠吸入)PC-TWA：15 mg/m3 氯气 7782-50-5 分子式为Cl2，分子量71，黄绿色气体，有毒，有刺激性135、气味，密度比空气大、熔沸点较低、能溶于水易溶于有机溶剂，相对蒸汽密度(空气=1)：2.48，属高毒类。LC50：293ppm/1h PC-TWA：1mg/m3 溴化氢 10035-10-6 一种无机化合物，化学式为HBr，与水混溶，可混溶于乙醇、乙酸，标准情况下为无色气体，主要用于制造各种溴化合物，也可用于医药、染料、香料等工业。LD50：76mg/kg（大鼠静脉）LC50：9460mg/m3（大鼠吸入）未制定标准 三氯化硼 10294-34-5 无色透明液体或气体，有强烈臭味，易潮解，比重1.349（11 C）。熔点-107.3 C，分子式BCl3，密度1.4 0.1g/cm3，用作半导体硅136、的掺杂源或有机合成催化剂。LC50：12171mg/m3，1小时(大鼠吸入)未制定标准 三氟化氮 7783-54-2 化学式NF，气体分子量：71.01，熔点：206.8（1atm），沸点：129（1atm），临界温度：39.3，临界压力：44.02atm（4.46MPa），气体密度：2.95kg/m（1atm，21）。在常温下是一种无色、无臭、性质稳定的气体，是一种强氧化剂。高纯三氟化氮具有优异的蚀刻速率和选择性（对氧化硅和硅），它在蚀刻时，在蚀刻物表面不留任何残留物，是非常良好的清洗剂，同时在芯片制造、高能激光器方面得到了大量的运用。LC50：19000mg/m3，1小时(大鼠吸入)；56137、00mg/m3，4小时(小鼠吸入)MAC：1mg/m3 xxxx光电科技股份有限公司xx分公司年产 5000 万颗（件/套）智能光电子元器件项目环境影响报告表 31 六氟化硫 2551-62-4 无色无臭气体，熔点-51，相对密度(水=1)：1.51，相对蒸汽密度(空气=1)：5.11，不燃气体，临界压力(Mpa)：3.37，爆炸下限(%)：无意义，爆炸上限(%)：无意义，用作电子设备和雷达波导的气体绝缘体。LD50：5790mg/kg(兔静脉)未制定标准 八氟环丁烷 115-25-3 C4F8，无色无臭气体，熔点-41.4，沸点6.04，相对密度(水=1)：1.51，相对蒸汽密度(空气=1)138、：7.0，饱和蒸汽压(kpa)：无意义，临界温度（K）：115.3，临界压力(Mpa)：2.784，爆炸下限(%)：无意义，爆炸上限(%)：无意义。LC50：小鼠吸入78pph/2h，大鼠吸入80%的本品4小时，未见异常（20%为O2）未制定标准 六氟乙烷 76-16-4 C2F6，无色，不可燃气体，不溶于水，溶于乙醇。沸点-78.2，熔点-100.6，临界温度19.7，常温下(19.7)是压缩气体，化学性质不活泼，在600以下与石英不反应，在842下还不全部分解。在处理六氟乙烷过程中，可按无毒气体处理，但与可燃气体一同燃烧时，分解产生有毒的氟化物。属低毒类 未制定标准 三氟甲烷 75-46-139、7 无色不燃气体，沸点-82.1，熔点-155，相对密度(水=1)：1.52，相对蒸汽密度(空气=1)：2.43，饱和蒸汽压(kpa)：2504，临界温度（）：25.7，临界压力(Mpa)：4.84，爆炸下限(%)：无意义，爆炸上限(%)：无意义。无资料 未制定标准 二氟甲烷 75-10-5 无色气体，有刺激性气味，不溶于水，熔点-136，沸点-51.7相对蒸汽密度(空气=1)1.8，临界温度（）：71，闪点-89，爆炸下限(%)：8.1，爆炸上限(%)：27.2。无资料 PC-TWA：100 mg/m 氟甲烷 593-53-3 无色气体，有刺激性气味，熔点-136，沸点-51.7，相对蒸汽密140、度(空气=1)1.8，临界温度71闪点-89，爆炸下限(%)：8.1，爆炸上限(%)：27.2 无资料 PC-TWA：100 mg/m3 氙气 7440-63-3 无色无臭惰性气体，熔点-112，沸点-107.1，相对密度(水=1)3.52（-109），相对蒸汽密度(空气=1)4.56，饱和蒸汽压(kpa)724.54(-64)，临界温度16.6，临界压力(Mpa)：5.88，爆炸下限(%)无意义，爆炸上限(%)：无意义。无资料 未制定标准 氖气 75-46-7 无色无臭气体，微溶于水，熔点-248.7，沸点-245.9，相对密度(水=1)：1.20(-246)，相对蒸汽密度(空气=1)：0.141、7，饱和蒸汽压(kpa)：101.32(-246)，临 界 温 度（）：-228.7，临 界 压 力(Mpa)：2.73。无资料 未制定标准 四氟化碳 75-73-0 常温常压下为无色无臭有轻微醚味的气体。空气中不燃烧，是比较稳定的无毒物质。熔点-186.8、沸点-128.0。分子四CF4，用作低温致冷剂及集成电路的等离子干法刻蚀技术。无资料 未制定标准 氧气 7782-44-7 无色无臭气体，熔点-218.8，沸点-183.1，相对密度(水=1)：1.14(-246)，相对蒸汽密度(空气=1)：1.43，饱和蒸汽压(kpa)：506.62(-164)，临界温度（）：-118.4，临界压力(M142、pa)：5.08。无资料 未制定标准 氦气 7440-59-7 无色、无臭、无味惰性气体，在21.1和101.3kPa下气 体 相 对 密 度 0.138，沸 点-268.9，密 度0.165kg/m3，临界温度-267.9，临界压力227kPa，临 界 密 度 69.64kg/m3，蒸 发 潜 热 20.28kJ/kg(-268.9，101.3kPa)，0时在水中溶解度0.0094(体积比)，在沸点和101.3kPa下液体密度124.98kg/m3，氦不可燃，无毒，微溶于水，可以气态或液态装运，在半导体工业中，用于生成锗和硅晶体的保护气，某些混合气的底气，电子工业中用作运载气、激光气。无资料143、 未制定标准 氩气 7440-37-1 无色无臭、无毒惰性气体，熔点-189.2，沸点-185.7，相对密度(水=1)：1.40(-186)，相对蒸汽无资料 未制定标准 xxxx光电科技股份有限公司xx分公司年产 5000 万颗（件/套）智能光电子元器件项目环境影响报告表 32 密度(空气=1)：1.38，饱和蒸汽压(kpa)：202.64(-179)，临 界 温 度（）：-122.3，临 界 压 力(Mpa)：4.86。氮气 7727-37-9 无色无臭惰性气体，熔点-209.8，沸点-195.6，相对密度(水=1)：0.81(-196)，相对蒸汽密度(空气=1)：0.97，饱和蒸汽压(kp144、a)：1026.42(-173)，临界温度（）：-147，临界压力(Mpa)：3.40。无资料 未制定标准 氢气 1333-74-0 无 色、无 臭、可 燃 气 体，气 体 密 度(kg/m3)：0.08342(21.1，101.3kPa)，气体相对密度(空气=1)0.06960(0，101.3kPa)，沸点-252.8，熔点-259.2。临界温度-239.96，临界压力1315kPa，临界密度30.12kg/m3，在空气中的可燃限4.0%75.0%(体积)。自燃温度xx.2，在正常条件下，氢无腐蚀，但在高压和高温下，氢气可引起某些钢种的脆裂，氢气无毒，但不能维持生命，是一种窒息剂。无资料 未145、制定标准 反 1，2-二氯乙烯 156-60-5 无色液体，有类似氯仿的气味，沸点（101.3kPa）：47.7 C，熔 点：-49.4 C，相对密度（g/mL,20/4 C）：1.2565，临界温度：243.3 C，临界压力：5.53MPa，微溶于水。能与乙醇、乙醚等多种有机溶剂混溶。LD501,235mg/kg（大鼠经口）未制订标准 六氟化钨 7783-82-6 无色气体，不燃气体，熔点2.3，沸点17.5，相对蒸汽密度(水=1)3.44，临界温度171，溶于多数有机溶剂。具剧烈刺激性 未制订标准 硅烷 7803-62-5 无色、有恶臭味、易燃气体，密度（g/mL,25 C）：1.44，沸146、 点-111.9，熔 点-185。临 界 温 度-3.5，临界压力4.864MPa，溶于水，几乎不溶于乙醇、乙醚、苯、氯仿、硅氯仿和四氯化硅。LC50：9600ppm 4小时(大鼠吸入)未制定标准磷化氢 7803-51-2 无色，剧毒，易燃烧气体，带有令人生厌的大蒜味，相 对 蒸 汽 密度（空气=1）：1.17，沸点-87.7，临界温度600，自燃温度（）：212F(100)，爆炸下限（V/V）：1%，可溶于乙醇，乙醚，氯化亚铜溶液，环己酮。LC50 20ppm PC-TWA：0.3 mg/m3 硼烷 19287-45-7 无色特臭气体，易溶于二硫化碳，密度0.477，熔点-165，沸点-93147、，闪点-90，易燃，爆炸上限%(V/V)：9.8，爆炸下限%(V/V)：0.8 属高毒类 LC50：40ppm 4小时(大鼠吸入)未制定标准 砷烷 7784-42-1 无色、有蒜味的极毒气体；熔点-116.3，沸点-55，密度2.695 克/升。属高毒类LC50：500mg/kg(哺乳动物吸入)PC-TWA：0.3mg/m3 氨气 7664-41-7 无色、有刺激性恶臭的气体，易燃、有毒。易溶于水、乙醇、乙醚。气氨相对密度(空气=1)：0.59；液氨相对密度(水=1)：0.602824(25)，熔点：-78，沸点-33，水溶性可溶，用作致冷剂及制取铵盐和氮肥。LD50：350 mg/kg(大鼠148、经口)PC-TWA：20mg/m3 二氯硅烷 4109-96-0 分子式SiH2Cl2，无色气体、熔点：-122、沸点：8.3，饱和蒸汽压：163.6kPa（20）、临界压力：4.55Mpa、引 燃 温 度：4147、爆 炸 上 限（V/V）：96.0%、爆炸下限（V/V）：4.1%、溶于苯、乙醚等多数有机溶剂，易燃，有毒，具腐蚀性、刺激性。无资料 未制定标准 一氧化二氮 10024-97-2 无色有甜味的气体，液化时成为无色液体，固体是无色立方的结晶物质，熔点-90.8，沸点-88.5，气体密度1.977kg/m3，溶于乙醇、醚和浓硫酸，微溶于水。其物理性质与二氧化碳极为相似，能助燃，在高温149、时，是强氧化剂，加热其与氢、氨、一氧化碳或某些易燃物质的混合物时可发生爆炸。不能与水、酸和碱反应，也不被氧气氧化，用于半导体制造中的气相淀积氮化硅的氮源，纯度大于99.999的高纯氧化亚氮在半导体生产中可用作氧化绝缘材LC50：1068mg/m3(大鼠吸入，4h)未制定标准 xxxx光电科技股份有限公司xx分公司年产 5000 万颗（件/套）智能光电子元器件项目环境影响报告表 33 料。还可作为原子吸收光谱的氧化气体。一氧化碳 630-08-0 无色、无臭、可燃、有毒气体，在21.1和101.3kPa下气体相对密度(空气=1)0.9676。沸点-191.5，熔点-207.0，在空气中的可燃限1150、2.5%74%(体积)。气体密度1.161kg/m3(21.1，101.3kPa)。液体密度790.5kg/m3(-191.5)，临界温度-140.2，临界压力3499kPa，临 界 密 度 301kg/m3，三 相 点-205.1(15.2kPa)，蒸发潜热215.5kJ/kg(-191.5)，0 时在水中溶解度 0.035(体积比)。液体密度812kg/m3(-191.5)。燃烧热10103kJ/kg(25)，纯一氧化碳在大气压下对金属基本上不腐蚀，当含水蒸汽、硫的化合物及其他杂质并在升高压力条件下，对黑色金属产生强腐蚀。LC50：1807 ppm 4小时(大鼠吸入)TWA：30mg/m3151、 三甲基铝 75-24-1 透明无色液体引火物，密度（g/mL,20）：0.688，熔点：15 C，沸点（常压）：126 C，爆炸上限（%,V/V）：1.1，爆炸下限（%,V/V）：7.5，与水反应强烈。高纯三甲基铝用作MOCVD工艺的原材料，用于沉积铝膜。还可用作烯烃聚合的催化剂。/三氟化硼 7637-07-2 无色气体，有窒息性，在潮湿空气中可产生浓密白烟，熔点：-126.8，沸点：-100，相对密度（水=1）：1.6（液体），相对蒸汽密度（空气=1）：2.38，饱和蒸汽压（kPa）：1013.25（-58），临界温度（）：-12.26，临界压力（MPa）：4.98，辛醇/水分配系数：0.152、22，溶于冷水、浓硫酸和多数有机溶剂。LC501180mg/m3 (大鼠吸入)未制定标准 五氧化三钛 12065-65-5 紫黑色或紫红色固体（颗粒状、片状），分子式TI3O5，熔点 1800，密度 4.2g/cm3，摩尔质量223.7g/mol，主要用于物理气相沉积镀膜（PVD）。无资料 未制定标准 二氧化硅 1480-0-7 无色（透明）固体（片状、柱状、靶材），分子式SiO2，熔 点 1600-2200，沸 点 2230，密 度2.2g/cm3，摩尔质量 60.09g mol，难溶于水，溶于 氟酸和热的氢氧化钠，主要用于物理气相沉积镀膜（PVD）。无资料 未制定标准 氟化镁 7783-4153、0-6 白色丸状固体，分子式为MgF2，分子量62.302，熔点1260，沸点2226，密度3.15g/cm3，能溶于硝酸，微溶于稀酸，难溶于水和醇，主要用于xx仪器中镜头及滤光器的涂层。大鼠LD50：2,330mg/kg，豚鼠LDLo：1,000mg/kg TWA2.5mg/m3（氟）三氧化二铝 1344-28-1 白色粉末，分子式为Al2O3，分子量101.96，熔点2050，沸点2980，密度3.975g/cm3，用作研磨剂、吸附剂、有机反应催化剂 无资料 TWA10mg/m3 氮化铝 24304-00-5 氮化铝属六方晶系，纤维锌矿型结构。纯品为蓝白色，分子式为AlN，分子量40.99154、g/mol，通常为灰色或灰白色，密度：3.26g/mL，熔点2200 C。无资料 未制定标准 其他主要原料主要化学成分信息表详见表19。表表19 主要原料化学成分信息表主要原料化学成分信息表 名称 用途 主要成分 成分比例（SDS）本报告取值 CAS号 BOE刻蚀液 刻蚀 氢氟酸溶液 49%49%/氟化铵溶液 40%40%/显影液 显影 碳酸钠 0.5-2%1.25%497-19-8 水 88-98.5%93.25%7732-18-5 添加剂 1-10%5.5%/油墨 印刷 丙烯酸树脂 60-90%80.5%/光引发剂 5-10%7.5%75980-60-8 助剂 3-5%4%/xxxx光电科155、技股份有限公司xx分公司年产 5000 万颗（件/套）智能光电子元器件项目环境影响报告表 34 研磨液 研磨 脂肪酸盐 28%28%/烷基聚氧乙烯醚 25%25%/烷基胺硼酸酯 11%11%/水 36%36%/抛光液（混合物）抛光 三乙醇胺 2030%25%102-71-6 水/亚硝酸盐/润滑剂/聚酰亚胺原液 涂胶显影-丁内酯 5565%60%96-48-0 聚酰胺酸酯 1525%20%/二甲亚砜 1020%15%67-68-5 光聚合引发剂 0.53%1.75%/醚化合物 01%0.5%/添加剂 0.011%0.5%/异丁烯酸单体 110%2.25%/增粘剂 丙二醇甲醚 98%100%107156、-98-2 切割液（表面活性剂168LB）切割 水 93.7%93.7%7732-18-5 聚乙二醇 1.4%1.4%25322-68-3 甲基环氧乙烷与单辛苯基醚支链化环氧乙烷的聚合物 4.9%4.9%70955-69-0 光刻胶 光刻 丙二醇甲醚醋酸酯（PGMEA）1585%25%108-65-6 酚醛树脂类衍生物 6379%71%9016-83-5 DNQ类衍生物 26%4%68510-93-0 稀释剂（RZQ-3070）光刻胶 稀释剂 丙二醇甲醚醋酸酯 2040%30%108-65-6 丙二醇甲醚 6080%70%107-98-2 光刻胶去除剂 去胶 二甲基亚砜 75-85%80%67157、-68-5 胺类混合物 5-30%17.5%/添加剂 0.1-5%2.5%/2.6 VOC 含量符合性分析含量符合性分析 本项目涂胶显影过程会使用光刻胶，根据原料供应商提供的光刻胶告知函（附件8）可知，本项目采用的光刻胶学名为“光阻剂”，不属于胶粘剂中的任何一种，也无胶粘剂的特性，因而不适用于胶粘剂挥发性有机化合物限量（GB33372-2020）要求。本项目涉及UV油墨的使用，对照油墨中可挥发性机化合物（VOCs）含量的限量（GB38507-2020）要求，其对应的VOCs含量达标符合性分析见表20。本项目涉及乙醇、丙醇、异丙醇等挥发性有机物的使用，根据其用途，上述物质用途主要是对物质进行清洗158、，因此须对照清洗剂挥发性有机化合物含量限值（GB38508-2020）要求，其对应的VOCs含量达标符合性分析见表20。表表20 油墨油墨、清洗剂、清洗剂中中VOCs含量符合性分析含量符合性分析 名称 类型 VOCs限值 本项目情况 是否符合 UV油墨（能量固化油墨）网印油墨 5%/根据企业提供的 UV 油墨可挥发性有机物检测报告可知（见附件 8），该油墨中的可挥发性有机物含量为符合 xxxx光电科技股份有限公司xx分公司年产 5000 万颗（件/套）智能光电子元器件项目环境影响报告表 35 3.1%5%。异丙醇（有机溶剂清洗剂）有机溶剂清洗剂 900g/L 已知本项目使用的异丙醇，密度为 0159、.79g/cm3，含量为 100%，经计算，该物质中的可挥发性有机物含量为 790g/L900g/L。符合 丙酮（有机溶剂清洗剂）900g/L 已知本项目使用的丙酮，密度为 0.80g/cm3，含量为99.7%，经计算，该物质中的可挥发性有机物含量为795g/L900g/L。符合 乙醇（有机溶剂清洗剂）900g/L 已知本项目使用的乙醇，密度为 0.79g/cm3，含量为99.5%，经计算，该物质中的可挥发性有机物含量为782g/L900g/L。