1、 目录目录 一、建设项目基本情况一、建设项目基本情况.1 1.1 其他符合性分析.4 二、二、建设项目工程分析建设项目工程分析.15 2.1 工程环保手续履行情况.16 2.2 原环评回顾.16 2.3 改扩建工程建设内容.22 2.4 生产工艺流程及产污环节分析.77 2.5 与项目有关的原有环境污染问题.98 三、区域环境质量现状、环境保护目标及评价标准三、区域环境质量现状、环境保护目标及评价标准.114 四、主要环境影响和保护措施四、主要环境影响和保护措施.127 4.1 运营期环境影响和保护措施.128 五、环境保护措施监督检查清单五、环境保护措施监督检查清单.164 六、结论六、结论2、.170 附表附表.171 建设项目污染物排放量汇总表.171 专章专章 大气评价专章大气评价专章.173 环境风险评价专章环境风险评价专章.212 附图 附图 1 地理位置图.240 附图 2 项目在xx市福兴经济开发区城市设计及控制性详细规划（修编）图中的位置.241 附图 3 总平面布置图.242 附图 4 雨污管网图（现状及拟建工程）.245 附图 5 500m 内敏感目标图.246 附图 6 2500m 内敏感目标图.247 附表 附表 1 地下水分析方法.248 附表 2 地下水监测结果一览表.249 附表 3 土壤监测项目与分析方法一览表.250 附表 4 土壤监测结果一览表.23、52 附表 5 建设项目大气环境影响评价自查表.256 附件 附件 1 委托书.258 附件 2 备案表.259 附件 3 原环评及验收批复.260 附件 4 危废处置协议.265 附件 5 xx省环保厅关于印发xx福兴经济开发区控制性详细规划环境影响报告书审查小组意见的通知.273 附件 6 引用xxxx通讯有限公司敏感点大气监测报告.281 附件 7 地下水监测报告.290 附件 8 引用噪声监测报告.322 1一、建设项目基本情况 建设项目名称 xxxx光学有限公司 光学器件产品技术提升改造及扩建项目 项目代码 建设单位联系人 联系方式 建设地点 地理坐标 国民经济 行业类别 C39764、 光电子器件制造 建设项目 行业类别 三十六、计算机、通信和其他设备制造业 39 80 电子器件制造 397 建设性质 新建（迁建）改建 扩建 技术改造 建设项目 申报情形 首次申报项目 不予批准后再次申报项目 超五年重新审核项目 重大变动重新报批项目项目审批（核准/备案）部门（选填）xx市晋安区工业和信息化局 项目审批（核准/备案）文号（选填）闽工信外备2022A040002 号 总投资（万元）30000 环保投资（万元）1200 环保投资占比（%）4%施工工期 36 个月 是否开工建设 否 是：用地（用海）面积（m2）专项评价设置情况 排放废气含有毒有害污染物氰化物、氯气且厂界外500米范5、围内有环境空气保护目标，设置大气评价专章，见专题1；项目有毒有害和易燃易爆危险物质存储量超过临界量，设置风险评价专章，见专题2。规划情况 开发区名称：xx市福兴经济开发区 审批机关：xx市人民政府 审批文件名称及文号：1998经省人民政府批准，确定为省级开发区，2005年12月经国家发改委、国土资源部、建设部等三 2部委联合审核认定，成为首批经国家批准保留的省级开发区，2007年2月正式更名为xx福兴经济开发区，2017年编制xx市福兴经济开发区城市设计及控制性详细规划，2021年完成修编，xx市福兴经济开发区城市设计及控制性详细规划（修编）已经xx市人民政府正式批复（榕政综2021111号）6、；开发区规划名称：xx市福兴经济开发区城市设计及控制性详细规划（修编）规划环境影响 评价情况 规划环评名称：xx福兴经济开发区控制性详细规划环境影响报告书 审批机关：原xx省环保厅（现xx省生态环境厅）审批文号：xx保评201714 号 规划及规划环境 影响评价符合性分析 本项目选址属于晋安区鼓山镇福兴投资区，根据xx省环保厅发布的 关于印发xx福兴经济开发区控制性详细规划环境影响报告书审查小组意见的通知（xx保评201714 号），xx福兴经济开发区控制性详细规划环境影响报告书已于 2017 年 8月 11 日通过了xx省环保厅组织的审查小组会议审查。