符合 VOC 含量符合性分析结论：含量符合性分析结论：根据建设单位提供的油墨 MSDS 及 UV 油墨可挥发性有机物检测报告可知，本项目使用的油墨符合160、油墨中可挥发性机化合物（VOCs）含量的限量（GB38507-2020）中能量固化油墨限值要求；乙醇、丙酮、异丙醇等符合清洗剂挥发性有机化合物含量限值（GB38508-2020）中的有机溶剂清洗剂 VOCs 限值要求。此外，本项目属于光电子行业，由于工艺的特殊性，因乙醇、异丙醇、丙酮等物质不含电解质，不会产生导电短路，既可以擦去油腻和沉积的灰尘，使光电子线路板光洁如初，又因其容易挥发，在通风处晾几分钟就会干透，没有残留，使得上述物质普遍作为电子及光电子行业的必要清洗剂，具有行业普遍性，因此本项目生产过程中需使用乙醇、异丙醇、丙酮等含 VOC 原料。2.7 项目主要生产设备项目主要生产设备 本项161、目主要生产设备情况见表 21。表表21 企业生产设备一览表企业生产设备一览表 序号 设备名称 型号 数量 位置 用途 1 脉理机/1 1#厂房 开料 2 开料机 PFG 2 1#厂房 开料 3 多线切割机 MWM 1 1#厂房 切割 4 内圆切割机 J5 1 3#厂房 切片 5 精雕机 PMS 49 1#厂房 精雕 6 研磨机 X62 2 1#厂房 厚度减薄/研磨 7 镜面研磨机 16BF 46 3#厂房 8 超声波清洗机（14 槽）RDF 10 1#厂房、3#厂房 清洗 9 超声波清洗机（8 槽）RDF 3 1#厂房、3#厂房 10 精密丝印机 UP 1 1#厂房 表面印刷 11 PVD 装162、置 OTF 6 3#厂房 膜层沉积 12 喷胶机 AS 1 3#厂房 光刻胶涂布 13 匀胶显影设备 KK 1 3#厂房 涂布、显影 14 热板机 KS 2 3#厂房 涂布 15 光刻机/3 3#厂房 曝光 16 自动去胶机 SS 1 3#厂房 去胶 17 干法去胶机 Virgo140 1 3#厂房 18 自动剥离机 TT 1 3#厂房 湿法刻蚀 xxxx光电科技股份有限公司xx分公司年产 5000 万颗（件/套）智能光电子元器件项目环境影响报告表 36 19 刻蚀机 LL 2 3#厂房 干法刻蚀 20 贴膜机/8 1#厂房 贴膜 21 修频机 Trim200 1 1#厂房 修频 22 激光切163、割设备/5 1#厂房、3#厂房 切割 23 自动分晶机/5 1#厂房、3#厂房 分晶 24 晶圆切割机/32 1#厂房、3#厂房 切割 25 扩膜机/1 3#厂房 扩膜 26 离心清洗机/1 1#厂房 清洗 27 晶圆清洗机/10 3#厂房 28 等离子清洗机/1 1#厂房 29 APM 晶圆清洗机 智程 1 3#厂房 30 UV解胶机/1 3#厂房 解胶 31 点胶机/1 3#厂房 点胶 32 匀胶机/1 3#厂房 33 取组件机/1 3#厂房 辅助设备 34 智能贴装机/3 3#厂房 35 自动摆盘机/4 3#厂房 36 真空包装机/5 3#厂房 37 激光打标机 大族 1 3#厂房 38164、 刷片机 芯源 4sr 1 3#厂房 39 空压机/1 3#厂房 40 喷砂机/1 3#厂房 41 检测设备/14 3#厂房 检测 42 新风系统/2 1#厂房、3#厂房 车间洁净 2.8 物料及水平衡等物料及水平衡等 本项目水平衡见图1，氟、氯、溴等元素平衡详见表22，VOC平衡详见表23，主要物料平衡详见图2。表表 22 元素元素平衡表平衡表 氟平衡 投入 产出 工序 物料名称 总使用量（kg/a）含量（%）氟化物（kg/a）物料名称 产出量（kg/a）含量（%）氟化物含量（kg/a）湿法刻蚀 40%氢氟酸 2500 40 1000 废气排放 354/354 酸洗 40%氢氟酸 500 4165、0 200 进入废水 852/852 去胶 40%氢氟酸 3000 40 1200 刻蚀废液 1500 40%600 干法刻蚀 六氟化硫 50 100 50 去胶废液 17.792 5.60%996 八氟环丁烷 50 100 50 污泥 53000 1.875%993 六氟乙烷 50 100 50 产品表面 500/500 三氟甲烷 1000 100 1000/二氟甲烷 50 100 50/氟甲烷 50 100 50/四氟化碳 50 100 50/真空镀膜 氟化镁 500 100 500/气相沉积 六氟化钨 50 100 50/三氟化硼 45 100 45/三氟化氮 450 100 450 x166、xxx光电科技股份有限公司xx分公司年产 5000 万颗（件/套）智能光电子元器件项目环境影响报告表 37 合计氟化物投入 4295 合计氟化物产出 4295 溴平衡 工序 物料名称 总使用量（kg/a）含量（%）溴化物（kg/a）物料名称 产出量（kg/a）含量（%）溴化物含量（kg/a）干法 刻蚀 HBr 50 100 50 废气排放 5 100 5/进入废水 45/45 合计 50 合计 50 氯平衡 工序 物料名称 总使用量（kg/a）含量（%）氯化物（kg/a）物料名称 产出量（kg/a）含量（%）氯化物含量（kg/a）酸洗 盐酸 3000 31 930 废气排放 106/106 干167、法刻蚀 氯化氢 25 100 25 进入废水 130/130 氯气 25 100 25 进入废液 794/794 三氯化硼 50 100 50/合计 1030 合计 1030 表表 23 VOCs 平衡表平衡表 工序 污染物名称 产生量t/a 废气治理 措施 喷淋吸附 光催+活性炭（二级）吸附 活性炭吸附 DA001 排气筒 DA002 排气筒 DA004 排气筒 无组织 排放 无尘车间净化 乙醇 1 收集效率98%，碱喷淋+除湿+光催化氧化+活性炭（二级）吸附，去除效率90%0.88/0.10/0.02 表面去水 乙醇 0.25 0.215/0.03/0.005 光刻涂胶 非甲烷总烃 1.2168、13 0 1.07/0.119/0.024 去胶 非甲烷总烃 0.135 0 0.119/0.013/0.003 剥离 异丙醇 1.8 1.588/0.176/0.036 丙酮 0.9 0.794/0.088/0.018 油墨印刷 非甲烷总烃 0.016 0/0.013/0.002 0.001 贴膜、覆膜 非甲烷总烃 0.3 0 0.265/0.029/0.006 合计 乙醇 1.25 1.095/0.13/0.025 非甲烷总烃 1.664 0 1.467/0.163/0.034 异丙醇 1.8 1.588/0.176/0.036 丙酮 0.9 0.794/0.088/0.018 VOCs 169、5.614 3.477 1.467/0.557/0.113 产生 VOCs 5.614 产出 5.614 注：本项目VOC通过活性炭（二级）吸附处理去除，装置中的光催化氧化专门用于除臭（异味），因此本报告在计算VOC去除效率过程中，未考虑光催化氧化去除效率（光催化氧化对VOC去除效率取值以0%计）。xxxx光电科技股份有限公司xx分公司年产 5000 万颗（件/套）智能光电子元器件项目环境影响报告表 38 图图 1 项目水平衡图项目水平衡图 2.382丙酮废气0.794异丙醇废气1.5880.003废气排放量0.003）DA004活性炭吸附（0.0160.0130.013活性炭吸附危险废物，委170、托资质单位处置0.251.0951550.）DA002和DA001（二级）吸附（活性炭+光氧化+UV除湿+碱喷淋1.250.251.070.143）DA001（级）吸附活性炭（二+氧化光+UV除湿+碱喷淋1.213危险废物，委托资质单位处置2.94产品中0.0471.2132.940.318喷淋吸收0.143非甲烷总烃0.106异丙醇废气0.212丙酮废气排气筒排放DA001）DA001（级）吸附活性炭（二+氧化光+UV除湿+碱喷淋危险废物，委托资质单位处置7.02.72.77.091.07活性炭吸附2.94光刻废液1.213废气产生量4.20.20.530.51.8异丙醇废气0.9丙酮废气2171、.7剥离废气)（含剥离物7.0剥离废液1.095喷淋吸收0.155乙醇废气排放1.251.25生量乙醇废气产0.25乙醇废液1.5630.0160.484废气产生量产品中0.5油墨UV胺原液聚酰亚增粘剂稀释剂光刻胶乙醇异丙醇丙酮图图 2 物物料料平衡图平衡图 28154喷淋废水1743）循环（102468450450酸洗废水减薄后酸洗12961296刻蚀清洗废水刻蚀清洗化粪池2550损耗4502550生活用水3000生活污水12066纯水77抛光液抛光废液浓水53t/a10001000t/a废水晶圆清洗损耗晶圆清洗9360废气处理3792400024000清洗废水超声波清洗1263损耗9294172、洗废水精雕及清精雕及清洗9783489损耗153切割废水切割161损耗3308磨废水研磨及研6288研磨及清洗40220污水处理厂45398总排口4539842848污水处理站11687制备纯水48095自来水xxxx光电科技股份有限公司xx分公司年产 5000 万颗（件/套）智能光电子元器件项目环境影响报告表 39 2.9 地理位置地理位置及周边环及周边环境概况境概况 本项目位于xx市长安镇高新区新潮路 15 号，租赁xxxxxx半导体有限公司 3#厂房的 2F和 4F以及 1#厂房 1F。以xxxxxx半导体有限公司厂界为中心，其四周环境概况如下：东侧为xx纪鸿包装有限公司；南侧为新潮路，173、隔路往南为阿里巴巴菜鸟网络xxxx园区；西侧为建安路，隔路往西为xx兆事达智能家居股份有限公司；北侧为二号直河，隔河往北为和心控股集团。以项目所在厂房为中心，其四周环境概况如下：东侧为出租方 4#厂房和 2#厂房；南侧为新潮路；西侧紧邻为出租方的食堂及宿舍、检测车间及仓库等；北侧紧邻为出租方危险废物暂存间和停车场，再往北为二号直河，隔河往北为和心控股集团。项目地理位置见附图 1，项目周围环境概况见附图 2。2.10 项目总平面布置项目总平面布置 本项目位于xx市长安镇高新区新潮路15号，租赁xxxxxx半导体有限公司3#厂房的2F和4F以及1#厂房1F，租赁建筑面积为6480平方米。xxxx光174、学半导体有限公司厂区总占地面积约66600平方米，厂房总建筑面积约114028平方米，出入口位于厂区北侧和西侧。本项目所在的3#厂房共有4层，其中1F和3F为出租方的生产车间和辅助车间，2F和4F为本项目生产场所。1#厂房共有4层，其中1F为本项目生产场所，24F为出租方的生产车间。另外出租方已在4#厂房北侧设置了1座废水处理站和1幢危险废物暂存场所，危险废物暂存场总面积为216m2，在现有的危险废物暂存间中隔出30m2作为本项目危险废物暂存间，且为了确保企业单独管理各自危险废物暂存间，本项目危险废物暂存间需与其他企业危险废物暂存间有明显的分隔措施，并确保可以单独上锁，实现封闭管理，同时需按照175、危险废物贮存污染控制标准（GB18597-2001）及其修改单中（公告2013年第36号）有关规定做好标识标牌以及防范措施。危险废物暂存间远离设备生产区和原料、成品堆放区，较好的避开了人员活动及生产的影响；废水处理站占地面积约为450m2，厂区平面布置总体符合国家颁布的有关安全、防火、防爆、卫生等的标准规范及规定的要求，也符合生产工艺、物流和运输方面的要求。平面布局功能分区明确，满足工艺、安全、消防及电力规范的要求，具有物流通畅、线路短等优点，同时项目布局考虑了项目与周围环境的协调关系。综上所述，本项目厂区平面布置总体合理可行，总平面布置及本项目具体平布置详见附图4。xxxx光电科技股份有限公176、司xx分公司年产 5000 万颗（件/套）智能光电子元器件项目环境影响报告表 40 工艺流程和产排污环节 2.11 项项目目生产生产工艺流程工艺流程 本项目产品为智能光电元器件 5000 万颗（件/套），根据其应用领域又可将产品细分为生物识别xx光电子元器件、半导体零部件以及成像xx部品及组件，各产品对应的具体生产工艺见图 3 至图 8。半导体零部件 图图 3 半半导体零导体零部件工艺流程部件工艺流程图图 工艺流工艺流程简述程简述：半导体零部件生产原料为晶圆，采购的原料需先经过质量检测（IQC），合格原料进入生产过程，不合格原料直接将退回给供应商。晶圆清洗；通过晶圆清洗机实现（均为密闭清洗），177、主要目的在于去除晶圆表面的污渍和灰尘，清洗采用纯水喷淋方式进行，分批次进行清洗，每批次清洗过程持续时间为20min，全年预计清洗批次为1万次。表面去水：清洗后的晶圆将浸入装有无水乙醇的密闭槽内进行表面去水，该过程在密闭槽子内进行，槽体尺寸25cm 25cm 20cm，每批可处理晶圆30片，无水乙醇循环使用，约15批次后更换（无水乙醇中含水率达到50%以上就需进行更换）。表面去水后，槽子在拿取晶圆时需打开，因此该状态下会挥发产生少量的乙醇废气，另外更换下来的含水乙醇（含水率为50%）则作为危险废物处置。异丙醇、丙酮纯水、洗利隆、G8剥离废气W2清洗废水S6剥离废液剥离和清洗G5废气、刻蚀W3洗废178、水、清S4刻蚀废液干法刻蚀湿法刻蚀酸、醋酸、硝酸等蚀刻液、氢氟BOEW5酸洗废水G9酸洗废气混酸、纯水G4气相沉积废气镀膜材料镀膜气相沉积过程质控纯水、洗利隆W2清洗废水清洗酸洗切割液成品检测S1乙醇废液G1乙醇废气表面去水组装W6切割废水研磨液W4研磨废水S1乙醇废液G1乙醇废气S5去胶废液G7去胶废气乙醇二甲基亚砜氢氟酸、25%、NMP光刻胶去除剂、G6干法蚀刻废气G3喷砂粉尘喷砂镀膜材料精密切割单面减薄xx检测表面去水涂胶真空镀膜S3废显影液显影液曝光显影G2涂胶废气S2涂胶废液剂、增粘剂胺原液、稀释光刻胶、聚酰亚涂胶烘烤S1乙醇废液G1乙醇废气乙醇表面去水W1清洗废水纯水清洗晶圆xxx179、x光电科技股份有限公司xx分公司年产 5000 万颗（件/套）智能光电子元器件项目环境影响报告表 41 晶圆经光刻机对P电极区域进行保护以便进行后续刻蚀。整个过程包括：涂胶、烘干、曝光和显影、清洗等全部或大部分步骤。涂胶：涂敷光刻胶之前，将洗净的晶圆表面涂上附着性增粘剂，可增加光刻胶与晶圆间的粘附能力，防止显影时光刻胶图形的脱落以及防止湿法腐蚀时产生侧面腐蚀。光刻胶的涂敷是用转速和旋转时间可自由设定的匀胶机来进行的，首先，用真空吸引法将晶圆吸在匀胶机的吸盘上，将具有一定粘度的光刻胶滴在晶圆的表面，然后以设定的转速和时间匀胶（旋转盘加速至30005000r/min的转速）。利用高速旋转时的离心力180、使光刻胶展开在晶圆片表面；降低转速，使多余的光刻胶飞出晶圆片表面（估算光刻胶在晶圆片的上胶率约为32%，剩余被甩脱进入废有机溶剂中），在晶圆片表面得到均匀的光刻胶膜覆盖层；机械旋转晶圆片，直至光刻胶膜干燥。涂胶过程中，采用稀释剂对晶圆片背面进行清洗，以避免边缘多余光刻胶的粘附 烘烤：光刻胶主要是由对光与能量非常敏感的高分子聚合物和有机溶剂组成。高分子聚合物是光刻胶的主体，有机溶剂是光刻胶的介质。为了使光刻胶附着在晶圆表面，涂胶后要进行软烤，在80左右的热板机中、惰性气体环境下烘烤1530分钟，去除光刻胶中的溶剂。光刻胶中的有机溶剂挥发成废气经有机废气收集系统收集处理，而光刻胶中的高分子聚合物作181、为涂层牢固地附着在晶圆的表面，获得一定厚度的光刻胶膜。曝光：光刻胶层随后透过掩模版(Mask)被曝光在紫外线(UV)之下，变得可溶，期间发生得化学反应类似按下机械相机快门那一刻胶片地变化。掩模上印着预先设计好得电路图案，紫外线透过它照在光刻胶层上，就会形成微处理器的每一层电路图案，该过程中的掩模版全部外购，本项目不涉及制版。显影：将曝光后的外延片浸在显影液中60秒钟，则正光刻胶的曝光部分被溶解。显影在常温下进行，方式为在显影液中浸泡60秒。显影槽槽体尺寸25cm 25cm，每批可显影晶圆30片，通常显影16批更换一次显影液。此过程产生的废显影液。清洗：使用纯水对每次光刻显影后的晶圆片表面进行清182、洗，通过超声清洗机实现（曝光显影室内含14槽超声清洗机），且在清洗过程中需加入洗利隆，清洗后的晶圆用氮气进行吹干处理。清洗废水进入相应的废水处理系统进行处理。xx镀膜指在xx零件表面上镀上一层(或多层)金属(或介质)薄膜的工艺过程，目的是为了达到减少或增加光的反射、分束、分色、滤光、偏振等要求，本项xxxx光电科技股份有限公司xx分公司年产 5000 万颗（件/套）智能光电子元器件项目环境影响报告表 42 目采用的镀膜法有真空镀膜和气相沉积。具体介绍如下：真空镀膜：镀膜原料主要为二氧化硅、五氧化三钛、氟化镁、三氧化二铝、铝铜、氮化铝、钼、铝等，镀膜采用高温真空镀膜和阴极溅射镀，将需镀膜的晶圆放183、到镀膜室，抽空后将膜料加热到200以上高温，使蒸汽达到约13.3Pa而使蒸汽分子飞到基体表面，凝结而成薄膜；阴极溅射镀是将需镀膜的基体放在阴极对面，把惰性气体(如氩)通入已抽空的室内，保持压强约1.3313.3Pa，然后将阴极接上2000V的直流电源，便激发辉光放电，带正电的氩离子撞击阴极，使其射出原子，溅射出的原子通过惰性气氛沉积到基体上形成膜。气相沉积：是指在真空条件下，利用低电压、大电流的电弧放电技术，利用气体放电使得靶材蒸发并使得被蒸发物质与气体都发生电离，利用电场的加速作用，使被蒸发物质与其反应产物沉积在工件表面。本项目采用气相沉积的物质包括正硅酸乙酯、三甲基铝、硼酸三甲酯、磷酸三甲184、酯、六氟化钨、磷化氢、硼烷、砷烷、氨气等，气相沉积化学反应方程式见图4。该化学反应生产的气体以及未完全参与反应的气体（磷化氢、硼烷、砷烷、氢气等）则通过设备自带的燃烧装置燃烧处理后，再通过管道收集至碱喷淋+除湿+光催化氧化+活性炭（二级）处理后最终通过不低于25m的气筒排放。喷砂：项目镀膜辅助工序包含了一道喷砂工序，主要是对镀膜机内的挡板等部分设备部件进行喷砂处理，属于对镀膜设备的一种维护方式。