通过查阅 xx福兴经济开发区控制性详细规7、划环境影响报告书 及 xx市福兴经济开发区城市设计及控制性详细规划（修编），本项目所处地块为一类工业用地，其产业定位重点发展十大类型产业，即五大类现代服务业和五大类高新技术产业，现代服务业包含：总部办公、现代物流、创意产业、科技研发、商贸金融；高新技术产业包含：新型光电子、软件、通讯与网络终端设备、汽车电子、精密仪器仪表。本项目为新型光电子行业，项目不生产 VCD 系列整体产品、电视机、白炽灯，不属于硅原料、多晶硅电池片、单晶硅电池片、芯片制造、电路板等企业，不涉及电镀和钝化工艺，油墨使用量小于 1t。根据 1.1.2 章节，项目符合国家产业政策。综上，项目不属于禁止引入类别。且根据开发区保留8、改造升级、搬迁、搬迁改造企业清单，规划 3环评建议对本企业给予保留、发展壮大。因此，本项目与xx福兴经济开发区控制性详细规划是相符的。表表 1-1 开发区保留、改造升级、搬迁、搬迁改造企业清单（摘录）开发区保留、改造升级、搬迁、搬迁改造企业清单（摘录）序号 单位名称 主要产品 整改措施建议 主要理由 13 xxxx光学有限公司 光学元器件给予保留、发展壮大 符合产业定位 表表 1-2 开发区优先发展项目清单及环境准入开发区优先发展项目清单及环境准入 类别 优先引入条件 禁止引入类别 现代服务业 总部办公总部办公/现代物流企业总部 仓储、物流实体 创意产业创意产业/科技研发新产品、科技的研究、9、开发和设计/商贸金融商贸金融/五大类高新技术产业 新型光电子、汽车电子 C387 照明器具制造 C391 计算机制造C392 通信设备制造 C393 广播电视制造 C396 电子器件制造（除 C3961 电子真空器件制造）C3971电子元件及组件制造 C399 其他电子设备制造 C40仪器仪表制造业 I65 软件和信息技术服务业 VCD 系列整体产品及模拟 CRT电视机、生产速度低于 1500 只/时单螺旋灯丝白炽灯生产线 硅原料、多晶硅电池片、单晶硅电池片等废水废气排放量较大的企业 有废气产生的芯片制造、电路板等企业 激光视盘机生产线（VCD 系列整机产品），模拟 CRT 黑白及彩色电视机项10、目 水污染物含重金属（包括类金属砷）及其他持久性污染物、剧毒、放射性、传染性污染物 有电镀工艺的 使用有机涂层的（喷粉、喷塑和电泳除外）年用油性涂料（含稀释剂）10t 及以上（或年向大气排放挥发性有机物总量 1t 及以上）有钝化工艺的 不符合国家产业政策的 不能满足一类工业用地要求的 精密仪器仪表 通讯及网络终端设备 软件 其他 限制引进条件 不在重点发展的五大类高新技术产业内，能满足一类工业用地要求，同时为无污染（判别方式为环境影响评价登记表或豁免）、高附加值的项目 其他符合性分析 见章节 1.1 41.1 其他符合性分析其他符合性分析 1.1.1“三线一单三线一单”控制要求的符合性分析控制11、要求的符合性分析 2016 年 7 月 15 日，环境保护部以环环评201695 号文发布了关于印发的通知，改革实施方案要求在项目环评中建立“三线一单”约束机制，强化准入管理。“三线一单”是指“生态保护红线、环境质量底线、资源利用上线和环境准入负面清单”。(1)与生态红线相符合性分析 项目位于xx晋安区福兴经济开发区，根据xx省生态保护红线规定成果调整工作方案和xx人民政府关于实施“三线一单”生态分区管控的通知榕政综2021178 号文中xx市生态保护红线陆海统筹范围图，项目选址不涉及自然保护区、风景名胜区、重要湿地、生态公益林、重要自然与人文景观、文物古迹及其他需要特别保护的区域，项目用地红12、线不涉及xx生态保护红线范围。项目选址符合生态保护红线要求。(2)与环境质量底线相符合性分析 水环境质量底线 根据 xx人民政府关于实施“三线一单”生态分区管控的通知 榕政综2021178号文中xx市水环境分区管控图，项目位于水环境工业污染重点管控区。工业污染重点管控区管控要求：工业污染重点管控区管控要求：重点加快结构调整、整合提升，推进产业集聚、产业链延伸，加快补齐环保设施短板，严厉打击工业污水不稳定达标等问题。新建化工、印染、电镀、铅蓄电池、皮革、合成革及人造革建设项目，应在环保基础设施齐全并经规划环评的专业园区内布设，引导现有企业逐步入园发展；限制在工业集聚区外新建、改建和扩建工业企业。13、现有工业园区进一步配套管网，完善清污分流系统，强化污染集中治理，逐步实现工业园区废水全收集、全处理，确保污水处理厂稳定运行、达标排放。