喷砂工艺采用压缩空气为动力形成高速喷射束，将棕刚玉砂喷射到需处理工件表面，使工件外表面的外表发生变化，由于磨料对工件表面的冲击和切削作用，使工件表面获得一定的清洁度和不同的粗糙度，改善工件表面的机械性能185、。图图 4 项目气相沉积主要化学反应项目气相沉积主要化学反应 镀膜之后需进行刻蚀，本项目以湿法刻蚀为主，约10%的产品采用干法刻蚀。湿法刻蚀：本项目湿法刻蚀属于化学过程，主要是利用化学溶液溶解晶圆表面的材质，刻蚀后产品可分为气体、液体或是可溶解在刻蚀溶液中的材质。本项目湿法刻蚀分别在自动剥离机和全自动腐蚀清洗机内完成。湿法刻蚀工序可细化为腐xxxx光电科技股份有限公司xx分公司年产 5000 万颗（件/套）智能光电子元器件项目环境影响报告表 43 蚀、清洗以及干燥三个过程。腐蚀：实际生产过程中又可根据晶圆表面需刻蚀的物质不同而采用不同的刻蚀液，其中二氧化硅的湿法刻蚀液主要为BOE；硅或多晶硅晶186、圆湿法刻蚀需要用到的刻蚀液为硝酸、氢氟酸和水（或醋酸）混合溶液，醋酸的作用抑制硝酸的分解，使硝酸的浓度维持在较高的水平；铝的湿法刻蚀则采用磷酸、醋酸、硝酸以及水混合液；钛的湿法刻蚀则需要双氧水和硫酸按照1:1混合进行刻蚀。BOE刻蚀液主要对二氧化硅进行刻蚀（该工序在自动剥离机内完成），具体刻蚀过程如下：将晶圆浸在BOE刻蚀液中半小时，采用电加热，将其刻蚀温度设置在60（BOE刻蚀液由氢氟酸HF和氟化铵NH4F依比例混合而成，该过程中NH4F在反应中作为缓冲剂，通过分解反应生产HF，从而维持了HF的核定浓度），刻蚀速度约为10nm每秒，该过程发生的化学反应方程式如下：SiO2+6HF SiF6+187、H2O+H2 本项目硅或多晶硅湿法刻蚀则在全自动腐蚀清洗机内完成，主要是用氢氟酸和二氧化硅反应去掉二氧化硅，需要用到的刻蚀液为硝酸、氢氟酸和水（或醋酸）的混合溶液，醋酸的作用抑制硝酸的分解，使硝酸的浓度维持在较高的水平其发生的化学反应式如下：Si+HNO3+6HF H2SiF6+HNO2+H2O+H2 铝的湿法刻蚀在自动剥离机内完成，需采用80%磷酸、5%醋酸、5%硝酸和10%水混合溶液，其中硝酸使铝氧化，同时磷酸移除被氧化的铝，醋酸作用在于减低硝酸的氧化速度，其对应的化学反应方程式如下：2Al+6HNO3 AL2O3+3H2O+6NO2 AL2O3+2H3PO4 2ALPO4+3H2O 钛的188、湿法刻蚀在自动剥离机内完成，双氧水和硫酸按1:1混合，双氧水将钛氧化成二氧化钛，将硅和硅化物氧化成二氧化硅，硫酸和二氧化钛反应（同时移除它），不和二氧化硅反应，具体反应方程式如下：H2O2+Ti+H2SO4 TiO(SO4)+H2O+H2清洗：刻蚀后即进入清洗，目的在于选择性去除不必要的部分，自动剥离机刻蚀后将晶圆放入离心清洗机内进行清洗，清洗所用介质依工序不同会有组合变化，一般在药液（无机酸溶液、有机溶剂等，工作温度为常温）清洗后进行三级纯水逆流漂洗。总体清洗流程详见图 5。xxxx光电科技股份有限公司xx分公司年产 5000 万颗（件/套）智能光电子元器件项目环境影响报告表 44 图图 5189、 湿法刻蚀后工艺流程图湿法刻蚀后工艺流程图 干燥：清洗后直接进入去水槽，利用压缩氮气将晶圆表面吹干或者是采用无水乙醇进行表面去水处理。干法刻蚀：约10%的产品采用干法刻蚀，干法蚀刻又可分为物理刻蚀和化学刻蚀或者物理+化学刻蚀三种方式，而本项目采用的刻蚀为物理+化学结合的方法，即反应离子蚀刻，通过电感耦合等离子刻蚀机完成。具体操作如下：通入气体（惰性气体以及反应气体）使用电感耦合等离子体辉光放电将其分解，产生的具有强化学活性的等离子体在电场的加速作用下移动到样品表面，对样品表面既进行化学反应生成挥发性气体，又有一定的物理刻蚀（惰性气体）作用。实际操作中，企业根据表面刻蚀的物质不同而采用不同的刻蚀190、气体，同时掺入氧气、氢气、氩气、氙气、氖气、氮气等惰性气体，用以提高选择比。经调查，二氧化硅等氧化物的干法刻蚀需使用氟系气体（本项目涉及到的含氟气体包括六氟化硫、八氟环丁烷、六氟乙烷、三氟甲烷、二氟甲烷、氟甲烷、四氟化碳）；单晶硅干法刻蚀用溴系气体（溴化氢、三溴化硼）；多晶硅和金属(铝、钼等)的刻蚀使用氯系气体（氯化氢和氯气），干法刻蚀过程中不涉及清洗，全部用氮气进行吹扫处理。干法刻蚀的原理：整个湿法刻蚀过程会产生废刻蚀液、刻蚀废气和酸性废水，整个干法刻蚀过程会产生废气。去胶：经刻蚀完成图形复制以后，需使用光刻胶去除剂、NMP缓冲液、二甲基亚砜以及HF酸等去胶液，将其均匀的喷洒在晶圆表面，使其191、充分与光刻胶反应，使其溶解，该过程通过等离子去胶机实现，会产生去胶废气和去胶废液。剥离和清洗：将去除光刻胶后的晶圆全部浸泡在异丙醇或者丙酮内，使其表面xxxx光电科技股份有限公司xx分公司年产 5000 万颗（件/套）智能光电子元器件项目环境影响报告表 45 的不需要成分全部溶解，该过程被称之为剥离，剥离工序会产生剥离废液、剥离废气。剥离完成则进入清洗工序，清洗过程在超声波清洗机内完成，且清洗过程中需添加洗利隆，主要为螯合剂、硫酸钠、磺酸盐、磷酸酯盐、烷基醇酰胺型等，清洗时密闭操作，仅在晶圆进出时才开盖，该过程会产生清洗废水。表面去水：清洗后的晶圆需进行再次进行表面去水处理，表面去水操作同前所192、述，再次不再重复赘述。xx检测：使用探针台和测试机对半成品的光波、亮度等参数进行检验，经检验合格后进入后续将加工，若不合格，则直接返回前述工序。单面减薄：采用减薄机对材料表面进行研磨，达到产品厚度要求，同时确保晶圆易于切割，采用湿法减薄工艺，打薄时，减薄机上部滴水至晶圆上，并从下部排出，用以降温。此过程会产生研磨废水。酸洗：减薄后的晶圆需进行清洗，该过程中需要先进行酸洗，之后再进行常规的清洗，整个过程在APM清洗机（又名全自动腐蚀清洗机）内完成，实现干进干出，每批次50片的高效清洗。该设备整体规格为（5m*2.3m*2.6m），内设6个槽子（1个混酸槽、2个喷淋清洗槽、1个浸泡槽、1个漂洗槽以193、及1个烘干槽），各槽子大小规格一致，内槽尺寸为0.45 m*0.3m*0.35m。流程示意详见图6。清洗过程中会产生清洗废水和酸性废水，此外还有少量的酸雾等。图图 6 减薄后的酸洗工艺流程图减薄后的酸洗工艺流程图 精密切割和表面去水：采用湿法切割工序，切割成产品所需的尺寸，之后再进行表面去水处理。组装：人工组装，将各部分电子器件组装成最终客户所需的产品。检测：使用探针台和测试机对产品的尺寸、电压、波长、亮度等参数进行检1机械手臂纯水管气管N2纯水管气管N22机械手臂2.3m5.5m区料下干燥槽6#喷淋槽5#隆）（洗利浸泡槽4#漂洗槽3#喷淋槽2#混酸槽1#区料上抽风区+管路阀门xxxx光电科技194、股份有限公司xx分公司年产 5000 万颗（件/套）智能光电子元器件项目环境影响报告表 46 验，经检测合格后即为成品，经包装入库待售。生物识别xx光电子元器件 图图7 生物识别xx生物识别xx光电子元光电子元器件工艺器件工艺流程图流程图 工艺流程简述：工艺流程简述：划片：该产品主要采用玻璃等原料，通过内圆切割机等设备进行划片，将大尺寸原料分割成小尺寸，切割过程在切割液喷淋下进行。研磨及清洗：将研磨砂、研磨液和浓水按10:1:50的比例调配成研磨剂，用研磨机在研磨剂喷淋冷却下对玻璃表面进行研磨加工，研磨过程中的废液通过设备自带回收装置回收后循环使用，定期更换。研磨后即进行清洗，该过程在离心清洗195、机内完成，离心清洗机喷淋速率为1t/h（约16.6L/min）。精雕及清洗：精雕属于精细加工，该过程在精雕机内完成，且精雕过程中需使用切割液，抛光：为了确保玻璃边缘表面的加工精度和较高的生产效率，首先利用抛光机对玻璃边缘进行抛光，抛光过程需使用抛光液，抛光液和水按比例配合通过修频机喷淋在玻璃表面。超声波清洗：抛光完成后的半成品清洗需使用纯水超声波清洗方法清洗玻璃表面，该过程在14槽超声波清洗机内完成。镀膜：同前面半导体零部件加工过程中的镀膜工序，本报告不重复赘述。超声波清洗：同前，在14槽超声波清洗机内完成该过程。质控及包装：对生物识别xx光电子元器件进行成品品质管制，符合要求的即进入后续一个196、包装流程，不符合要求的则进行返工，包装之后即可得到成品。切割液外捆包OQC内捆包W2清洗废水纯水、洗利隆超声波清洗G3喷砂粉尘喷砂镀膜材料镀膜W2清洗废水纯水、洗利隆W7精雕废水切割液水成品FQC成品品质管制超声波清洗W8抛光废液抛光液、水抛光精雕及清洗W4研磨废水研磨液水研磨及清洗划片水晶/玻璃xxxx光电科技股份有限公司xx分公司年产 5000 万颗（件/套）智能光电子元器件项目环境影响报告表 47 成像xx部品及组件具体工艺流程详见图8。图图8 成像xx部品及组件工艺流程图成像xx部品及组件工艺流程图 工艺流程简述工艺流程简述：本项目生产工艺中的划片、研磨、精雕、镀膜、清洗等工序与生物识197、别xx光电子元器件基本相同，不再重复赘述。后续加工过程中为改善玻璃滤光片的xx性能，需采用精密丝印机在玻璃滤光片上形成膜层（不涉及制版）。将玻璃滤片贴附在含有UV胶的UV膜上固定以便于后续切割工序；切割成产品要求的尺寸后，通过UV光照射完成解膜（UV膜失去粘性从而与玻璃滤片分离），得到产品滤光片。本项目使用的油墨量较少，全年消耗量仅为0.5t，且使用的是UV油墨（属于能量固化油墨），使用之前无需调配，可直接将购买的油墨放置密闭的精密丝印机上进行作业。由于企业内部不涉及制版，且委外制备的网版可重复使用，不产生废网香、石蜡膜、松UVG9贴膜废气W2清洗废水成品镜头锁附组装覆膜镜座清洗组装光UVS7198、膜UV废解膜纯水、洗利隆W6切割废水切割香、石蜡膜、松UV贴膜G8印刷废气油墨印刷W1清洗废水纯水、洗利隆清洗镀膜载材维护镀膜材料镀膜W2清洗废水纯水清洗W8抛光废液水抛光水划片G3喷砂粉尘W7精雕废水精雕及清洗W4研磨废水水研磨及清洗玻璃xxxx光电科技股份有限公司xx分公司年产 5000 万颗（件/套）智能光电子元器件项目环境影响报告表 48 版。同时由于该丝印机仅使用单一的油墨，因此正常情况下，不涉及印刷机清洗，若因人工操作，不小心有油墨洒出，则通过抹布进行擦拭，擦拭后的抹布作为危险废物处置。镜头通过锁付机进行自动锁附组装，再采用粘合剂（松香、石蜡）将UV膜覆在镜头上，镜座通过清洗风干后199、与镜片和镜头一起组装成成品。2.12 主要污染工序主要污染工序及污染及污染物类型物类型 本项目主要污染工序及主要污染种类和污染因子详见表24。表表24 主要污染工序及污染物汇总表主要污染工序及污染物汇总表 类别 名称 主要产污工序 主要污染因子（固体废物显示主要成分）废气 乙醇废气 G1 表面去水、无尘车间清洁 乙醇 涂胶废气 G2 光刻涂胶工序 非甲烷总烃 喷砂粉尘 G3 镀膜机维护 颗粒物 气相沉积废气 G4 气相沉积 氟化物、二氧化氮、氯化氢、二氧化碳等 湿法刻蚀废气 G5 湿法刻蚀工序 HF、HCl 等 干法刻蚀废气 G6 干法刻蚀工序 Cl2、氟化物、二氧化氮、CO2 去胶废气 G7200、 去胶工序 NMP、二甲基亚砜、HF 剥离废气 G8 剥离工序 异丙醇、丙酮 酸洗废气 G9 减薄后酸洗 氯化氢、硫酸雾、氟化物等 印刷废气 G10 印刷工序 非甲烷总烃 贴膜、覆膜废气 G11 贴膜、覆膜 松香、石蜡 污水站废气 G12 污水处理 臭气浓度 废水 生产废水 晶圆清洗废水 W1 晶圆清洗 CODcr、SS 超声波清洗废水 W2 显影、剥离、抛光等工序后的清洗 pH、CODcr、氟化物、氨氮、石油类、LAS、SS、总磷 湿法刻蚀清洗废水 W3 湿发刻蚀 pH、CODcr、氟化物、石油类 研磨及研磨清洗废水 W4 研磨工序 CODcr、NH3-N、SS 酸洗废水 W5 减薄后酸洗 201、pH、CODcr、SS、氟化物、NH3-N、切割废水 W6 切割工序 CODcr、SS 精雕及清洗废水 W7 精雕及精雕清洗工序 CODcr 抛光废液 W8 抛光工序 pH、CODcr、总氮 纯水制备浓水 W9 纯水制备 盐分、钙离子 喷淋废水 W10 废气处理 pH、CODcr、氟化物 生活污水 W11 冲厕、洗手等 CODcr、NH3-N 噪声 运行噪声 设备运行 Leq(A)固体废物 乙醇废液 S1 表面去水 乙醇废液 涂胶废液 S2 光刻涂胶 光刻胶、稀释剂、聚酰亚胺原液、增粘剂 废显影液 S3 曝光显影 碳酸钠、水 刻蚀废液 S4 刻蚀 HF、HCl等 去胶废液 S5 去胶 二甲基亚202、砜、BOE、NMP 剥离废液 S6 剥离 异丙醇、丙酮 废 UV膜 S7 解膜 UV膜 xxxx光电科技股份有限公司xx分公司年产 5000 万颗（件/套）智能光电子元器件项目环境影响报告表 49 玻璃边角料 S8 切割、划片、研磨、检验 玻璃 喷砂工序收集的颗粒物 S9 喷砂废气治理 颗粒物 废包装材料 S10 原料包装 纸盒、塑料 化学试剂包装桶（瓶）S11 化学试剂包装 丙酮、乙醇、共聚物、环氧树脂、丙二醇单甲醚乙酸酯等 废 UV 灯管 S12 UV 固化 含汞的废UV灯管 废反渗透膜 S13 纯水制备 反渗透膜 废活性炭 S14 废气治理 活性炭 废过滤棉 S15 废气治理 废过滤棉 203、废抹布 S16 擦拭 油墨、乙醇、抹布 污泥 S17 废水处理 污泥 废劳保用品 S18 工作服 非织造布 生活垃圾 S19 生活 人员生活 与项目有关原有环境污染问题 与项目有关的原有环境污染问题 本项目为新建项目，不存在与项目有关的原有环境污染问题。此外，根据xx省工业企业“零土地”技术改造项目备案通知书可知，本项目光刻机、匀胶显影设备、刻蚀设备、PVD装置、激光切割设备、晶圆切割机、镜面研磨机、精雕机、xx检测机、套刻精度测量设备、原子力显微镜、激光椭偏仪等部分设备来源于原xxxx光电科技股份有限公司。xxxx光电科技股份有限公司成立于2010年，位于xx经济技术开发区20号大街578号204、，与本项目不属于同一行政区。xxxx光电科技股份有限公司xx分公司年产 5000 万颗（件/套）智能光电子元器件项目环境影响报告表 50 三、三、区域环境质量区域环境质量现状、环境保现状、环境保护目标及评价标准护目标及评价标准 区域 环境 质量 现状 3.1 环境空气质量现状环境空气质量现状 具体内容详见大气专项评价中的7.4环境空气质量现状评价。3.2 地表水环境质量现状地表水环境质量现状 项目附近的水体为企业北侧的二号直河和西侧的河道，根据xx省水功能区水环境功能区划分方案(2015)，二号直河和西侧河道均属于新塘河支流，新塘河属杭嘉湖平原河网（杭嘉湖47），水环境功能区为景观娱乐、农业用205、水区，水环境质量执行地表水环境质量标准（GB3838-2002）类标准。项目附近水功能区划具体见下表25。表表25 项目水环境功能区划项目水环境功能区划 名称 水功能区 水环境功能区 河流 起始断面 终止断面 目标水质 杭嘉湖47 新塘河xx景观娱乐、农业用水区 景观娱乐、农业用水区 新塘河 xx翁家埠1202018E 302225N xx镇xx120 3225E 302409N 类 为了解项目所在地地表水水环境质量状况，本报告引用xx科峰有机硅有限公司年新增2万吨环保纺织助剂复配项目环境影响报告表中已有的地表水环境质量现状监测数据进行现状评价。鉴于xx科峰有机硅有限公司东侧300m处河道与本206、项目东侧360m处的河道为同一条河道，且从地表水监测至今，该河段（新塘河支流）水域内未发生重大废水污染源的收纳变化，监测时间未超过三年，因此项目引用该监测数据具有可行性和时效性。具体监测内容如下：监测因子：pH、DO、CODcr、NH3-N、BOD5、CODMn、石油类、TP。监测点位：xx科峰有机硅有限公司东侧300m处河道（大堤河）监测断面，具体监测点与本项目的位置关系见表26。表表26 水环境质量监测断面与项目的位置关系水环境质量监测断面与项目的位置关系 监测对象 监测断面 与本项目相对位置 与本项目距离 相对位置示意 xx科峰有机硅有限公司东侧300m处河道 120 2436.50E 207、302157.08N 东北 2.3km 见附图5 监测时间：2020年 3月 9日2020年 3月 11日。评价标准：执行地表水环境质量标准（GB3838-2002）中的类标准。评价方法：采用导则推荐的单因子指数评价法对项目所在区域的地表水环境质量现状进行评价，公式如下：一般水质因子的标准指数siijijCCS=xxxx光电科技股份有限公司xx分公司年产 5000 万颗（件/套）智能光电子元器件项目环境影响报告表 51 式中：Sij评价因子的标准指数；Cij污染物浓度监测值，mg/L；Csi水污染物标准值，mg/L。pH值的标准指数式中：SpHjpH的标准指数；pHjpH实测统计代表值；pHs208、d评价指标中pH的下限值；pHsu评价指标中pH的上限值。溶解氧（DO）标准指标式中：SDOjDO在j点的标准指数，mg/L；DOjDO在j点的浓度，mg/L；DOf饱和溶解氧浓度，mg/L；DOs溶解氧的地面水质标准，mg/L；T温度，。水质因子的指标指数1时，表明该水质因子在评价水体中的浓度符合水域功能及水环境质量标准的要求；水质因子的指标指数1时，表明该水质因子在评价水体中的浓度不符合水域功能及水环境质量标准的要求，水体已受到污染，指数越大，污染程度越重。监测结果：监测及评价结果具体见表27。