大力推进清洁生产，深入实施工业企业全面达标计划，督促工业企业加快污染设施填平补齐，从源头减少污染物排放。加强重点工业污染源自动监测和监督性监测，严厉打击违法排污行为。健全工业企业环境安全隐患排查治理制度，定期评估沿江河湖库工业企业、工业集聚区环境和健康风险，加强监控与预警。项目位于xx市福兴经济开发区，项目生产废水及生活污水处理达标后接入市政 5管网进入洋里污水处理厂处理，实现废水集中处理，不新增废水直接排放口，符合水环境质量底线管控要求。大气环境质量底线 根据14、榕政综2021178 号文中xx市大气环境管控分区图，项目位于大气环境高排放重点管控区。大气环境高排放重点管控区管控要求：大气环境高排放重点管控区管控要求：严格控制“两高”行业新增产能，实行等量或减量置换；石化中上游项目重点江阴化工新材料专区进行布局；严控钢铁行业新增产能，钢铁项目建设应符合全省产业布局要求，新建项目应实施产能等量或减量置换；推进每小时 65 蒸吨及以上燃煤锅炉、钢铁、焦化、水泥、平板玻璃、陶瓷等行业超低排放改造，鼓励燃气锅炉实施低氮改造；加快进行火电、钢铁、有色冶炼、建材、石化化工等行业的脱硫、脱硝、VOCs 处理的达标或提升改造以及无组织排放管控，建立健全石化行业“泄露检测15、与修复”管理制度；有条件的工业集聚区推进建设集中喷涂工程中心；新建水泥、有色项目、燃煤锅炉要执行大气污染物特别排放限值，其他未规定大气污染物特别排放限值的行业，待相应排放标准修订或修改后执行，所有钢铁和火电项目均需执行超低排放标准；优化能源结构，持续减少工业煤炭消费，提高能源利用效率，大力推进园区集中供热；全力推进全省港区和机场的岸电工程建设，内河和江海直达船舶必须使用硫含量不大于 10 毫克/千克的柴油；严格实施大气污染物排放总量替代，VOCs 倍量替代。项目为光电子器件制造，不属于上述约束“两高”行业、钢铁行业、石化中上游项目，各项污染物均采取有效治理措施治理后达标排放，本项目排放的污染物16、 VOCs 实行 VOCs 倍量替代，由建设单位向生态环境主管部门提交申请核定，建设单位在项目投产前取得 VOCs 区域削减替代方案批复意见。因此，项目符合大气环境质量底线管控要求。土壤环境风险防控底线 根据榕政综2021178 号文中xx市土壤污染风险管控分区图，项目位于一般管控区。土壤环境一般管控区管控目标土壤环境一般管控区管控目标：严格空间布局约束，加强土壤污染风险管控。土壤环境一般管控区重点管控要求土壤环境一般管控区重点管控要求：禁止在居民区、学校、医院、疗养院、养老院等单位周边新建、改建、扩建可能造成土壤污染的建设项目。加强未利用地开发管 6理，禁止向未利用地非法排放有毒有害物质等行17、为。矿山等矿产资源开采活动中，禁止实施影响周边未利用地的土壤生态环境的行为。项目位于xx市福兴经济开发区，属于工业用地，土壤评价范围内不存在居民区、学校、医院、疗养院、养老院等单位。项目不属于xx市土壤污染防治行动计划实施方案中所列的“金属冶炼、化工、石化、焦化、电镀、印染、医药、xx、铅酸蓄电池、废物处理和资源化、畜禽养殖等重点行业企业”。主要土壤污染风险单元为各污水处理设施、化学品仓库及危废间，建设单位通过以上区域地面防渗等措施，可有效控制土壤污染风险。根据土壤现状监测，项目区土壤现状均可满足土壤环境质量建设用地土壤风险管控标准(试行)的要求。因此，项目在做好土壤风险防护措施的前提下，项目18、建设符合土壤风险防控底线要求。(3)与资源利用上线的对照分析 水资源利用上线 xx市由于生态需水及地下水评价均能满足要求，因此，不划定管控分区。项目用水为区域集中供应。项目的水资源利用不会突破区域的资源利用上线。土地资源利用上线 根据榕政综2021178 号文中xx市土地资源重点管控区图，项目不属于生态需水重点管控区。项目用地属于规划内的工业用地。项目土地资源利用不会突破区域的资源利用上线。能源资源利用上线 根据榕政综2021178 号文中高污染燃料禁燃区图，项目不位于高污染燃料禁燃区。重点管控区管控要求如下：a 禁止销售、燃用高污染燃料。b 禁止新建、扩建燃煤（或重油）锅炉、茶水炉、经营性炉19、灶、储粮烘干设备等燃用高污染燃料的设施；已建的燃用高污染燃料设施、居民家用散煤、商业活动散煤等，应在规定的期限内改用电、天然气、液化石油气等清洁能源。c 鼓励、支持生物质燃料专用锅炉和生物质气化供热项目实施超低排放改造、燃气锅炉实施低氮燃烧技术改造、轻质柴油燃用设施改用电能。