xxxx光电科技股份有限公司xx分公司年产 5000 万颗（件/套）智能光电子元器件项目环境影响209、报告表 52 表表27 水质监测及评价结果单位：水质监测及评价结果单位：mg/L（pH无量纲）无量纲）监测 断面 监测因子 pH DO CODMn BOD5 NH3-N CODcr 石油类 TP xx科峰有机硅有限公司东侧300m处河道 监测 结 果 2020.3.9 8.59 6.17 9.60 7.18 1.02 40 0.01 0.195 2020.3.10 8.62 6.18 8.48 8.08 1.08 42 0.02 0.299 2020.3.11 8.65 6.16 9.76 7.99 1.05 40 0.02 0.297 类标准限值 69 3 10 6 1.5 30 0.5 0210、.3 最大标准指数/0.643 0.976 1.347 0.72 1.4 0.04 0.997 达标情况/达标 达标 不达标 达标 不达标 达标 达标 由上表可知，监测断面的水污染因子中CODcr和BOD5不能达地表水环境质量标准（GB3838-2002）IV类水质标准；除此之外，其余因子均能达地表水环境质量标准（GB3838-2002）IV类水质标准，水质总体评价为V类水。CODcr和BOD5主要超标原因是上游来水水质较差，加上农发区部分内河河水水量较小，河水的流动性差，自净能力弱。随着xx省“五水共治”以及水污染防治行动计划的全面启动，全省各地均加大城镇基础设施改造和新建力度、扩大截污纳管211、范围、紧抓工业转型和农业转型，将污水治理作为首要任务完成，项目所在区域附近地表水体水环境质量将会得到一定的改善。3.3 声环声环境质境质量现状监测量现状监测 本项目厂界外周边50m范围内无声环境保护目标，因此不进行声环境质量现状监测。3.4 地下水环境质量现地下水环境质量现状监测状监测 根据建设项目环境影响报告表编制技术指南(污染影响类)(试行)，“地下水、土壤环境，原则上不开展环境质量现状调查。建设项目存在土壤、地下水环境污染途径的，应结合污染源、保护目标分布情况开展现状调查以留作背景值”。为了解建设项目拟建地周边地下水的环境质量状况，出租方（xxxx光学半导体有限公司）曾于2020年3月9212、日委托xxxx检测科技有限公司对厂区地下水进行环境质量现状监测，本报告将直接引用监测结果进行分析与评价。监测点位：在xxxxxx半导体有限公司厂区内，具体点位见附图9；监测内容：K+、Na+、Ca2+、Mg2+、CO32-、HCO3-、Cl-、SO42-、pH、氨氮、硝酸盐、亚硝酸盐、氟化物、氯化物、挥发性酚类、氰化物、溶解性总固体、硫酸盐、汞、砷、镉、铅、六价铬、铁、锰、总硬度、阴离子表面活性剂和地下水水位。监测时间与频次：2020年3月9日，监测1天，共1次；监测结果：监测及评价结果见表28至表30。xxxx光电科技股份有限公司xx分公司年产 5000 万颗（件/套）智能光电子元器件项目环213、境影响报告表 53 表表28 地下水监测点水位地下水监测点水位 采样时间 采样点位 水位（m）2020年3月9日 1#地下水监测点A 1.07 2#地下水监测点B 0.95 3#地下水监测点 C 1.03 4#地下水监测点 D 1.12 5#地下水监测点 E 1.05 6#地下水监测点 F 1.09 表表29 八大八大离子监测离子监测结果结果 采样采样 时间时间 采样点位采样点位 项目名称及单位项目名称及单位 监测点A 监测点B 监测点C 2020.3.9 阳离子 钾mg/L 4.36 4.26 5.36 钾 1（价态）mmol/L 0.11 0.11 0.14 钠mg/L 98.2 80.2214、 120 钠 1（价态）mmol/L 4.27 3.51 5.22 钙mg/L 49.0 42.2 53.4 钙 2（价态）mmol/L 2.45 2.11 2.67 镁mg/L 10.4 9.23 17.0 镁 2（价态）mmol/L 0.87 0.77 1.42 阳离子合计mmol/L 7.70 6.50 9.44 阴离子 碳酸盐mg/L ND(1.00)ND(1.00)ND(1.00)碳酸盐 2（价态）mmol/L ND(0.02)ND(0.02)ND(0.02)重碳酸mg/L 215 178 261 重碳酸盐 1（价态）mmol/L 3.52 2.92 4.28 氯离子mg/L 109215、 99.0 112 氯离子 1（价态）mmol/L 3.07 2.79 3.15 硫酸根离子mg/L 46.8 40.6 64.3 硫酸根离子 2（价态）mmol/L 0.98 0.85 1.34 阴离子合计mmol/L 7.57 6.55 8.77 相对误差E%-0.85%0.38%-3.68%注：ND表示未检出，括号内数据代表方法检出限。根据对八大离子的监测结果统计分析可知，项目所在区域地下水中阴阳离子平衡状态相对误差在-3.68%0.38%之间。检测数据误差绝对值在 5%以内，因此项目所在区域地下水中阴阳离子基本能够达到相对平衡的状态。表表 30 地下水监测结果地下水监测结果 采样点位采216、样点位 监测因子监测因子 监测点A 监测点B 监测点C 评价标准 监测结果 标准指数 监测结果 标准指数 监测结果 标准指数 pH无量纲 7.30 0.15 7.15 0.075 7.32 0.16 5.5pH6.5 8.5pH9.0 氨氮 mg/L 0.381 0.254 0.363 0.242 0.422 0.281 1.5 硝酸盐 mg/L 0.370 0.012 1.96 0.065 1.29 0.043 30.0 亚硝酸盐 mg/L ND/ND/ND/4.80 氟化物 mg/L ND/ND/ND/2.0 氯化物 mg/L 109 0.311 99.0 0.283 112 0.320 217、350 挥发酚 mg/L ND/ND/ND/0.01 氰化物 mg/L ND/ND/ND/0.1 xxxx光电科技股份有限公司xx分公司年产 5000 万颗（件/套）智能光电子元器件项目环境影响报告表 54 溶解性总固体 mg/L 522 0.261 452 0.226 622 0.311 2000 硫酸盐 mg/L 46.8 0.134 40.6 0.116 64.3 0.184 350 汞 g/L ND/ND/ND/0.002 砷 g/L ND/ND/ND/0.05 镉 g/L ND/ND/ND/0.01 铅 g/L ND/ND/ND/0.10 六价铬 mg/L ND/ND/ND/0.10218、 铁 mg/L ND/ND/ND/2.0 锰 mg/L ND/ND/ND/1.50 总硬度 mg/L 162 0.249 142 0.218 178 0.274 650 阴离子表面活性剂mg/L ND/ND/ND/0.3 注：ND表示未检出。依据地下水质量标准（GB/T14848-2017）中的地下水质量分类原则、区域地下水使用功能，参照周边地表水水环境功能区，地下水执行地下水质量标准（GB/T14848-2017）IV类。根据监测结果分析，地下水监测数据中八大离子基本趋于平衡，水质监测数据有效。项目拟建地周边地下水现状良好，各监测指标标准指数均小于1，能满足地下水质量标准（GB/T14848219、-2017）IV类标准限值。3.5 土壤环境质量现状土壤环境质量现状 根据建设项目环境影响报告表编制技术指南（污染影响类）（试行），原则上不开展环境质量现状调查。建设项目存在土壤、地下水环境污染途径的，应结合污染源、保护目标分布情况开展现状调查以留作背景值。本项目不存在土壤、地下水环境污染，鉴于出租方（xxxxxx半导体有限公司）已于2020年3月9日对土壤进行了现状监测，因此本报告将直接引用现有的厂区内的土壤监测报告，以留作背景值。具体监测内容如下：监测点位：在xxxxxx半导体有限公司厂区内，具体点位见附图9；监测因子：砷、镉、铬（六价）、铜、铅、汞、镍、四氯化碳、氯仿、氯甲烷、1,1-二220、氯乙烷、1,2-二氯乙烷、1,1-二氯乙烯、顺-1,2-二氯乙烯、反-1,2-二氯乙烯、二氯甲烷、1,2-二氯丙烷、1,1,1,2-四氯乙烷、1,1,2,2-四氯乙烷、四氯乙烯、1,1,1-三氯乙烷、1,1,2-三氯乙烷、三氯乙烯、1,2,3-三氯丙烷、氯乙烯、苯、氯苯、1,2-二氯苯、1,4-二氯苯、乙苯、苯乙烯、甲苯、间二甲苯+对二甲苯、邻二甲苯、硝基苯、苯胺、2-氯酚、苯并a蒽、苯并a芘、苯并b荧蒽、苯并k荧蒽、二苯并a,h蒽、茚并1,2,3-cd芘、萘、石油烃（C10-C40）；监测时间与频次：2020年3月9日，监测1天，共1次；监测结果：土壤理化特性调查表见表31，监测及评价结果见221、表32。xxxx光电科技股份有限公司xx分公司年产 5000 万颗（件/套）智能光电子元器件项目环境影响报告表 55 表表 31 理化特性调查表理化特性调查表 监测点位 1#监测时间 2020.3.9 经纬度 1202409.06E，302059.83N 取样深度 0-0.2 现场 记录 颜色 棕 结构 团粒 质地 砂壤 砂砾含量 17 其他异物 根系 实验室测定 pH无量纲 0.82 阳离子交换量cmol/kg 25.7 氧化还原电位mV 386 饱和导水率cm/s 5.4*10-6 土壤容重g/cm3 1.31 孔隙度%55 表表 32 土壤土壤监测结果监测结果单位：单位：mg/kg 监测222、点位监测点位 检测检测项项目目 监测结果监测结果 第二类用地筛选值第二类用地筛选值 结论结论 3#汞 0.117 38 低于第二类用低于第二类用地筛选值地筛选值 砷 12.0 60 铜 20 18000 镍 21 900 铅 15.4 800 镉 0.107 65 六价铬 ND 5.7 石油烃（C10-C40）21.8 4500 2#汞 0.135 38 砷 15.6 60 铜 19 18000 镍 22 900 铅 17.6 800 镉 0.130 65 六价铬 ND 5.7 石油烃（C10-C40）18.1 4500 1#铜 22 18000 铅 18.1 800 六价铬 ND 5.7 砷223、 13.2 60 汞 0.121 38 镍 23 900 镉 0.133 65 四氯化碳 ND 2.8 氯仿 ND 0.9 氯甲烷 ND 37 1,1-二氯乙烷 ND 9 1,2-二氯乙烷 ND 5 1,1-二氯乙烯 0.07 66 顺式-1,2-二氯乙烯 ND 596 xxxx光电科技股份有限公司xx分公司年产 5000 万颗（件/套）智能光电子元器件项目环境影响报告表 56 反式-1,2-二氯乙烯 ND 54 二氯甲烷 0.04 616 1,2-二氯丙烷 ND 5 1,1,1,2-四氯乙烷 ND 10 1,1,2,2-四氯乙烷 ND 6.8 四氯乙烯 ND 53 1,1,1-三氯乙烷 ND224、 840 1,1,2-三氯乙烷 ND 2.8 三氯乙烯 ND 2.8 1,2,3-三氯丙烷 ND 0.5 氯乙烯 ND 0.43 苯 ND 4 氯苯 ND 270 1,2-二氯苯 0.02 560 1,4-二氯苯 ND 20 乙苯 ND 28 苯乙烯 ND 1290 甲苯 0.016 1200 间二甲苯+对二甲苯 ND 570 邻二甲苯 ND 640 硝基苯 ND 76 苯胺 ND 260 2-氯苯酚 ND 2256 苯并(a)蒽 ND 15 苯并(a)芘 ND 1.5 苯并(b)荧蒽 ND 15 苯并(k)荧蒽 ND 151 ND 1293 茚并(1,2,3-cd)芘 ND 1.5 二茚并(225、a,h)蒽 ND 15 萘 ND 70 石油烃（C10-C40）21.3 4500 注：ND表示未检出。由监测数据可知，项目所在地土壤环境质量低于土壤环境质量建设用地土壤污染风险管控标准（试行）(GB36600-2018)第二类用地筛选值标准。3.6 生态环境质量生态环境质量现状现状 本项目建设地址位于xx农业对外综合开发区内，且利用现有的闲置厂房，项目用地范围内无生态环境保护目标，故本项目不进行生态现状调查。环境 保护 目标 3.7 主要环境保护目标主要环境保护目标 1、大气环境 厂界外2.5km评价范围内的环境空气保护目标详见大气专项中的表76。2、声环境 xxxx光电科技股份有限公司xx226、分公司年产 5000 万颗（件/套）智能光电子元器件项目环境影响报告表 57 厂界外50米范围内无声环境保护目标。3、地下水环境 厂界外500米范围内无地下水集中式饮用水水源和热水、矿泉水、温泉等特殊地下水资源。4、生态环境 本项目选址位于xx农业对外综合开发区内，利用现有厂房不新增用地，且项目所在地周围不涉及生态环境保护目标。污染 物排 放控 制标 准 3.8 废废气气污染污染物排物排放标准放标准 本项目运营期，光刻、去胶等工序产生的废气经“碱喷淋+除湿+光催化氧化+活性炭（二级）”吸附处理后通过DA001和DA002排气筒排放，喷砂粉尘经布袋除尘装置处理后通过DA003排气筒排放，印刷工序227、产生的非甲烷总烃经活性炭吸附处理后通过DA004排气筒排放。印刷废气排放需执行印刷工业大气污染物排放标准（GB41616-2022）中表1大气污染物排放限值，具体限值见表33；其余工序产生的非甲烷总烃、硫酸雾、氟化物、氯化氢、氯气、二氧化氮以及喷砂工序产生的颗粒物排放执行大气污染物综合排放标准（GB16297-1996）中的表2标准，异丙醇、丙酮执行工作场所有害因素职业接触限值第1部分：化学有害因素（GBZ2.1-2019）中时间加权平均容许浓度限值，溴化氢参照执行上海市地方标准大气污染物综合排放标准（DB31/933-2015）表1标准，具体见表34；厂区内挥发性有机物无组织排放限值执行挥发228、性有机物无组织排放控制标准(GB37822-2019)中的特别排放限值，具体见表35，污水站废气排放执行恶臭污染物排放标准（GB14554-1993）中的限值，具体见表36。表表33 印刷工业大气污染物排放标准（印刷工业大气污染物排放标准（GB41616-2022）单位：单位：mg/m3 序号 污染物项目 排放限值 污染物排放监控位置 1 NMHC 30 车间或生产设施排气筒 表表34 废气排放标准废气排放标准 单位：单位：mg/m3 序号 污染物 最高允许排放浓度 最高允许排放速率 kg/h 无组织排放监控浓度 排气筒高度 二级 1 非甲烷总烃（NMHC）120 25 35 周界外浓度最高点229、 4.0 2 氮氧化物 240 25 2.85 0.12 3 颗粒物 120 25 14.45 1.0 4 硫酸雾 45 25 5.7 1.2 5 氟化物 9.0 25 0.38 20g/m3 6 氯化氢 100 25 0.91 0.2 7 氯气 65 25 0.52 0.40 xxxx光电科技股份有限公司xx分公司年产 5000 万颗（件/套）智能光电子元器件项目环境影响报告表 58 8 乙醇*317.725 66209 异丙醇*350/2.4 10 丙酮*300/3.2 11 溴化氢 5.0/0.144/注：排气筒高度处于两高度之间，用内插法计算其最高允许排放速率。注：乙醇最高允许排放浓度230、按照美国 EPA 工业环境实验室推荐的方法 D=45LD50/1000 计算。其中，乙醇的 LD50=7060mg/kg。注：据制定地方大气污染物排放标准的技术方法（GB/T3840-91）最高允许排放速率由：Q=CmRKe 求得，其中 Cm 为质量标准浓度限值 mg/m3。根据前苏联 CH245-71“居民区大气中有害物质的最大允许浓度”，乙醇最大一次允许浓度为 5mg/m3。排气筒高 25m时 R取 22，Ke取 0.6。注：根据大气污染物综合排放标准详解无组织监控点浓度限制按照环境质量标准的 4 倍取值。表表35 厂区内挥发性有机物（厂区内挥发性有机物（VOCs）无组织排放限值单位：）无231、组织排放限值单位：mg/m3 污染物 限值 限值含义 无组织排放监控位置 非甲烷总烃（NMHC）6 监控点处 1h 平均浓度值 在厂房外设置监控点 20 监控点处任意一次浓度值 表表36 恶臭污染物排放标准（恶臭污染物排放标准（GB14554-1993）序号 污染物项目 排气筒高度（m）排放量（kg/h）厂界标准限值（二级）1 氨 25 14 厂界 1.5 2 臭气浓度 25 6000（无量纲）20 3.9 废水污染物排放标准废水污染物排放标准 本项目废水包括生产废水和生活污水。本项目生产废水经xxxxxx半导体有限公司（出租方）现有的污水处理设施预处理达电子工业水污染物排放标准（GB3973232、1-2020）表1中的间接排放标准后纳入市政污水管网，其中NH3-N执行xx省人民政府批准发布的工业企业废水氮、磷污染物间接排放限值（DB33/887-2013）表1中的其他企业间接排放限值；生活污水经化粪池预处理可直接达电子工业水污染物排放标准（GB39731-2020）表1中的间接排放标准，并纳入市政污水管网，最终送至xx紫薇水务有限责任公司（xx盐仓污水处理厂）集中处理达城镇污水处理厂污染物排放标准（GB18918-2002）一级A标准后排放。本项目废水纳管标准见表37，污水处理厂尾水排放标准见表38。表表37 电子工业水污染物排放标准（电子工业水污染物排放标准（GB39731-2020233、）单位：单位：除除pH外外mg/L 污染物项目 排放限值 pH 悬浮物 CODcr 氨氮 总磷 氟化物 LAS 石油类 间接排放（电子元件）69 400 500 358.0 2020 20 注：参照xx省地方标准工业企业废水氮、磷污染物间接排放限值（DB33/887-2013）。括号外数值为水温12时的控制指标，括号内数值为水温12时的控制指标。由于本项目使用晶圆均为硅晶圆，因此，其生产过程不涉及锌、铅、镉、铬、砷、镍、银等指标。表表38 城镇污水处理厂污染物排放标准（城镇污水处理厂污染物排放标准（GB18918-2002）单位：除单位：除pH外外mg/L 污染物排放标准 pH 悬浮物 COD234、cr 氨氮 总磷 氟化物 LAS 石油类（GB18918-2002）一级A标准 69 10 50 5(8)0.5 5(8)10 1 注：括号外数值为水温12时的控制指标，括号内数值为水温12时的控制指标。3.10 噪声排放标准噪声排放标准 xxxx光电科技股份有限公司xx分公司年产 5000 万颗（件/套）智能光电子元器件项目环境影响报告表 59 项目建设地位于xx省xx市长安镇（高新区）新潮路15号，由于xx市长安镇（高新区）未划分声环境功能区，对照声环境功能区划分技术规范（GB/T15190-2014），结合项目周边环境现状及规划情况，最终确定本项目厂界噪声排放执行工业企业厂界环境噪声排放235、标准（GB12348-2008）中3类标准，具体见表39。表表39 工业企业厂工业企业厂界环境噪声排放标界环境噪声排放标准（准（GB12348-2008）类别 标准限值 评价区域 昼间 夜间 3 类 65dB(A)55dB(A)四周厂界 3.11 固体废物固体废物 固体废物的污染防治及其监督管理需执行中华人民共和国固体废物污染环境防治法和xx省固体废物污染环境防治条例中的有关规定。依据国家危险废物名录（2021年版）、危险废物鉴别标准（GB5085.15085.7-2007）和固体废物鉴别标准通则（GB34330-2017）来鉴别一般工业固体废物和危险废物。本项目产生的一般工业固体废物采用库房236、储存，根据一般工业固体废物贮存和填埋污染控制标准（GB18599-2020）中适用范围可知，采用库房、包装工具（罐、桶、包装袋等）贮存一般工业固体废物过程的污染控制，不适用该标准，其贮存过程应满足相应防渗漏、防雨淋、防扬尘等环境保护要求。危险废物暂存执行危险废物贮存污染控制标准（GB18597-2001）及其修改单中（公告2013年第36号）有关规定。总量 控制 指标 3.12 总量总量控制控制指标指标 1、控制原则 根据建设项目主要污染物排放总量指标审核及管理暂行办法(环发2014197号)，现阶段对化学需氧量、氨氮、二氧化硫、氮氧化物、烟粉尘、挥发性有机物（VOCs）、重点重金属污染物实行237、排放总量控制计划管理。2、总量控制建议值 根据工程分析确定本项目总量控制因子为CODCr、氨氮、NOx、VOCs和烟粉尘。3、总量平衡方案 根据建设项目主要污染物排放总量指标审核及管理暂行办法(环发2014197号)：用于建设项目的“可替代总量指标”不得低于建设项目所需替代的xxxx光电科技股份有限公司xx分公司年产 5000 万颗（件/套）智能光电子元器件项目环境影响报告表 60 主要污染物排放总量指标。上一年度环境空气质量年平均浓度不达标的城市、水环境质量未达到要求的市县，相关污染物应按照建设项目所需替代的主要污染物排放总量指标的2倍进行削减替代（燃煤发电机组大气污染物排放浓度基本达到燃气238、轮机组排放限值的除外）；细颗粒物（PM2.5）年平均浓度不达标的城市，二氧化硫、氮氧化物、烟粉尘、挥发性有机物四项污染物均需进行2倍削减替代（燃煤发电机组大气污染物排放浓度基本达到燃气轮机组排放限值的除外）。地方有更严格倍量替代要求的，按照相关规定执行。根据xx市生态环境局关于修订护航经济稳进提质助力企业纾困解难若干措施的通知（嘉环发20237号）文件规定：对于上一年度水环境质量达到要求的区域，化学需氧量和氨氮等污染物排放总量控制指标按所需替代总量指标的1:1进行削减替代。综合上述文件，本项目总量指标涉及化学需氧量、氨氮、氮氧化物、烟粉尘以及挥发性有机物总量，其中化学需氧量、氨氮总量需按照1:239、1进行替代削减，氮氧化物、VOC总量按照1:2进行替代削减，烟粉尘暂不实施总量替代削减。本项目实施后全厂污染物总量控制指标建议值见表40。表表40 本项目总量控制指标建议值单位：本项目总量控制指标建议值单位：t/a 类型 指标 本项目排放量 总量控制指标 替代削减比例 替代削减值 水污染物 CODCr 2.167 2.167 1：1 2.167 NH3-N 0.217 0.217 1：1 0.217 大气 污染物 烟粉尘 0.032 0.032/NOx 0.324 0.324 1:2 0.648 VOCs 0.67 0.67 1:2 1.34 根据建设项目污染物总量平衡替代方案（见附件17），240、本项目VOCs调剂量来源于镇级储备库；CODcr、NH3-N以及NOx需通过交易替代。xxxx光电科技股份有限公司xx分公司年产 5000 万颗（件/套）智能光电子元器件项目环境影响报告表 61 四、四、主要环境影响和保护措施主要环境影响和保护措施 施工 期环 境保 护措 施 4.1 施工期环境保护措施工期环境保护措施施 本项目为新建项目，企业直接租用xxxxxx半导体有限公司位于xx市长安镇（高新区）新潮路 15 号的现有 3#厂房和 1#厂房作为生产场所（已经建成），施工期建设内容主要为厂房内设备安装及调试，对周边环境影响较小。运营 期环 境影 响和 保护 措施 4.2 大气环境影响和污染241、防治措施大气环境影响和污染防治措施 具体分析内容详见大气专项章节。根据大气专项可知，正常工况下，项目排放污染物最大地面浓度占标率最高的是氟化物，占标率Pmax9.06%，正常排放条件下，各污染物的短期浓度最大浓度占标率均小于100%，环境影响符合环境功能区划。本项目污染物贡献值均符合环境质量浓度限值要求，无超标点，无需设置大气防护距离。综合分析，对照环境影响评价技术导则 大气环境（HJ2.2-2018）相关规定，本报告认为本项目大气环境影响在可接受范围内。4.3 水环境影响和污染防治措水环境影响和污染防治措施施 1、废水源强核算、废水源强核算 生产废水本项目生产工序废水产生情况包括晶圆清洗废水242、W1、显影、剥离、抛光等工序后的超声波清洗废水W2、湿法刻蚀清洗废水W3、研磨及研磨清洗过程产生的废水W4、减薄后酸洗工序产生的酸洗废水W5、切割工序产生的切割废水W6、精雕工序产生的废水W7、抛光工序产生的抛光废液W8、纯水制备工序产生的浓水W9以及废气处理过程中的喷淋废水W10。晶圆清洗废水晶圆生产过程中多个工序均涉及到清洗工序，晶圆在进行加工前，需使用纯水进行清洗，该过程在晶圆清洗机内完成。根据设备清单及设备信息，晶圆清洗设备共有10台，出水量约为5L/min，每批次晶圆清洗时间为20min，企业全年清洗批次约为1万次，则预计晶圆清洗工序废水产生量约为1000t/a。超声波清洗废水显影、243、剥离、抛光等工序之后均需使用纯水和洗利隆进行清洗。已知上述工序均采用超声波清洗机进行清洗，本项目设有10台14槽超声波清洗机，单台清洗机内的水槽设置情况以及清洗废水产生情况详见表41。xxxx光电科技股份有限公司xx分公司年产 5000 万颗（件/套）智能光电子元器件项目环境影响报告表 62 表表41 单台清单台清洗机清洗机清洗废水产生情况一洗废水产生情况一览表览表 工序 槽体尺寸 槽体数量 清洗及排放形式 废水产生量 排放形式（t/d）（t/a）洗涤 0.4m*0.5m*0.3m 总容积0.06m32个 逆流水洗，每天工作时间20小时，排水量为0.3m3/h 6 1800 连续溢流排放 漂洗244、 0.4m*0.5m*0.3m 总容积0.06m3 2个 DI水清洗 0.4m*0.5m*0.3m 总容积0.06m3 2个 DI水喷淋清洗 0.4m*0.5m*0.3m 总容积0.06m3 1个 喷淋水洗，每天工作时间为20小时，排水量为0.1m3/h 2 600 0.4m*0.5m*0.3m 总容积0.06m3 1个 烘干 0.4m*0.5m*0.3m 总容积0.06m3 2个 进行烘干工序，采用电加热，不产生废水 0 0 无废水 根据上述计算可知，本项目单台超声清洗设备废水产生量约为2400t/a，项目共设有10台14槽超声清洗设备，因此，清洗工序废水产生量约为24000t/a。湿法刻蚀245、清洗废水湿法刻蚀后的清洗在离心清洗机内进行，清洗所用介质依工序不同会有组合变化，一般在药液（无机酸溶液、有机溶剂等，工作温度为常温）清洗后进行三级纯水逆流漂洗，每个清洗槽规格为0.4m*0.4m*0.5m，流量约3L/min，则废水排放量约为4.32t/d（1296t/a），该废水中污染物主要pH、CODcr、氟化物、石油类。研磨及研磨清洗废水本项目产品生产过程中采用湿法研磨，其中晶圆研磨采用研磨液，玻璃等研磨工序所需的水量则来源于纯水制备产生的浓水。已知研磨设备自带研磨桶，研磨过程中的废水通过设备回收至研磨桶内，循环使用，每天更换一次，已知研磨桶的容量为20L，因此每次更换量为20L，本项目246、设有研磨机48台，因此研磨废水产生量约为288t/a。研磨后需进行清洗，采用等离子清洗机，根据等离子清洗机设备信息，等离子清洗机出水量为1t/h，日工作20小时，年工作300天，则离心清洗机废水排放量为20t/d，全年废水产生量为6000t/a。研磨工序合计废水产生量为6288t/a，污染物主要为COD、SS和氨氮。酸洗废水减薄后的晶圆需进行酸洗和水洗，整个过程在全自动腐蚀清洗机内完成，该清洗过程排放方式为间接，根据设备厂家提供的信息，该设备每天排放量为1.5t/d，全年排放废水量为450t/a，污染物主要包括pH、CODcr、SS、氟化物、NH3-N等。xxxx光电科技股份有限公司xx分公司247、年产 5000 万颗（件/套）智能光电子元器件项目环境影响报告表 63 切割废水本项目产品生产过程中采用湿法切割和激光切割两种，其中湿法切割，需使用切割液和水，切割设备自带水桶，切割过程中的废水通过设备回收至桶内（桶的容积为0.15m3），循环使用，每天更换一次，则每次更换量为15L，本项目设有晶圆切割机32台，多线切割机1台，内圆切割机1台，因此切割废水产生量约为153t/a。切割用水来源于纯水制备产生的浓水，切割工序废水中的污染物主要是COD和SS。精雕及清洗废水本项目产品生产过程中精雕过程需使用纯水或纯水制备产生的浓水，因此会产生精雕废水，根据设备信息，精雕工序废水通过设备回收至桶内，循248、环使用，每天更换一次，每次更换量为20L，本项目设有49台精雕机，因此精雕废水产生量约为294t/a。精雕处理后的半成品需进行清洗，其采用超声波清洗机，该工序配备3台清洗机，每台清洗机均为8槽，单台清洗机内的水槽设置情况详见表42。表表42 切割清洗废水产生情况一览表切割清洗废水产生情况一览表 工序 槽体尺寸 槽体数量 清洗及排放形式 废水产生量 排放形式（t/d）（t/a）洗涤 0.5m*0.5m*0.5m 总容积0.125m3 2个 逆流水洗，溢流排放，每天工作时间20小时，排水量为0.5m3/h 10 3000 连续溢流排放 漂洗 0.5m*0.5m*0.5m 总容积0.125m3 2个249、 漂洗 0.5m*0.5m*0.5m 总容积0.125m3 2个 漂洗 0.5m*0.5m*0.5m 总容积0.125m3 2个 根据上述计算可知，本项目单台清洗设备废水产生量约为3000t/a，项目共设有3台清洗设备，因此，清洗工序废水产生量约为9000t/a，该工序废水中的污染物主要为COD、SS。抛光废液企业抛光工序过程中需使用抛光液，抛光液使用量约为7t/a，较少部分随半成品外走（本报告忽略不计），其余均以液体形式存在，根据抛光液的MSDS，该部分废液主要为水、亚硝酸盐以及三乙醇胺等物质，结合xxxx光电科技有限公司现有的抛光废液处理方式，本项目实施后，该部分废液将直接进入污水处理站预250、处理达标后纳入市政污水管网。浓水本项目半导体零部件过程中需使用纯水进行清洗，而生物识别xx光电子元xxxx光电科技股份有限公司xx分公司年产 5000 万颗（件/套）智能光电子元器件项目环境影响报告表 64 器件以及成像xx部品及组件生产过程中，其抛光前的清洗均可采用浓水或自来水，抛光之后的清洗工序则需采用纯水。根据上文分析可知，本项目需年产28154t纯水。纯水制备系统采用反渗透工艺进行制备纯水，本项目设有一套纯水制备系统，该设备纯水产水率为70%，因此其所需的新鲜水（自来水）量为40220t/a，浓水产生量约为12066t/a。根据RO浓水回用的处理技术研究可知，纯水制备工序产生的浓水CO251、Dcr约为70mg/L，该部分浓水由于水质较好，可直接回用于前道工序中的切割或研磨以及其对应的清洗工序。此外，纯水制备系统渗透膜需要定期冲洗，一般三个月冲洗一次，可直接用浓水进行冲洗。喷淋废水本项目生产过程涉及到硫酸、氢氟酸、盐酸等酸性物质的使用，且生产过程会产生酸雾，因此为有效的去除酸雾，本项目拟配套碱喷淋装置，根据企业提供的废气治理方案设计资料，喷淋装置配备的水箱约为5m3，共有2个水箱，为保证废气去除效率，喷淋水循环使用，定期更换，预计1个月更换3次，喷淋废水产生量为360t/a。更换下来的废水直接进出租方现有的污水处理设施处理达标后外排。因产品类型、生产工序等与xxxx光电科技有限公司252、下沙厂区相同，且项目设备也来源xxxx光电科技有限公司，因此，本项目生产工序产生的各股废水中污染物浓度参照下沙厂区的浓度，具体见表43。表表43 废废水污染水污染物浓度及源强物浓度及源强计算表计算表 工序 污染因子 污染物产生 治理措施工艺 排放 时间 h 核算方法 浓度(mg/L)产生量（t/a）晶圆清洗 水量 类比法/1000 利用出租方现有的污水处理装置处理达标后纳管，经“中和、混凝+沉淀+水解酸化+接触氧化”处理 3333h CODcr 类比法 600 0.6 SS 类比法 1000 1.0 显影、剥离、抛光等工序后的清洗 水量 类比法/24000 4800h CODcr 类比法 15253、00 36 SS 类比法 600 14.4 氟化物 物料衡算法 50 1.2 氨氮 类比法 50 1.2 石油类 类比法 100 2.4 LAS 类比法 100 2.4 总磷 类比法 1.04 0.025 刻蚀清洗 水量 类比法/1296 2400h CODcr 类比法 1800 2.33 氟化物 物料衡算法 40 0.052 石油类 类比法 100 0.13 xxxx光电科技股份有限公司xx分公司年产 5000 万颗（件/套）智能光电子元器件项目环境影响报告表 65 研磨及清洗 水量 类比法/6288 6000h CODcr 类比法 800 5.03 SS 类比法 2000 12.58 氨氮254、 类比法 20 0.126 减薄后酸洗 水量 类比法/450 1200h CODcr 类比法 3500 1.575 SS 类比法 500 0.225 氟化物 物料衡算法 150 0.068 氨氮 类比法 100 0.045 切割 水量 类比法/153 6000h CODcr 类比法 800 0.122 SS 类比法 2000 0.306 精雕及清洗 水量 类比法/9294 6000h CODcr 类比法 300 2.79 抛光废液 水量 类比法/7 600h CODcr 类比法 1500 0.011 总氮 类比法 500 0.004 喷淋废水 水量 类比法/360 7200h CODcr 类比255、法 5000 1.8 氟化物 类比法 320 0.115 浓水 水量 类比法/12066 全部回用于前道切割、研磨等工序 2600h CODcr 类比法 70 0.84 生活污水本项目劳动定员为100人，年工作日为300天，本项目食堂和倒班宿舍全部依托出租方（xxxx）现有，因此人均生活用水量按100L/d计，生活污水产生量按用水量的85%计（考虑15%损耗），则本项目实施后，生活污水产生量为2550t/a。参考一般城市生活污水经验水质，生活污水中的CODCr产生浓度约为350mg/L，NH3-N产生浓度约35mg/L，则生活污水中CODCr、NH3-N的产生量分别为0.89t/a、0.089256、t/a。冲厕污水经化粪池预处理达电子工业水污染物排放标准（GB39731-2020）表1中的间接排放标准后纳入市政污水管网，由xx紫薇水务有限责任公司（xx盐仓污水处理厂）集中处理达城镇污水处理厂污染物排放标准（GB18918-2002）一级A标准后外排。本项目建设后企业废水产、排情况汇总见表44。表表44 废水产、排废水产、排情况情况汇总汇总表表 工序 污染因子 污染物产生 治理措施工艺 污染物排放量 排放 时间 核算方法 浓度(mg/L)产生量（t/a）核算方法 浓度(mg/L)排放量（t/a）生产 水量 类比法/42848 利用出租方现有的污水处理装置处理达标排污系数法/42848 30257、0d CODcr 类比法 1193 51.098 排污系数法 50 2.142 SS 类比法 372 15.931 排污系数法 10 0.428 xxxx光电科技股份有限公司xx分公司年产 5000 万颗（件/套）智能光电子元器件项目环境影响报告表 66 NH3-N 类比法 32 1.371 后纳管，经“中和、混凝+沉淀+水解酸化+接触氧化”处理达标后纳入市政污水管网 排污系数法 5 0.214 氟化物 类比法 35 1.513 排污系数法 5 0.214 石油类 类比法 59 2.53 排污系数法 1 0.043 LAS 类比法 56 2.4 排污系数法 0.5 0.022 总磷 类比法 0258、.58 0.025 排污系数法 8.0 0.34 总氮 类比法 32.0 1.375 排污系数法 70 3.17 生活 污水 水量 类比法/2550 冲厕污水经化粪池预处理后与生产废水一起纳入市政污水管网 排污系数法/2550 CODcr 类比法 350 0.89 排污系数法 50 1.28E-01 NH3-N 类比法 35 0.089 排污系数法 5 1.28E-02 综合 废水 水量/45398/排污系数法/45398 300d CODcr 类比法 1213 51.988 排污系数法 50 2.270 NH3-N 类比法 34 1.46 排污系数法 5 0.227 氟化物 类比法 35 1259、.513 排污系数法 5 0.227 石油类 类比法 59 2.53 排污系数法 1 0.045 SS 类比法 372 15.931 排污系数法 10 0.454 LAS 类比法 53 2.4 排污系数法 0.5 0.022 总磷 类比法 0.58 0.025 排污系数法 8.0 0.34 总氮 类比法 32.0 1.375 排污系数法 70 3.17 注：排放量按xx紫薇水务有限责任公司（xx盐仓污水处理厂）尾水排放标准计。