7d 生物质燃料专用锅炉大气污染物排放浓度执行锅炉大气污染物排放标准（GB13271-2014）表 3 规定的特别排放限值。项目使用市政电网供能，符合能源重点管控区管控要求。岸线资源利用上线 项目不涉及岸线资源利用。综上所述。项目的水、土地、能源等资源利用不会突破区域的资源利用上线。(4)生态环境准入清单 2020 年 120、2 月 22 日，xx省人民政府发布xx省人民政府关于实施“三线一单”生态环境分区管控的通知（闽政202012 号），本项目与xx省生态环境总体准入要求符合性见表 1.1-1。2021 年 7 月 8 日，xx市人民政府发布xx市人民政府关于实施“三线一单”生态分区管控的通知（榕政综2021178 号），本项目与福州市生态环境总体准入要求符合性分析见表 1.1-2，与xx福兴经济开发区生态环境总体准入要求符合性分析见表 1.1-3。本项目位于晋安区福兴经济开发区，属于光电子器件制造行业，符合xx省生态环境总体准入要求、xx市生态环境总体准入要求及福州福兴经济开发区生态环境总体准入要求。8表表 21、1.1-1 全省生态环境总体准入要求全省生态环境总体准入要求 适用范围 准入要求 符合性 全省陆域 空间布局约束1.石化、汽车、船舶、冶金、水泥、制浆造纸、印染等重点产业，要符合全省规划布局要求。2.严控钢铁、水泥、平板玻璃等产能过剩行业新增产能，新增产能应实施产能等量或减量置换。3.除列入国家规划的大型煤电和符合相关要求的等容量替代项目，以及以供热为主的热电联产项目外，原则上不再建设新的煤电项目。4.氟化工产业应集中布局在关于促进我省氟化工产业绿色高效发展的若干意见中确定的园区，在上述园区之外不再新建氟化工项目，园区之外现有氟化工项目不再扩大规模。5.禁止在水环境质量不能稳定达标的区域内，建22、设新增相应不达标污染物指标排放量的工业项目。本项目位于晋安区福兴经济开发区，属于光电子器件制造行业，不属于空间布局约束的类型。污染物排放管控 1.建设项目新增的主要污染物排放量应按要求实行等量或倍量替代。涉及总磷排放的建设项目应按照要求实行总磷排放量倍量或等量削减替代。涉及重金属重点行业建设项目新增的重点重金属污染物应按要求实行“减量置换”或“等量替换”。涉新增 VOCs 排放项目，VOCs 排放实行区域内等量替代，xx、xx、漳州、xx、莆田、宁德等6 个重点控制区可实施倍量替代。2.新建水泥、有色金属项目应执行大气污染物特别排放限值，钢铁项目应执行超低排放指标要求，火电项目应达到超低排放限23、值。3.尾水排入近岸海域汇水区域、“六江两溪”流域以及湖泊、水库等封闭、半封闭水域的城镇污水处理设施执行不低于一级 A 排放标准。1、本项目 VOCs 排放为已有污染源，相比于原环评总量超过部分将进行区域内倍量替代；本项目生产废水不涉及总磷排放；2、本项目属于光电子器件制造行业，不属于新建水泥、有色金属项目、钢铁项目；3、项目废水经预处理后排入洋里污水处理厂统一处理。9表表 1.1-2 xx市生态环境总体准入要求xx市生态环境总体准入要求 适用范围准入要求 符合性 xx市 陆域空间布局约束1.xx市石化中上游项目重点在江阴化工新材料专区、xx可门化工新材料产业园布局。2.鼓楼区内xx高新技术产24、业开发区洪山片禁止生产型企业的引入；xx区内xx高新技术产业开发区xx片不再新增生物医药原料药制造类企业。3.罗源县内xx台商投资区松山片区禁止引进、建设集中电镀、制浆、医药、农药、酿造等重污染项目；xx县内xx台商投资区大官坂片区不再扩大聚酰胺一体化项目规模。4.禁止在xxxx罗星塔以上流域范围新、扩建制革项目，严控新（扩）建植物制浆、印染、合成革及人造革、电镀项目。5.禁止在通风廊道和主导风向的上风向布局大气重污染企业，逐步将大气重污染企业和环境风险企业搬出城市建成区和生态保护红线范围。本项目位于晋安区福兴经济开发区，属于光电子器件制造行业，不属于空间布局约束的类型。深入推进xx流域上生态25、环境综合治理工作方案 污染物排放管控1.建设规划部门划定的县级以上城市建成区及xx市环境总体规划（2013-2030）划定的大气环境二级管控区的大气污染型工业企业（现阶段指排放二氧化硫、氮氧化物的工业企业，但不含使用天然气、液化石油气等作为燃料的非火电锅炉和工业炉窑排放二氧化硫、氮氧化物的工业企业）新增大气污染物排放量，按不低于 1.5 倍交易。2.省级（含）以上工业园区外的工业企业新增主要污染物排放量（不含使用天然气、液化石油气等作为燃料的非火电锅炉和工业炉窑的工业企业新增的二氧化硫、氮氧化物排放量），按不低于 1.2 倍交易。3.涉新增 VOCs 排放项目，VOCs 排放实行区域内倍量替代26、。4.严格控制新建、改建、扩建钢铁、水泥、平板玻璃、有色金属冶炼、化工等工业项目。新建钢铁、火电、水泥、有色项目应当执行大气污染物特别排放限值。重点控制区新建化工、石化及燃煤锅炉项目应当执行大气污染物特别排放限值。5.氟化工、印染、电镀等行业企业实行水污染物特别排放限值。本项目不涉及二氧化硫、氮氧化物的排放，项目新增的 VOCs 将进行区域内倍量替代。10表表 1.1-3 xx福兴经济开发区生态环境总体准入要求摘录（福兴经济开发区）xx福兴经济开发区生态环境总体准入要求摘录（福兴经济开发区）环境管控单元编码环境管控单元名称 管控单元类别 管控要求 项目建设情况 符合性分析 ZH3501112027、001 xx福兴经济开发区 重点管控单元 空间布局约束 1.禁止新建高耗水、废气排放量大的建设项目。2.推进现有大气污染物排放量较大的企业搬迁或升级改造。3.居住用地周边禁止布局潜在废气扰民的建设项目。本项目性质为技改扩建，经过对废气处理措施的改造可减少废气量的排放以及对周边环境的影响，厂区周边主要为其他工业企业，距离本项目最近的敏感点为距离 A 区 79m 的华伦中学 符合 污染物排放管控 1.涉新增 VOCs 排放项目，VOCs 排放实行区域内倍量替代。2.完善建设污水收集管网，确保园区内所有工业废水、生活污水纳入污水处理厂处理并达标排放。项目新增的 VOCs 将进行区域内倍量替代；项目生28、产废水及生活污水均预处理达洋里污水处理厂纳管标准后纳入洋里污水处理厂进行处理 符合 环境风险防控 建立健全环境风险防控体系，制定环境风险应急预案，建设事故应急池，成立应急组织机构，防止在处理安全生产事故过程中产生的可能严重污染水体的消防废水、废液直接排入水体。企业制定了风险防控体系，制定了环境风险应急预案，本环评实施后应进行应急预案的修编 符合 资源开发效率要求 高污染燃料禁燃区内禁止燃用高污染燃料，禁止新建、扩建燃用高污染燃料的设施。已建的燃用高污染燃料设施，限期改用电、天然气、液化石油气等清洁能源。项目不属于高污染燃料禁燃区内，且未使用高污染燃料设施 符合 111.1.2 与产业政策符合性29、分析与产业政策符合性分析 1.1.2.1 与产业结构调整指导目录与产业结构调整指导目录(2019 年本年本)符合性分析符合性分析 本项目主要从事光电子器件制造及玻璃制造，对照国家发展和改革委员会最新发布的第 40 号令促进产业结构调整暂行规定及中华人民共和国国家发展和改革委员会令第 21 号产业结构调整指导目录(2019 年本)（2021 年修改），本项目属于第一类鼓励类 十二 建材 8 信息信息、新能源、国防、航天航空等领域用高品质人工晶体材料、制品和器件领域用高品质人工晶体材料、制品和器件，功能性人造金刚石材料生产装备技术开发；高纯石英原料（纯度大于等于99.999%）、半导体用高端石英坩30、埚、化学气相合成石英玻璃等制造技术开发与生产；航天航空等领域所需的特种玻璃制造技术开发与生产；高纯纳米级球形硅微粉与高纯工业硅的生产、应用及其技术装备开发与应用及 22、半导体、光电子器件、新型电子元器件半导体、光电子器件、新型电子元器件（片式元器件、电力电子器件、光电子器件、敏感元器件及传感器、新型机电元件、高频微波印制电路板、高速通信电路板、柔性电路板、高性能覆铜板等）等电子产品用材料等电子产品用材料。因此，本项目的建设是符合国家和地方的有关产业政策。1.1.2.3 与市场准入负面清单与市场准入负面清单(2020 年版年版)符合性分析符合性分析 项目建成后从事光电子器件制造及玻璃制造，且项31、目已取得xx市晋安区工业和信息化局(闽工信外备2022A040002号)，不属于市场准入负面清单(2020年版)中禁止准入市场事项。1.1.2.4 用地许可符合性分析用地许可符合性分析 本项目位于xx福兴经济开发区，项目占地共分为 A、B、C、D 等 4 个区，根据福兴经济开发区规划，均属于工业用地。项目从事光电子器件制造及玻璃制造，不属于 禁止用地项目目录(2012 年本)和限制用地项目目录(2012 年本)中规定的禁止、限制用地项目类别。