2、单位产品基准排水量核算 根据电子工业水污染物排放标准(GB39731-2020)，电子元件产品，本项目属于压电晶体元器件，单位产品基准排水量为 3.5m3/万只产品，260、本项目产能为5000 万颗（件/套）。则本项目产品基准排水量为 1.75 万 m3/年，根据项目工程分析可知，本项目纳管排水量为 42848t/a。超过产品基准排水量。根据GB39731-2020，若企业单位产品实际排水量超过单位产品基准排水量，须按照公示(1)将实测水污染物浓度换算为水污染物基准排水量排放浓度，并以水污染物基准排水量排放浓度作为判定排放是否达标的依据。同时，建议企业后续对项目用水工序进行进一步优化，提高项目中水会用率，降低项目用水及排水量。（1）式中：C基水污染物基准排水量排放浓度，mg/L；Q总实测排水总量，m3；Yi第 i 种产品产量，万只/a，5000 万颗/a；Qi基261、第 i 种产品的单位产品基准排水量；C实实测水污染物排放浓度，mg/L。xxxx光电科技股份有限公司xx分公司年产 5000 万颗（件/套）智能光电子元器件项目环境影响报告表 67 2、废水处理工艺及可行性分析、废水处理工艺及可行性分析 企业预处理可行性分析企业食堂和倒班宿舍依托出租方现有，生活污水主要为冲厕污水，因此其生活污水水质较为简单，冲厕污水直接经化粪池预处理后即可满足电子工业水污染物排放标准（GB39731-2020）中的间接排放标准，同时也满足污水综合排放标准（GB8978-1996）三级标准。根据企业提供的资料，出租方现有的污水处理工艺见图9。图图9 污水处理污水处理工艺流程图工262、艺流程图 工艺流程简述：工艺流程简述：各生产工序产生的生产废水（不含第一类污染物）经车间收集后，通过排污管网进入沉砂调节池调节水质、水量，池内淤积沉淀物定期清捞，调节池废水经提升泵提升进入中和池，中和池内投加碱和氯化钙，调整pH并使钙离子与氟离子结合生产沉淀后进入混凝池，废水在混凝池与PAC、PAM混凝后，进入初沉池进行固液分离，分离后的污泥排入污泥池，上清液进入水解酸化池。车间沉砂池中和池混凝池初沉池水解酸化池接触氧化池二沉池清水池污泥池污泥泵厢式压滤机滤液回调节池滤液回调节池干污泥干污泥回流回流剩余剩余化粪池总排口生活污水生活污水达标纳管清洗废水清洗废水其他生产废水其他生产废水沉砂-调节池263、池集水池管道增压泵盘式过滤器袋滤活性炭吸附保安过滤UF超滤超滤水箱提升泵回用水箱35%35%65%65%xxxx光电科技股份有限公司xx分公司年产 5000 万颗（件/套）智能光电子元器件项目环境影响报告表 68 废水生物处理采用水解酸化+接触氧化法。水解池内装有组合填料及曝气系统，通过调节曝气量，控制溶解氧，池内微生物生长以兼氧菌为主。在水解池停留一段时间后，污水自流进入接触氧化池（好氧池），好氧段采用好氧处理微生物为主，悬浮型和附着型微生物混合的生物相。悬挂组合填料，对曝气过程可作气泡再切割，再配合微孔曝气器，提高了动力效率，增加生化处理效率。兼氧氧好氧微生物分类严格。由于经历兼氧、好氧过264、程，微生物常处于内/外源呼吸交替，产生污泥量少。经降解后的污水与部分悬浮污泥一同进入二沉池，并在二沉池进行泥水分离，沉淀污泥通过回流泵返回缺氧池。生化系统处理后的出水在清水池收集后和经过化粪池预处理的生活污水一起进入总排口，然后通过总排口达标纳管。初沉池污泥、二沉池剩余污泥排入污泥池，然后经污泥泵注入叠螺脱水机脱水，滤液返回至调节池内，经处理后的干泥定期清运，并委托资质单位进行无害化处置。根据出租方提供的废水设计方案，设计的污水进入污水处理站前的浓度 为 pH69、CODCr1700mg/L、SS800mg/L，氟 化 物 40mg/L、石 油 类60mg/L、氨氮35mg/L，经收集资料可知265、，出租方现有的综合污水进水浓度均小于上述限值。为积极响应节水、降耗号召，出租方建设了一套废水循环使用系统，该系统设计处理规模为100t/h，各项目产生的切割及清洗废水将直接进入该循环系统处理，经盘式过滤、袋滤、活性炭吸附、UF超滤处理后，65%回用（回用水仅用于出租方），剩余35%经污水处理站处理后纳管。经工程分析，本项目产生的生产废水进污水处理设施处理前的浓度约为CODCr1193mg/L、NH3-N32mg/L，SS372mg/L，氟化物35mg/L、石油类59mg/L低于设计的进水浓度。因此，本项目废水经收集后可排入出租方现有的污水处理设施。废水经处理后的水质情况见表45。表表45 项目266、废水预处项目废水预处理效果理效果 污染指标 反应工序 CODcr（mg/L）氟化物（mg/L）氨氮（mg/L）石油类（mg/L）SS（mg/L）LAS（mg/L）调节池（按60t/h）1700 40 35 60 800 100 中和池、混凝池 进水 1700 40 35 60 800 100 出水 1360 12 35 18 160 30 去除率 20%30%0 70%80%70%水解酸化+接触氧化 进水 1360 12 35 18 160 30 出水 408 12 21 15 160 15 去除率 70%-40%20%50%50%沉淀池 进水 408 12 21 15 160 15 xxxx267、光电科技股份有限公司xx分公司年产 5000 万颗（件/套）智能光电子元器件项目环境影响报告表 69 出水 408 12 21 15 80 15 去除率-50%-排放水质预计 408 12 21 15 80 15 纳管标准 500 20 35 20 400 20 2、废水达标排放可行性分析 基准排水量核算排放标准：根据项目废水处置系统，项目生产废水及生活废水最终均进入企业综合废水排放口外排至市政污水管网，排入xx紫薇水务有限责任公司盐仓污水处理厂处理后外排。综合排放口水质见表46。根据项目废水排放量折算，本项目总废水排放量为45398t，其对应的圆片消耗量为31万片，其废水排放量为1.46m3268、/片（11m3/片），满足电子工业水污染物排放标准(GB39731-2020)规定项目基准排水量要求。表表46 综合排放口废综合排放口废水水质及达标分析水水质及达标分析对照表对照表 名称 指标 基准水量 悬浮物 CODcr 氨氮 氟化物 LAS 石油类 综合废水排放口 1.46m3/片 76 405 25 11 14 14 GB39731-2020排放标准 11m3/片 400 500 35 20 20 20 是否达标 是 是 是 是 是 是 是 措施可行性分析：措施可行性分析：由上述分析可知，本项目产生的废水与出租方现有的污水综合后，依次进入调节池、中和池、混凝池、水解酸化+接触氧化池处理、269、沉淀处理后与生活污水一起经企业总排口纳入市政污水管网，其总排口污染物最终纳管浓度预计为COD：408mg/L、NH3-N：25mg/L、氟化物：12mg/L、SS：80mg/L、石油类15mg/L，均可满足电子工业水污染物排放标准（GB39731-2020）中的间接排放标准。项目生活污水量较少，其水质较为简单，冲厕废水经化粪池预处理后，可达电子工业水污染物排放标准（GB39731-2020）中的间接排放标准，同时也满足xx紫薇水务有限责任公司的水质入厂要求。同时为了了解现有污水处理站运行情况，本报告收集了出租方污水处理站2022年的监测结果，具体结果见表47。表表47 项目废水预处理监测结果项270、目废水预处理监测结果 监测因子 监测时间 pH（无量纲）化学需氧量（mg/L）悬浮物（mg/L）氨氮（mg/L）总氮（mg/L）石油类（mg/L）总磷（mg/L）2022.5.6 总排口 7.2 157 52 4.86 20.8 0.14 0.67 7.3 142 43 6.49 17.5 0.57 0.58 7.3 168 47 5.77 16.5 0.19 0.86 7.2 149 39 6.13 18.7 0.33 0.63 纳管标准 6-9 500 400 35 70 20 8 由上述监测结果可知，出租方现有的污水处理站处理后的污水能满足电子工业水污染物排放标准（GB39731-202271、0）中的间接排放标准。xxxx光电科技股份有限公司xx分公司年产 5000 万颗（件/套）智能光电子元器件项目环境影响报告表 70 污水站处理负荷分析已知，xxxxxx半导体有限公司厂区内（下文简称xxxx），除自身企业外，还出租给捷姆富（xx）光电有限公司（下文简称捷姆富）和美迪凯（xx）智能光电科技有限公司。目前捷姆富生产过程中产生的生产废水、美迪凯（xx）智能光电科技有限公司研发过程产生的废水预处理也将依托xx美迪凯现有的污水处理站，为更好的分析，xxxx污水处理站的污水处理负荷，本报告收集了截止至本项目环评时间，厂区内现有的租赁企业（捷姆富以及xx（xx）智能光电）以及出租方（xxxx272、）已审批的各项目环评报告，并根据已审批的各环评报告中的废水产、排情况进行统计，从而得出各项目达产情况下的污水站废水处理负荷。本项目所在的厂区内现有已审批的项目达产时污水处理站处理负荷以及废水产、排情况统计结果详见表48。xxxx光电科技股份有限公司xx分公司年产 5000 万颗（件/套）智能光电子元器件项目环境影响报告表 71 表表48 已审批项目及其废已审批项目及其废水产、水产、排情况汇总表排情况汇总表 单位单位:t/a 企业 名称 项目名称 类型 新鲜 用水量 废水 产生量 损耗量 废水 排放量 处理措施 污水站处理量 未进污水站 纳管量 总废水量 捷姆富 产 250 万套全画幅等高端数273、码相机用大尺寸xx低通滤波器及 100 万套新材料 5G光通信元器件项目 生活 6000 5400 600 5400 隔油池、化粪池预处理达标后纳管 0 5400 167460.4 生产 194969 165415.46 29693.165 162060.36 纯水制备浓水部分回用、部分直接纳管，其余生产废水经出租方现有污水站处理达标后纳管。89826.06 72234.3 xx xx（出租方）年产 40 万套人工智能相机模组、5.5 亿片生物识别元器件项目 生活 12000 32400 3600 32400 隔油池、化粪池预处理达标后纳管 0 32400 226834 生产 241490 2274、23457 18037 194434 纯水制备浓水以及一般清洗废水直接纳管，其余生产废水经污水处理站处理达标后纳管。170342 24092 xx嘉美光电科技有限公司xx光电子元器件生产基地建设项目 生活 18000 16200 1800 16200 化粪池预处理达标后纳管 0 16200 700200 生产 936000 684000 46800 684000 一般清洗废水和纯水制备浓水直接纳管，其余生产废水经污水处理站处理达标后纳管。198720 485280 xx嘉美光电科技有限公司研发中心建设项目 生活 2400 2160 240 2160 化粪池、隔油池预处理达标后纳管 0 2160275、 89712 生产 93600 87552 6048 87552 一般清洗废水和纯水制备浓水直接纳管，其余生产废水经污水处理站处理达标后纳管。13608 73944 xx（xx）智能光电 xx（xx）智能光电科技有限公司智能视觉感应技术及产品开发项目 生活 1800 1530 270 1530 化粪池预处理达标后纳管 0 1530 147646 生产 14646 14116 530 146116 浓水产生量为 5072t/a，该部分水由于水质较清可直接纳管，9044废水将进入污水处理站处理达标后纳管。9044 5072 合计 生产 1480705 1174540.46 101108.165 1276、274162.36 进入污水处理站处理达标后纳管 481540.06 660622.3 1331852.4 生活 40200 57690 6510 57690 隔油池、化粪池预处理达标后纳管 0 57690 xxxx光电科技股份有限公司xx分公司年产 5000 万颗（件/套）智能光电子元器件项目环境影响报告表 72 污水站处理负荷可行性分析：污水站处理负荷可行性分析：由上表可知，已审批的项目在全部达产情况下进入污水处理站处理的废水总量为481540.06t/a（1605.13t/d），而出租方现有污水处理站设计运行能力为60t/h（1440t/d），根据出租方提供的资料，为积极响应节水、降耗号277、召，出租方建设了一套废水循环使用系统，该系统设计处理规模为100t/h，各项目产生的切割及其清洗废水将直接进入该循环系统处理后65%回用（回用水仅用于出租方），剩余35%经污水处理站处理后纳管。针对新增的废水循环使用系统，xxxxxx半导体有限公司于2022年8月委托资质单位编制了xxxxxx半导体有限公司工艺及污染防治措施变动判断非重大变更说明，并且于2022年9月在年产40万套人工智能相机模组、5.5亿片生物识别元器件项目中通过验收，因此，本报告将结合实际现有的废水循环系统，结合原审批情况，得出各项目废水循环系统处理后的污水站处理负荷（理论值，实际负荷则根据各项目验收确定），具体结果见表4278、9。表表49 增加废水循环系统后废水产、排情况汇总表增加废水循环系统后废水产、排情况汇总表 单位单位:t/a 企业名称 项目名称 类型 废水产生量 进入废水循环系统处理量 污水站处理量 未进污水站的纳管量 总废水量 捷姆富 产 250 万套全画幅等高端数码相机用大尺寸光学低通滤波器及 100 万套新材料 5G光通信元器件项目 生活 5400 0 0 5400 167460.4 生产 165415.46 0 89826.06 72234.3 xx xx（出租方）年产 40 万套人工智能相机模组、5.5 亿片生物识别元器件项目 生活 32400 0 0 32400 208229 生产 223457279、 84000 123592 52237 xx嘉美光电科技有限公司xx光电子元器件生产基地建设项目 生活 16200 0 0 16200 700200 生产 684000 107000 129170 447830 xx嘉美光电科技有限公司研发中心建设项目 生活 2160 0 0 2160 89712 生产 87552 7327 6281 73944 xx（xx）智能光电 xx（xx）智能光电科技有限公司智能视觉感应技术及产品开发项目 生活 1530 0 0 1530 147646 生产 14116 0 9044 5072 合计/198327 357913/在采取废水循环系统后，各项目达产情况下废280、水处理量为1193t/d（357913t/a），而本项目实施后，生活污水经化粪池预处理后纳管，仅生产废水进入污水处理系统，因此，污水处理站需处理的本项目废水量约为42848t/a（143t/d），叠加后污水处理站废水处理量为1336t/d1440t/d，在此基础上，可满足本项目废水处理需求。依托可行性分析根据前文分析可知，本项目企业xxxx光电科技股份有限公司xx分公司xxxx光电科技股份有限公司xx分公司年产 5000 万颗（件/套）智能光电子元器件项目环境影响报告表 73（简称xx分公司）由xxxx光电科技股份有限公司控股；出租方企业xxxxxx半导体有限公司（简称xxxx）由xxxx光电281、科技股份有限公司控股。本项目企业与出租方企业已签订了废水委托处置协议（具体详见附件9），根据协议规定：xx分公司项目产生的废水依托xxxx现有的污水处理设施处理达标后纳管，xx分公司需定期对排入污水处理设施的废水进行采样监测，确保污水处理站进水浓度低于设计标准，xxxx则须对污水处理设施处理后的废水达标排放负责。在上述基础上，本项目废水处理设施依托是可行的。废水依托污水处理厂处理可行性分析 xx盐仓污水处理厂现更名为xx紫薇水务有限责任公司，位于xx市高新产业园区新兴路1号，主要负责收集处理xx西部xx、周王庙、长安、许村、高新技术园区的制革、印染、化工、电镀等污染行业的工业废水以及各乡镇的生282、活污水，目前总设计规模16.0万m3/d，共包括三期工程。一期工程设计规模1.0万m3/d，采用A/O工艺；二期工程设计规模5.0万m3/d，采用A2/O工艺；三期工程设计规模10.0万m3/d，采用水解酸化+改进型SBR工艺。为了解xx紫薇水务有限责任公司尾水水质达标情况，本报告从xx省生态环境厅网站-污染源自动监控信息管理平台收集了该污水处理厂一、二期总排放口和三期总排放口2022年3月7日至2022年3月13日连续7天的自动监测数据，具体监测结果如下图所示。具备接管条件 本项目位于xx省xx市长安镇（高新区）新潮路15号，属于xx紫薇水务有限责任公司服务范围内，目前出租方（xxxxxx半283、导体有限公司）已获得排水许可证，因此，本项目产生的生产废水和生活污水经预处理达标后可通过污水管网排入xx紫薇水务有限责任公司污水处理厂。污水处理厂处理余量能够满足本项目废水处理要求 xx紫薇水务有限责任公司目前总设计规模16万m3/d，根据自动监测结果可知，2022年3月8日海宁紫薇水务有限责任公司三期出水口废水瞬时流量最大，为1099.76L/s，据此推算xx紫薇水务有限责任公司三期污水实际处理水量约9.5万m3/d左右；2022年3月11日xx紫薇水务有限责任公司一、二期出水口废水瞬时流量最大，为648.07L/s，据此推算xx紫薇水务有限责任公司一、二期污水实际处理水量约5.6万m3/d284、左右，污水处理厂实际处理水量约为15.1万m3/d，目前污水处理厂正常稳定运行，出水水质均能够达到城镇污水处理厂污染物排放标准（GB18918-2002）一级A标xxxx光电科技股份有限公司xx分公司年产 5000 万颗（件/套）智能光电子元器件项目环境影响报告表 74 准限值要求。