因此，项目用地符合土地利用规划，具体详见附图 2。1.1.3 与相关生态环境保护法律法规政策符合性分析与相关生态环境保护法律法规政策符合性分析 项目建设与32、相关生态环境保护法律法规政策符合性分析详见表1.2-4。12表表 1.2-4 项目建设与相关规章、政策的符合性分析一览表项目建设与相关规章、政策的符合性分析一览表 序号 规章、政策名称 具体内容 本项目建设情况 符合性分析 1 xx市人民政府关于印发xx市大气污染防治行动计划实施细则的通知（榕政综201427号）推进挥发性有机物综合治理 本项目为光电子器件、光学玻璃的生产，项目产生的有机废气经处理后达标排放。符合 2 xx市人民政府关于印发xx市水污染防治行动计划工作方案的通知（榕政综 2015 390号）强化经济技术开发区、高新技术产业开发区、出口加工区等工业园区污染集中治理，园区内工业废水33、必须经预处理达到集中处理要求，方可进入污水集中处理设施，新建、升级工业园区应同步规划、建设污水、垃圾集中处理等污染治理设施。本项目为光电子器件、光学玻璃的生产，厂区雨污分流，生产废水经预处理、生活污水经化粪池处理达到纳管标准后排入洋里污水处理厂统一处理。符合 3 xx市人民政府关于印发xx市土壤污染防治行动计划实施方案的通知 四、强化未污染土壤保护 1.加强空间布局管控 严守生态保护红线，在红线管控区域实施最严格的土地用途管制和产业退出机制。产业园区和重点行业企业布局应严格遵循主体功能区规划和生态保护红线，实施规划环评与建设项目环评联动机制，充分考虑土壤环境等资源环境承载能力，科学论证产业园区34、功能定位和空间布局，建立产业园区重点行业环境准入清单，加强重点项目布局论证。落实城镇总体规划和土地利用规划中城乡建设用地“三界四区”的土地用途管制，科学规划布局生活垃圾处理、危险废物处置、废旧资源再生利用等设施和场所，从规划源头上避免用地功能矛盾；严格执行相关行业企业布局选址要求，有序搬迁或依法关闭对土壤造成严重污染的现有企业。本项目为技改扩建项目，未新增用地，所在地块为一类工业用地，项目实施符合土壤环境等资源环境承载能力、区域功能定位和空间布局要求 企业将根据环评提出的土壤污染防范措施完善落实。符合 4 挥发性有机物（VOCs）污染防治技术政策 二、源头和过程控制（十）在涂装、印刷、粘合、工35、业清洗等含 VOCs 产品的使用过程中的 VOCs 污染防治技术措施包括：6.含 VOCs 产品的使用过程中，应采取废气收集措施，提高废气收集效率，减少废气的无组织排放与逸散，并对收集后的废气进行回收或处理后达标排放。本项目有机溶剂清洗、擦拭等及环氧树脂涂胶等工序将产生有机废气，有机废气分楼栋收集，在屋顶处理后排放。符合 三、末端治理与综合利用（十二）在工业生产过程中鼓励 VOCs 的回收利用，并优先鼓励在生产系统内回用。（十三）对于含高浓度 VOCs 的废气，宜优先采用冷凝回收、吸附回收技术进行回收利用，项目产生有机废气均小于200mg/m3，属于低浓度有机废气，不具备回收价值，不含符合 136、3序号 规章、政策名称 具体内容 本项目建设情况 符合性分析 并辅助以其他治理技术实现达标排放。（十四）对于含中等浓度 VOCs 的废气，可采用吸附技术回收有机溶剂，或采用催化燃烧和热力焚烧技术净化后达标排放。当采用催化燃烧和热力焚烧技术进行净化时，应进行余热回收利用。（十五）对于含低浓度 VOCs 的废气，有回收价值时可采用吸附技术、吸收技术对有机溶剂回收后达标排放；不宜回收时，可采用吸附浓缩燃烧技术、生物技术、吸收技术、等离子体技术或紫外光高级氧化技术等净化后达标排放。（十六）含有有机卤素成分 VOCs 的废气，宜采用非焚烧技术处理。（十七）恶臭气体污染源可采用生物技术、等离子体技术、吸附37、技术、吸收技术、紫外光高级氧化技术或组合技术等进行净化。净化后的恶臭气体除满足达标排放的要求外，还应采取高空排放等措施，避免产生扰民问题。（十八）在餐饮服务业推广使用具有油雾回收功能的油烟抽排装置，并根据规模、场地和气候条件等采用高效油烟与 VOCs 净化装置净化后达标排放。（十九）严格控制 VOCs 处理过程中产生的二次污染，对于催化燃烧和热力焚烧过程中产生的含硫、氮、氯等无机废气，以及吸附、吸收、冷凝、生物等治理过程中所产生的含有机物废水，应处理后达标排放。（二十）对于不能再生的过滤材料、吸附剂及催化剂等净化材料，应按照国家固体废物管理的相关规定处理处置。有机卤素成分，针对 C 区 2#、38、3#、5#楼废气有机废气浓度较高引至 2#楼楼顶经沸石分子筛吸附+脱附催化燃烧装置处理后排放；其余浓度相对较低的 A 区 2#、3#、4#、5#号楼有机废气经各楼收集系统收集后分别引至各楼顶经活性炭吸附处理后经 15m 排气筒排放；B 区 3#、4#有机废气引至 B4#楼顶经活性炭处理后排放；C 区 4#、11#、12#有机废气引至各自楼顶经活性炭处理后排放；C 区 8#楼有机废气经收集后引至楼顶经现有的 UV 光解+活性炭吸附处理后排放；D 区 2#楼有机废气经收集后引至楼顶经活性炭吸附处理后排放；活性炭吸附装置产生的废活性炭严格按照危险废物管控处置五、运行与监测（二十五）鼓励企业自行开展 39、VOCs 监测，并及时主动向当地环保行政主管部门报送监测结果。（二十六）企业应建立健全 VOCs 治理设施的运行维护规程和台帐等日常管理制度，并根据工艺要求定期对各类设备、电气、自控仪表等进行检修维护，确保设施的稳定运行。（二十七）当采用吸附回收（浓缩）、催化燃烧、热力焚烧、等离子体等方法进行末端治理时，应编制本单位事故火灾、爆炸等应急救援预案，配备应急救援人员和器材，并开展应急演练。企业定期进行 VOCs 排污口监测；已建立实际建于 VOCs治理设施的运行维护规程和台帐等日常管理制度，并根据工艺要求定期对各类设备、电气、自控仪表等进行检修维护，确保设施的稳定运行；编制本单位事故火灾、爆炸等应40、符合 14序号 规章、政策名称 具体内容 本项目建设情况 符合性分析 急救援预案，配备应急救援人员和器材，并开展应急演练，要求本项目实施后进行修编及演练 5 xx市人民政府办公厅关于印发福州市“十四五”生态环境保护规划的通知（榕政办 2021123 号）第四章 加强区域协同结构治理，打造“美丽蓝天”第一节 深入推进重点领域污染治理 强化挥发性有机物整治。持续开展挥发性有机物整治专项行动，推进xx市重点行业挥发性有机物综合治理工作（VOCs2.0），逐步推动重点企业编制挥发性有机物治理“一厂一策”。实行挥发性有机物排放倍量替代。加大涉 VOCs 企业源头替代力度，推广使用低（无）VOCs 原辅材41、料替代，禁止生产高 VOCs 含量有机溶剂型涂料、油墨和胶黏剂的新、改、扩建项目，推进重点企业“油改水”治理，提高有机溶剂回收率。将低 VOCs 含量产品与使用低 VOCs 含量原辅材料的产品纳入政府采购名录。全面提升治理设施“三率”，强化无组织排放管控和精细化管理。组织企业对现有 VOCs 废气收集率、治理设施同步运行率和去除率开展自查，对达不到要求的 VOCs 收集、治理设施进行更换或升级改造，确保实现达标排放。实施石油化学工业、合成树脂工业和纺织染整等涉 VOCs 提标改造项目，推广 LDAR（泄漏检测与修复）技术。以石化、化工、制药、印刷、涂装、制鞋等为重点行业，以江阴、可门相关产业集42、聚区为重点区域，逐步实施重点企业挥发性有机物等特征污染 物在线监控，探索建立自动监测、预警和应急系统并实现与环保部门监控网络联网。积极探索开展第三方治理模式，推广集中喷涂中心、活性炭集中处理中心、溶剂回收中心等集中处理处置新模式。已编制 xxxx光学有限公司 挥发性有机物综合治理一厂一策(2.0 版)，本项目实施后实行挥发性有机物排放倍量替代 符合 6 挥发性有机物无组织排放控制标准（GB37822-2019）VOCs 物料应储存于密闭的容器、包装袋、储罐、储库、料仓中 项目 VOCs 物料主要包括乙醇、乙醚、丙酮、异丙醇等，物料储存于密封桶放置于化学品仓库中 符合 1）液态 VOCs 物料应43、采用密闭管道输送。采用非管道输送方式转移液态 VOCs 物料时，应采用密闭容器、罐车。2）粉状、粒状 VOCs 物料应采用气力输送设备、管状带式输送机、螺旋输送机等密闭输送方式，或者采用密闭的包装袋、容器或罐车进行物料转移。项目液态 VOCs 物料采用密闭容器输送。无粉状、粒状 VOCs 物料 15二、建设项目工程分析 建设内容 见 2.1、2.2 及 2.3 章节 工艺流程和产排污环节 见 2.4 章节 与项目有关的原有环境污染问题 见 2.5 章节 162.1 工程环保手续履行情况工程环保手续履行情况 xxxx光学有限公司创办于 2002 年，选址位于晋安区鼓山镇福兴投资区。