本项目新增总废水排放量约61650t/a（日排放量为205.54m3/d），达xx紫薇水务有限责任公司剩余能力的2.28%，项目废水水质简单，纳管时不会对xx紫薇水务有限责任公司污水处理造成冲击。因此，项目废水排放只要严格执行达标入管，一般不会对地表水体水环境质量产生明显不利影响。水质符合污水处理厂接管标准要求由表285、45分析可知，本项目产生的废水与出租方现有的污水综合后，进入出租方现有的污水处理设施处理后，可达电子工业水污染物排放标准（GB39731-2020）中的间接排放标准，同时也满足xx紫薇水务有限责任公司的水质入厂标准。图图 10 xx紫薇水务有限责任公xx紫薇水务有限责任公司一、二期总排口自动监测结司一、二期总排口自动监测结果果 图图 11 xx紫薇水务有限责任公司三期总排口自动监xx紫薇水务有限责任公司三期总排口自动监测结果测结果 xxxx光电科技股份有限公司xx分公司年产 5000 万颗（件/套）智能光电子元器件项目环境影响报告表 75 3、项目废水排水口基本情况项目废水排水口基本情况 项目286、废水类别、污染物及污染治理设施信息见表 50，废水间接排放口基本情况见表 51、废水污染物排放信息见表 52。表表50 项目废水类别、污染物及污染治理设项目废水类别、污染物及污染治理设施信息表施信息表 序号 废水类别 污染物种类 排放去向 排放规律 污染治理设施 排放口编号 排放口设置是否符合要求 排放口类型 编号 名称 工艺 是否属排污许可技术规范中可行技术 1 综合废水 pH、CODCr、NH3-N、悬浮物、氟化物 纳管 间断排放，排放期间流量不稳定 TW001 污水处理系统 混凝+沉淀+水解酸化（物化+生化）是 DW001 是 一般排放口 表表 51 项目废水间接排放口基本情况表项目废水287、间接排放口基本情况表 序号 排放口编号 排放口地理坐标 废水排放量（万t/a）排放去向 排放规律 间歇排放时间 受纳污水处理厂信息 经度（）纬度（）名称 污染物种类 排放标 浓度限值（mg/L）1 DW001 120.403268 30.350676 43340 进入城市污水处理厂 间断排放，排放期间流量不稳定 日工作时间内 xx紫薇水务有限责任公司（xx盐仓污水处理厂）pH 6-9 COD 50 NH3-N 5 悬浮物 10 石油类 1 氟化物 5 总磷 8 总氮 70 表表52 项目废水污染物排放信息表项目废水污染物排放信息表 序号 排放口编号 污染物种类 国家或地方污染物排放标准及其他按288、规定商定的排放协议 名称 浓度限值（mg/L）1 DW001 pH 电子工业水污染物排放标准（GB39731-2020），NH3-N执行xx省人民政府批准发布的工业企业废水氮、磷污染物间接排放限值（DB33/887-2013）6-9 2 COD 500 3 NH3-N 35 4 悬浮物 400 5 石油类 20 6 氟化物 20 xxxx光电科技股份有限公司xx分公司年产 5000 万颗（件/套）智能光电子元器件项目环境影响报告表 76 7 LAS 20 总氮 70 8 总磷 8 表表53 项目废水污染物排放项目废水污染物排放信信息表息表 序号 排放口编号 污染物种类 排放浓度（mg/L）全厂289、日排放量（kg/d）全厂年排放量(t/a)1 DW001 COD 500 75.663 22.699 NH3-N 35 5.296 1.589 氟化物 20 3.027 0.908 悬浮物 400 60.531 18.159 石油类 20 3.027 0.908 LAS 20 3.027 0.908 总磷 8.0 1.13 0.34 总氮 70 10.56 3.17 全厂排放口总计 COD 22.699 氨氮 1.589 氟化物 0.908 悬浮物 18.159 石油类 0.908 LAS 0.908 总磷 0.34 总氮 3.17 xxxx光电科技股份有限公司xx分公司年产 5000 万颗（290、件/套）智能光电子元器件项目环境影响报告表 77 4、项目废水监测计划 对照排污单位自行监测技术指南总则（HJ819-2017）和排污单位自行监测技术指南 电子工业（HJ12539-2022），同时结合本项目特征，确定本项目废水监测计划，具体内容见表 54。表表54 项目废水监测计划项目废水监测计划 序号 排放口编号 污染物名称 监测设施 自动监测设施安装位置 自动监测设施的安装、运行、维护等相关管理要求 自动监测是否联网 自动监测仪器名称 手动监测采样方法及个数 手动监测频次 手工监测方法 1 DW001 pH 自动 手工/3个混合样 1次/年 玻璃电极法 2 COD 重铬酸盐法 3 NH3291、-N 纳氏分光光度法 4 悬浮物 重量法 5 石油类 红外分光光度法 6 氟化物 离子选择惦记法 7 总磷 钼分光光度法 8 总氮 碱性过硫酸钾消解紫外分光光度法 9 阴离子表面活性剂 亚甲蓝分光光度法 xxxx光电科技股份有限公司xx分公司年产 5000 万颗（件/套）智能光电子元器件项目环境影响报告表 78 4.4 噪声环境影响和污染防治措施噪声环境影响和污染防治措施 1、噪声源强、噪声源强 项目运营期噪声主要来源于设备作业噪声，根据污染源源强核算技术指南 准则（HJ884-2018）和环境噪声与振动控制工程设计导则(HJ2034-2013)附录B中列出常见生产设备所产生的噪声值，同时参照292、家具制造工业污染防治可行技术指南（HJ1180-2021）等行业可行性技术指南中的噪声源声级得到本项目主要噪声设备噪声源强。此外，根据调查本项目除废气治理设施外，其余设备均置于室内，项目室外声源源强调查清单见表55，室内声源源强调查清单见表56。表表55 项目室外声源源强调查清单项目室外声源源强调查清单 序 号 声源名称 型号 数量（台/套）空间相对位置/m 声源源强 声源 控制措施 运行 时段 X Y Z 声功率级dB(A)1 废气处理装置风机/1 106-3 15 90 消音器、隔声罩、减振垫 昼夜 2 废气处理装置风机/1 173-5 15 90 3 废气处理装置风机/1 235-6 1293、5 90 4 废气处理装置风机/1 160-5 15 90 注：以车间西南角为空间相对原点（0，0，0）。xxxx光电科技股份有限公司xx分公司年产 5000 万颗（件/套）智能光电子元器件项目环境影响报告表 79 表表56 项目室内声源源强调查清单项目室内声源源强调查清单 序号 建筑物名称 声源名称 型号 数量（台/套）声源源强 声源控措施 空间相对位置/m 距室内边界距离/m 室内边界声压级/dB(A)运行 时段 建筑物插入损失/dB(A)建筑物外噪声 声压级dB(A)X Y Z 声压级/dB(A)建筑物外距离 1 1#厂房 脉理机/1 80/1 厂房隔声 60-45 3 12 58.4 294、昼夜 20 38.4 1 2 开料机 PFG 2 80/1 厂房隔声 56-18 3 12 58.4 昼夜 38.4 1 3 多线切割机 MWM 1 80/1 减震垫、厂房隔声 53-20 3 9 60.9 昼夜 40.9 1 4 精雕机 PMS 49 85/1 进风口消声器、管道外壳阻尼、减震垫、40-34 3 23 57.8 昼夜 37.8 1 5 研磨机 X62 2 90/1 隔声罩壳、厂房隔声 110-20 3 25 62.0 昼夜 42.0 1 6 超声波清洗机 RD 4 75/1 厂房隔声 50-20 3 7 58.1 昼夜 38.1 1 7 精密丝印机 UP 1 75/1 厂房隔295、声 80-54 3 10 55.0 昼夜 35.0 1 8 贴膜机/8 80/1 厂房隔声 53-9 3 8 61.9 昼夜 41.9 1 9 修频机 Trim200 1 85/1 厂房隔声 56-8 3 6 69.4 昼夜 49.4 1 10 激光切割设备/2 70/1 厂房隔声 69-27 3 7 53.1 昼夜 33.1 1 11 自动分晶机/1 75/1 厂房隔声 86-64 3 3 65.5 昼夜 45.5 1 12 晶圆切割机/10 75/1 厂房隔声 90-59 3 5 61.0 昼夜 41.0 13 等离子清洗机/1 75/1 厂房隔声 65-37 3 9 55.9 昼夜 35296、.9 1 14 离心清洗机/1 75/1 厂房隔声 256-23 3 14 52.1 昼夜 32.1 1 15 新风系统 1 90/1 减震垫、厂房隔声 35-50 3 18 64.9 昼夜 44.9 1 16 3#厂房 光刻机/3 75/1 厂房隔声 165-15 12 10 55.0 昼夜 35.0 1 17 自动去胶机 SS 1 75/1 厂房隔声 160-10 12 3 65.5 昼夜 45.5 1 18 刻蚀机 LL 2 80/1 厂房隔声 170-16 12 5 66.0 昼夜 46.0 1 19 自动剥离机 TT 1 75/1 厂房隔声 190-12 12 5 61.0 昼夜 4297、1.0 1 20 内圆切割机 J5 1 95/1 隔声罩壳、厂房隔声 98-32 12 20 69.0 昼夜 49.0 1 21 镜面研磨机 16BF 46 75/1 厂房隔声 138-36 12 8 56.9 昼夜 36.9 1 22 超声波清洗机 RD 9 75/1 厂房隔声 200-20 12 7 58.1 昼夜 38.1 1 23 喷胶机 AS 1 85/1 厂房隔声 185-14 12 9.5 65.4 昼夜 45.4 1 24 PVD装置 OTF 4 75/1 厂房隔声 230-36 12 5 61.0 昼夜 41.0 1 25 匀胶显影设备 KK 1 85/1 厂房隔声 80-6298、 12 8.5 66.4 昼夜 46.4 1 26 APM 清洗机 智程 1 75/1 厂房隔声 160-18 12 10 55.0 昼夜 35.0 1 27 脉理机/1 80/1 厂房隔声 245-18 12 6 64.4 昼夜 44.4 1 28 激光切割设备/3 70/1 厂房隔声 169-27 12 7 53.1 昼夜 33.1 1 29 自动分晶机/4 75/1 厂房隔声 186-64 12 3 65.5 昼夜 45.5 1 30 晶圆切割机/22 75/1 厂房隔声 222-59 12 5 61.0 昼夜 41.0 1 xxxx光电科技股份有限公司xx分公司年产 5000 万颗（件299、/套）智能光电子元器件项目环境影响报告表 80 31 扩膜机/1 75/1 厂房隔声 246-46 12 5 61.0 昼夜 41.0 1 32 空压机/1 90/1 厂房隔声 140-10 6 10 70.0 昼夜 50.0 1 33 喷砂机/1 75/1 厂房隔声 135-20 6 10 55.0 昼夜 35.0 1 34 晶圆清洗机/11 75/1 厂房隔声 173-28 12 14 52.1 昼夜 32.1 1 35 UV解胶机/2 90/1 厂房隔声 175-20 12 20 64.0 昼夜 44.0 1 36 点胶机/1 75/1 厂房隔声 185-18 12 5 61.0 昼夜 300、41.0 1 37 匀胶机/1 75/1 厂房隔声 143-12 12 6 59.4 昼夜 39.4 1 38 取组件机/1 80/1 厂房隔声 208-46 12 8 61.9 昼夜 41.9 1 39 智能贴装机/3 80/1 厂房隔声 210-56 12 6 64.4 昼夜 44.4 1 40 自动摆盘机/4 70/1 厂房隔声 238-64 12 2 64.0 昼夜 44.0 1 41 真空包装机/5 75/1 厂房隔声 250-18 12 18 49.9 昼夜 29.9 1 42 检测设备/34 75/1 厂房隔声 242-10 12 3 65.5 昼夜 45.5 1 43 新风系统301、 1 90/1 减震垫、厂房隔声 135-50 12 18 64.9 昼夜 44.9 1 注：以车间西南角为为空间相对原点（0，0，0）。xxxx光电科技股份有限公司xx分公司年产 5000 万颗（件/套）智能光电子元器件项目环境影响报告表 81 3、声环境影响分析、声环境影响分析 预测计算模式根据项目建设内容及环境影响评价技术导则 声环境（HJ2.4-2021）的要求，釆用环安噪声环境影响评价系统。该软件计算工业噪声时采用的模型为环境影响评价技术导则 声环境(HJ2.4.2021)附录B（规范性附录）中“B.1工业噪声预测计算模型”。单个室外的点声源在预测点产生的声级计算基本公式如已知声源的302、倍频带声功率级（从63Hz到8KHz标称频带中心频率的8个倍频带），预测点位置的倍频带声压级LpI计算公式为：LpILwDcA （1）AAdivAatmAgrAbarAmisc 式中：Lw倍频带声功率级，dB；Dc指向性校正，dB；它描述点声源的等效连续声压级与产生声功率级Lw的全向点声源在规定的级的偏差程度。指向性校正等于点声源的指向性指数DI加上计到小于（sr）立体角内的声传播指数D。对辐射到自由空间的全向点声源，Dc=0dB。A倍频带衰减，dB；Adiv几何发散引起的倍频带衰减，dB；Aatm大气吸收引起的倍频带衰减，dB；Agr地面效应引起的倍频带衰减，dB；Abar声屏障引起的倍频带303、衰减，dB；Amisc其他多方面效应引起的倍频带衰减，dB。如已知靠近声源处某点的倍频带声压级Lp(r0)时，相同方向预测点位置的倍频带声压级LpI可按公式（A.2）计算：LpILp(r0)A （2）预测点的A声级LAI，可利用8个倍频带的声压级按公式（3）计算：（3）式中：LpiI预测点（r）处，第i倍频带声压级，dB；lii倍频带A计权网络修正值，dB（见附录B）。在不能取得声源倍频带声功率级或倍频带声压级，只能获得A声功率级或某点的A声级时，可按公式（4）和（5）作近似计算：LA（r）LawDcA（4）或LA（r）LA（r0）A（5）xxxx光电科技股份有限公司xx分公司年产 5000 304、万颗（件/套）智能光电子元器件项目环境影响报告表 82 A可选择对A声级影响最大的倍频带计算，一般可选中心频率为500Hz的倍频带作估算。室内声源等效室外声源声功率级计算方法如所示，声源位于室内，室内声源可采用等效室外声源声功率级法进行计算。设靠近开口处（或窗户）室内、室外某倍频带的声压级分别为Lp1和Lp2。若声源所在室内声场为近似扩散。图图12 室内声源等效为室外声源图例室内声源等效为室外声源图例 若声源所在室内声场为近似扩散声场，则室外的倍频带声压级可按公式（6）近似求出：Lp2Lp1（TL+6）（6）式中：TL隔墙（或窗户）倍频带的隔声量，dB。也可按公式（7）计算某一室内声源靠近围护305、结构处产生的倍频带声压级：（7）式中：Q指向性因数；通常对无指向性声源，当声源放在房间中心时，Q=1；当放在一面墙的中心时，Q=2；当放在两面墙夹角处时，Q=4；当放在三面墙夹角处时，Q=8。R房间常数；R=S/(1-)，S为房间内表面面积，m2；为平均吸声系数。R声源到靠近围护结构某点处的距离，m。然后按公式（8）计算出所有室内声源在围护结构处产生的i倍频带叠加声压级：（8）式中：LP1i(T)靠近围护结构处室内N个声源i倍频带的叠加声压级，dB；Lp1ij室内j声源i倍频带的声压级，dB；N室内声源总数。在室内近似为扩散声场时，按公式(9)计算出靠近室外围护结构处的声压级：Lp2i(T)L306、p1i(T)（TLi+6）（9）xxxx光电科技股份有限公司xx分公司年产 5000 万颗（件/套）智能光电子元器件项目环境影响报告表 83 式中：Lp2i(T)靠近围护结构处室外N个声源i倍频带的叠加声压级，dB；TLi围护结构i倍频带的隔声量，dB。然后按公式（10）将室外声源的声压级和透过面积换算成等效的室外声源，计算出中心位置位于透声面积（S）处的等效声源的倍频带声功率级。然后按室 外声源预测方法计算预测点处的A声级。LWLp2(T)+10lgS（10）靠近声源处的预测点噪声预测模式如预测点在靠近声源处，但不能满足点声源条件时，需按线声源或面声源模式计算。噪声贡献值计算设第i个室外声源307、在预测点产生的A声级为LAi，在T时间内该声源工作时间为ti，第j个行将室外声源在预测点产生的A声级为LAj，在T时间内该声源工作时间为tj，则拟建工程声源对预测点产生的贡献值（Leqg）为：（11）式中：tj在T时间内j声源工作时间，s；ti在T时间内i声源工作时间，s；T用于计算等效声级的时间，s；N室外声源个数；M等效室外声源个数。预测参数本项目预测参数详见表55和表56。预测结果预测结果见表57。表表57 厂界噪声预厂界噪声预测结果测结果 序号 预测点 空间相对位置/m 贡献值（dB）标准值（dB）达标情况 X Y Z 昼间 夜间 昼间 夜间 昼间 夜间 1 东厂界 135-35 1.308、5 51.4 51.4 65 55 达标 达标 2 南厂界-1 35 1.5 50.3 50.3 65 55 达标 达标 3 西厂界 140 1 1.5 46.5 46.5 65 55 达标 达标 4 北厂界 270 35 1.5 47.9 47.9 65 55 达标 达标 根据预测结果表明，项目投入生产后，在按照本报告提出的噪声治理措施要求下，四周厂界噪声贡献值均能满足工业企业厂界环境噪声排放标准(GB12348-2008)3类标准限值要求。4、噪声防治措施、噪声防治措施 xxxx光电科技股份有限公司xx分公司年产 5000 万颗（件/套）智能光电子元器件项目环境影响报告表 84 本报告要求309、对高噪声设备采取以下噪声治理措施：首先从设备选型入手，即声源上控制噪声。设备选型是噪声控制的重要环节，在设备选型过程中要求设备制造厂家对高噪声设备采取减噪措施，如对高噪声设备采取必要的消声、隔声措施，以达到降低设备噪声水平的目的。合理布局，高噪声设备至于厂房中间，此外尽量使风管道布置合理，使介质流动畅通，减少空气动力噪声。合理选择各支吊架型式并合理布置，降低气流和振动噪声。设备全部置于砖混结构的车间内，同时对设备安装减振底座，风机等设备车间需配套安装隔声门、窗，且在通风口处加装消声器。设备定期维护和保养，以防止设备故障形成的非正常生产噪声。加强工人的操作管理，减少或降低人为噪声的产生。5、噪声310、监测计、噪声监测计划划 对照排污单位自行监测技术指南总则（HJ819-2017）和排污单位自行监测技术指南 电子工业（HJ12539-2022），同时结合本项目特征，噪声监测计划见表58。表表58 项目噪声监测计划项目噪声监测计划 分类 监测位置 监测项目 监测频率 噪声 厂界外 1 米处（4 个监测点位）昼间等效连续 A声级 1 次/季度 4.5 固体废物固体废物污染防治污染防治措措施施 1、固体废物产生情、固体废物产生情况况 项目产生的固体废物包括乙醇废液S1、光刻废液S2、显影废液S3、刻蚀废液S4、去胶废液S5、剥离废液S6、废UV膜S7、玻璃边角料S8、喷砂工序收集的颗粒物S9、原料311、包装产生的一般性废包装材料S10、化学试剂包装瓶S11、UV固化过程中产生的废灯管S12、纯水制备过程产生的废反渗透膜S13、废活性炭S14、废过滤棉S15、废抹布S16、污水处理产生的污泥S17、废劳保用品S18以及员工生活垃圾S19。乙醇废液表面去水过程中使用的是无水乙醇，循环使用，约15批次后更换（无水乙醇中含水率达到50%以上就需进行更换），乙醇废液中的含水率高达50%，根据物料平衡，乙醇废液产生量约为0.5t/a。涂胶废液光刻工序将会产生光刻胶废液。光刻工序使用的光刻胶、聚酰亚胺原液、增粘剂、稀释剂最终去向分为3部分，一部分在于产品中、一部分挥发至空气中，剩余部分则成为废液；根据xx312、xx公司的现有项目实际运行类比分析可知，废液产生量约xxxx光电科技股份有限公司xx分公司年产 5000 万颗（件/套）智能光电子元器件项目环境影响报告表 85 为上述物质总用量的为70%，则本项目预计涂胶废液产生量为2.94t/a。废显影液显影工序使用的显影液，同时含显影过程中的少量清洗废水，根据xxxx公司的现有项目实际运行统计类比可知，则本项目预计废显影液产生量为2.5t/a。刻蚀废液刻蚀工序使用的BOE刻蚀液，本项目BOE刻蚀液使用基本不挥发，因此，全部收集作为危险废物处置，根据企业年消耗量，预计废显影液（含水）产生量为0.5t/a。去胶废液本项目使用去胶水去除废胶，根据物料平衡，本项313、目使用去胶液去向分为2部分，挥发至空气中，剩余部分则成为废液，废液中占比最大，本项目预计废去胶液产生量为17.792t/a。剥离废液本项目使用丙酮和异丙醇对晶圆浸泡，结合xx现有实际生产过程可知，剥离过程中约30%丙酮和异丙醇挥发进入空气，剩余70%则成为废液，结合剥离下来的物质，本项目剥离废液预计产生量为7.0t/a。废UV膜本项目UV解膜过程会产生废UV膜，根据xxxx光电科技股份有限公司实际运行过程中UV膜产生量统计及类比，得到本项目废UV膜产生量约为0.1t/a。玻璃边角料本项目切割、划片等工序产生的边角料以及检验过程产生的次品，主要成分为玻璃，约占原料使用量的0.5%，项目实施后，企314、业玻璃材料使用量共计约5000t/a，则其玻璃边角料和次品产生量约为25t/a。由于其玻璃边角料和次品还具有一定的利用价值，因此，企业将在厂区内集中收集，出售给物资回收公司进行综合利用。收集下来的颗粒物根据前述分析，本项目喷砂工序采用全密闭环保型喷砂机，且喷砂室配备布袋除尘装置，喷砂粉尘经布袋除尘装置处理后，其收集下来的粉尘量约为0.19t/a。废包装材料玻璃、水晶、晶圆等材料均采用纸箱包装，喷砂材料、UV膜等均采用袋装，因此，会产生纸箱、废塑料袋等一般性废包装材料，根据企业提供的原辅材料消耗情况统计可知，该部分废包装材料量较少，预计全年产生量仅为2t/a。化学试剂包装桶（瓶）xxxx光电科技315、股份有限公司xx分公司年产 5000 万颗（件/套）智能光电子元器件项目环境影响报告表 86 根据企业提供的原料消耗清单可知，显影液、抛光液、无水乙醇及丙酮、油墨采用桶装，稀释剂、光刻胶等均采用瓶装，各化学试剂包装规格具体见表17。经统计，预计本项目各类包装桶总产生量为320个/年，试剂包装瓶产生量为327个，桶单重按0.5kg/个计，包装瓶按照0.1kg/个计，则预计总的化学试剂包装桶（瓶）产生量约为0.2t/a。经对照国家危险废物名录（2021年版），本项目化学试剂包装桶（瓶）均为危险废物，废物类别为HW49，废物代码为900-041-49。废UV灯管UV固化过程需使用UV灯管，经查阅相关316、资料得知，UVA波段的一般在800h1000h之间，需定期更换，UV固化工作时间约为3000h/a，企业一年需更换UV灯管3次以上（本报告考虑4次），单根灯管重量约为0.3kg，每次更换量为10根，则预计废UV灯管产生量为12kg/a。反渗透膜本项目采用反渗透膜制备纯水，已知反渗透膜（RO）滤芯一般需要2年更换一次，一次更换下来的量约为0.02t/a，该部分废物经厂区内收集后，与生活垃圾一起由环卫部门定期清运。废活性炭根据前面工程分析，本项目挥发性有机物总去除量为5.784t/a，乙醇等挥发性有机物去除量为3.477t/a，本项目乙醇等有机物主要通过喷淋去除，剩余的则通过活性炭吸附去除，由此可317、知，活性炭需吸附废气量为1.618t/a。参照xx省分散吸附-集中再生活性炭法挥发有机物治理体系建设技术指南（试行），本项目喷淋+除湿+光催化氧化+活性炭（二级）吸附系统活性炭最少填装量为1.5t，活性炭吸附装置的最少填装量为0.5t，活性炭更换周期一般不应超过累计运行500小时，活性炭的吸附系数一般取15kg/100kgC活性炭（碘值不低于800mg/g），经活性炭吸附处理的有机废气的处理量为1.618t/a，根据企业运行情况，本项目共有2套碱喷淋+除湿+光催化氧化+活性炭（二级）吸附系统，1套活性炭处理系统，活性炭平均每2月更换一次，综合分析，本项目废活性炭产生量约为20.118t/a（包318、含其所吸附的有机废气质量）。废过滤棉本项目拟配套2套新风系统，其空气经新风系统处理过程中会产生废过滤棉，此外，本项目产生的废气将最终通过碱喷淋+除湿+光催化氧化+活性炭吸附处理，因此将会产生少量的废活过滤棉，根据企业提供的资料，过滤棉一般一个月更换一次，一次更换量为4kg，则本项目废过滤棉产生量为0.048t/a。xxxx光电科技股份有限公司xx分公司年产 5000 万颗（件/套）智能光电子元器件项目环境影响报告表 87 废抹布 项目运行过程中发现晶片有脏污，需要使用异丙醇和丙酮的混合液对晶片表面进行抹布擦拭，抹布循环使用，定期更换，因此该工序会产生废抹布，预计年产生量为0.01t/a，经对照319、国家危险废物名录（2021年版），本项目废抹布为危险废物，废物类别为HW49，废物代码为900-041-49。污泥 本项目污水处理过程中会产生污泥，根据前文废水产、排情况分析，经出租方现有的污水处理站处理后污染物削减量为29.159t/a，全部进入污泥中。污水处理过程预计絮凝剂加入量为5t/a，根据污水处理设计资料，污泥经板框压滤机压缩脱水后，其含水率可低至65%。由此可计算，本项目污泥产生量为53t/a。废劳保用品 本项目生产过程对洁净度要求较高，因此进入车间内的员工都必须穿戴相应的防护服（属于劳保用品），该防护服将循环使用，由公司统一委托外部单位进行定期清洗，由于刮擦、勾拉等原因会产生报废320、的防护服，预计产生量为0.003t/a，经厂区内收集后，由环卫部门定期清运处理。生活垃圾 本项目劳动定员为100人，生活垃圾按平均每人0.5kg/d的产生量计，则本项目生活垃圾产生量约为15t/a。xxxx光电科技股份有限公司xx分公司年产 5000 万颗（件/套）智能光电子元器件项目环境影响报告表 88 本项目运营阶段固体废物污染源强核算情况详见表59。表表59 固体废物源强核算一览表固体废物源强核算一览表 工序/生产线 固体废物名称 固体废物属性 产生情况 处置情况 最终去向 核算方法 产生量（t/a）处置措施 处置量（t/a）表面去水 乙醇废液 危险废物 HW06900-402-06 产321、污系数法 0.5 委托资质单位处置 0.5 危险废物处置单位 光刻 光刻胶废液 危险废物 HW13900-014-13 产污系数法 2.94 委托资质单位处置 2.94 危险废物处置单位 显影 显影废液 危险废物 HW16398-001-16 产污系数法 2.5 委托资质单位处置 2.5 危险废物处置单位 刻蚀 刻蚀废液 危险废物 HW34398-005-34 产污系数法 0.5 委托资质单位处置 0.5 危险废物处置单位 去胶 去胶废液 危险废物 HW06900-404-06 产污系数法 17.792 委托资质单位处置 17.792 危险废物处置单位 剥离 剥离废液 危险废物 HW06900322、-402-06 产污系数法 7.0 委托资质单位处置 7.0 危险废物处置单位 解膜 废 UV膜 一般固体废物 产污系数法 0.1 环卫部门定期清运 0.1 环卫部门 切割、划片、检验 玻璃边角料 一般固体废物 产污系数法 25 外售进行综合利用 25 物资回收公司 喷砂废气处理 颗粒物 一般固体废物 物料平衡法 0.19 环卫部门定期清运 0.19 环卫部门 原料使用 包装材料 一般固体废物 物料平衡法 2 资源综合利用 2 资源综合利用单位 原料使用 化学试剂包装桶 危险废物 HW49900-041-49 物料平衡法 0.2 委托资质单位处置 0.2 危险废物处置单位 UV固化 废 UV灯323、管 危险废物 HW29900-023-29 物料平衡法 0.012 委托资质单位处置 0.012 危险废物处置单位 纯水制备 反渗透膜 一般固体废物 物料平衡法 0.02 环卫部门定期清运 0.02 环卫部门 废气治理 废活性炭 危险废物 HW49900-039-49 产污系数法 20.118 委托资质单位处 20.118 危险废物处置单位 废气治理 废过滤棉 危险废物 HW49900-041-49 产污系数法 0.048 委托资质单位处 0.048 危险废物处置单位 擦拭 废抹布 危险废物 HW49900-041-49 产污系数法 0.05 委托资质单位处置 0.05 危险废物处置单位 废水324、处理 污泥 一般固体废物 物料平衡法 53 资源综合利用 53 资源综合利用单位 个人防护 废劳保用品 一般固体废物 产污系数法 0.003 环卫部门定期清运 0.003 环卫部门 生活 生活垃圾 一般固体废物 产污系数法 15 环卫部门定期清运 15 环卫部门 2、属性判定、属性判定 固体废物属性判定依据固体废物鉴别标准通则（GB34330-2017），项目产生固体废物属性判定见表60。表表60 固体废物属性判定固体废物属性判定 序号序号 产物名称产物名称 产生工序产生工序 主要成分主要成分 形态形态 产生量产生量t/a 是否属固体废物是否属固体废物 判定判定依据依据 xxxx光电科技股份有325、限公司xx分公司年产 5000 万颗（件/套）智能光电子元器件项目环境影响报告表 89 1 乙醇废液 表面去水 乙醇乙醇 液态 0.5 是 4.2，m 2 光刻胶废液 光刻 碳酸钠 液态 2.94 是 4.2，m 3 显影废液 显影 丙二醇单甲醚乙酸酯 液态 2.5 是 4.2，m 4 刻蚀废液 刻蚀 BOE刻蚀液 液态 0.5 是 4.2，m 5 去胶废液 去胶 二甲基亚砜、胺类混合物 液态 17.792 是 4.2，m 6 剥离废液 剥离 丙酮、异丙醇 液态 7.0 是 4.2，m 7 废UV膜 解膜 聚合物 固态 0.1 是 4.2，m 8 玻璃边角料 切割、划片、检验 玻璃 固态 25326、 是 4.2，a 9 收集下来的颗粒物 喷砂废气处理 颗粒物 固态 0.19 是 4.1，h 10 包装材料 包装材料 纸箱、塑料 固态 2 是 4.1，h 11 化学试剂包装桶 化学试剂包装桶 丙酮、乙醇、丙二醇单甲醚乙酸酯等 固态 0.2 是 4.1，c 12 废 UV灯管 废 UV灯管 汞 固态 0.012 是 4.1，d 13 废反渗透膜 纯水制备 反渗透膜 固态 0.02 是 4.3，e 14 废活性炭 废气处理 VOCs、活性炭 固态 20.118 是 4.3，l 15 废过滤棉 废气处理 过滤棉、VOCs 固态 0.048 是 4.3，l 16 废抹布 擦拭 异丙醇、丙酮 固态 327、0.05 是 4.1，h 17 污泥 废水处理 污泥 固态 53 是 4.3，e 18 废劳保用品 个人保障 塑料 固态 0.003 是 4.1，a 19 生活垃圾 人员生活 果壳、纸屑 固态 15 是 4.2，m 危险废物属性判定根据国家危险废物名录判定本项目产生的固体废物是否属于危险废物，并按照国家危险废物名录及一般固体废物分类与代码（GB39198-2020）设置各废物代码，具体结果见表 61。表表61 危险废物属性判定危险废物属性判定 序号 固体废物名称 产生工序 形态 主要成分 是否属于危险废物 废物代码 1 乙醇废液 表面去水 液态 乙醇 是 HW06900-402-06 2 光刻328、胶废液 光刻 液态 碳酸钠 是 HW13900-014-13 3 显影废液 显影 液态 丙二醇单甲醚乙酸酯 是 HW16398-001-16 4 刻蚀废液 刻蚀 液态 BOE刻蚀液、硝酸、氢氟酸 是 HW34398-005-34 xxxx光电科技股份有限公司xx分公司年产 5000 万颗（件/套）智能光电子元器件项目环境影响报告表 90 5 去胶废液 去胶 液态 二甲基亚砜、胺类混合物 是 HW06900-404-06 6 剥离废液 剥离 液态 异丙醇、丙酮 是 HW06900-402-06 7 废UV膜 解膜 固态 聚合物 否 一般性固体废物 8 玻璃边角料 切割、划片、检验 固态 玻璃 否329、 一般性固体废物 9 收集下来的颗粒物 喷砂废气处理 固态 颗粒物 否 一般性固体废物 10 包装材料 包装材料 固态 纸箱、塑料 否 一般性固体废物 11 化学试剂包装桶 化学试剂包装桶 固态 丙酮、乙醇、丙二醇单甲醚乙酸酯等 是 HW49900-041-49 12 废 UV灯管 废 UV 灯管 固态 汞 是 HW29900-023-29 13 废反渗透膜 纯水制备 固态 反渗透膜 否 一般性固体废物 14 废活性炭 废气处理 固态 VOCs、活性炭 是 HW49900-039-49 15 废过滤棉 废气处理 固态 VOCs、过滤棉 是 HW49900-041-49 16 废抹布 擦拭 固态330、 异丙醇、丙酮 是 HW49900-041-49 17 污泥 废水处理 固态 污泥 否 一般性固体废物 18 废劳保用品 个人保障 固态 塑料 否 一般性固体废物 19 生活垃圾 人员生活 固态 果壳、纸屑 否 一般性固体废物 3、固体废物污染防治措施、固体废物污染防治措施 一般固体废物贮存企业计划在生产厂房内设置专门的一般固体废物暂存仓库，可使用面积约30m2。根据一般工业固体废物贮存和填埋污染控制标准(GB18599-2020)适用范围，企业内部使用库房、包装工具贮存一般工业固体废物应满足防渗漏、防雨淋、防扬尘等环境保护要求，并将一般固体废物分类、安全存放。同时，企业应当建立健全固体废物产331、生、收集、贮存、运输、利用、处置全过程的污染环境防治责任制度，建立固体废物管理台账，如实记录产生工业固体废物的种类、数量、流向、贮存、利用、处置等信息，实现固体废物可追溯、可查询，并采取切断污染途径的方式防治工业固体废物污染环境。为加强监督管理，贮存场所应按GB15562.2设置环境保护图形标志。xxxx光电科技股份有限公司xx分公司年产 5000 万颗（件/套）智能光电子元器件项目环境影响报告表 91 危险废物贮存所有危险废物产生者和危险废物经营者应建造专用的危险废物贮存设施，也可利用原有构筑物改建成危险废物贮存设施；在常温常压下易爆、易燃及排出有毒气体的危险废物必须进行预处理，使之稳定后贮332、存，否则，按易爆、易燃危险品贮存；在常温常压下不水解、不挥发的固体危险废物可在贮存设施内分别堆放，否则，必须将危险废物装入容器内；禁止将不相容（相互反应）的危险废物在同一容器内混装；无法装入常用容器的危险废物可用防漏胶袋等盛装；装载液体、半固体危险废物的容器内须留足够空间，容器顶部与液体表面之间保留100毫米以上的空间；盛装危险废物的容器上必须粘贴符合GB18597-2001附录A所示的标签。危险废物贮存容器应当使用符合标准的容器盛装危险废物；装载危险废物的容器及材质要满足相应的强度要求；装载危险废物的容器必须完好无损；盛装危险废物的容器材质和衬里要与危险废物相容（不相互反应）；液体危险废物可333、注入开孔直径不超过70毫米并有放气孔的桶中。危险废物仓库地面与裙脚要用坚固、防渗的材料建造，建筑材料必须与危险废物相容；必须有泄漏液体收集装置、气体导出口及气体净化装置；设施内要有安全照明设施和观察窗口；用以存放装载液体、半固体危险废物容器的地方，必须有耐腐蚀的硬化地面，且表面无裂隙；应设计堵截泄漏的裙脚，地面与裙脚所围建的容积不低于堵截最大容器的最大储量或总储量的五分之一；不相容的危险废物必须分开存放，并设有隔离间隔断。危险废物堆放基础必须防渗，防渗层为至少1米厚粘土层（渗透系数10-7厘米/秒），或2毫米厚高密度聚乙烯，或至少2毫米厚的其它人工材料，渗透系数10-10厘米/秒；堆放危险废物的高度应根据地面承载能力确定；衬里放在一个基础或底座上；衬里要能够覆盖危险废物或其溶出物可能涉及到的范围；衬里材料与堆放危险废物相容；在衬里上设计、建造浸出液收集清除系统；应设计建造径流疏导系统，保证