环保手续履行情44、况如下：（1）环评批复及验收 建设单位现有工程环评批复和验收情况一览表见 2.1-1。表表 2.1-1 现有工程环评批复和验收情况一览表现有工程环评批复和验收情况一览表 项目名称 产品及产量 环评文件批复时间、单位 环保验收时间、单位 建设情况光学器件项目 年产棱镜 328 万片、透镜 4 万片、波片 2.8 万片、单晶 GaAs 228 千克、掺钒酸钇 5000 片、绿色激光器 36 万片、偏硼酸钡 500 片、铌酸锂 45 万片、晶体器件 5 万片 2006 年 7 月获得福州市环境保护局的批复意见 2006 年 12 月获得 xx市环境保护局 的验收意见（榕环测（2006）第 YS24145、0 号）已投产并正常运营扩建项目 年产 SIC 器件 50 万件、柱面镜 23 万件 2020 年 9 月获得福州市晋安生态环境局的批复意见（榕晋环审2020015号）未验收 设备已安装，未达产 （2）排污许可证 项目于 2020 年 4 月 20 日在全国排污许可证管理信息平台进行了登记，登记编号：913501007380391711001X。排污许可为简化管理。2.2 原环评回顾原环评回顾 xxxx光学有限公司成立于 2002 年 5 月，是一家致力于开发、制造和提供无机非金属材料及制品(人工晶体、特种玻璃)，新型电子元器件(光电子器件、新型机电元件)的大型跨国性高新技术企业。现有工程共分46、为两期，其中：一期原环评及批复项目为xxxx光学有限公司光学器件项目环境影响报告表，位于晋安区福新东路 253 号 C 区 2#楼一、二层、C 区 4#楼一层和 C 区 8#楼二、三、四层，生产规模为年产棱镜 328 万片、透镜 4 万片、波片 2.8 万片、单晶 GaAs 228千克、掺钒酸钇 5000 片、绿色激光器 36 万片、偏硼酸钡 500 片、铌酸锂 45 万片、晶体器件 5 万片；扩建项目位于福兴大道 56 号 D 区 1#楼六层、七层及 D 区 2#楼一层五层，生产规模为年产 SIC 器件 50 万件、柱面镜 23 万件。17原有项目组成情况见表 2.2-1。表表 2.2-1 47、项目组成一览表项目组成一览表 一、主体工程 1 生产车间（实际建于 A 区 2#楼 2 层）建筑面积 946m2 棱镜 2 生产车间（实际建于 A 区 2#楼 1 层）建筑面积 922m2 掺钒酸钇 NdYVO4 3 生产车间（实际建于 A 区 3#楼 1 层）建筑面积 227m2 4 生产车间（实际建于 C 区 4#楼 1、2 层）建筑面积 1099m2 偏硼酸钡 BBO、铌酸锂 LN、晶体器件5 生产车间（实际建于 C 区 8#楼 14 层）建筑面积 5204m2 光学玻璃、光纤头 6 生产车间（实际建于 D 区 2#楼 F1-5 层）建筑面积 7500m SIC 器件、柱面镜 二、辅助工48、程 1 食堂 C 区 7#楼 26 层，供区内职工就餐使用 2 办公室 D 区 1#楼 F6、F7 三、公用工程 1 给水工程 由中航技工业小区市政供水管网供给 2 供电工程 由中航技工业小区高压线引入配电室，通过变压器及配电箱接入厂区 3 排水系统 排水采用雨污分流制；厂区雨水管线接入市政雨水管网；生活污水及生产废水分别经相应预处理后排入市政污水管网，进入洋里污水处理厂集中处理 4 供热系统 采用电加热 四、环保工程 1 废水 C 区生产废水 C8#北侧设有一处生产废水处理设施，处理规模为 60m3/d，废水经沉淀处理后接至市政污水管网排入洋里污水处理厂 D 区生产废水 处理规模 312t/49、d，包括 288t/d 的柱面车间及抛光废水处理水系统及24t/d 的酸碱废水处理系统 生活污水 依托出租方化粪池预处理后接至市政污水管网排入洋里污水处理厂2 废气 C8#楼楼顶设有一个有机废气处理设施，各有机废气经集中收集后通过“UV 光解+活性炭吸附”装置处理后通过 30m 高排气筒排放 D2#楼 SIC 车间与柱面车间设置集气设备、酸碱废气吸收塔、水喷淋系统、UV 光解与活性炭吸附设备、40m 高排气筒 3 噪声 各生产设备 184 危废临时贮存点 依托原厂区危废仓库 2.2.1 原环评工程原辅材料原环评工程原辅材料 原环评工程原辅材料使用情况详见表 2.2-2。表表 2.2-2 原环评50、工程主要原辅材料消耗情况原环评工程主要原辅材料消耗情况 序号 名称 年用量 备注 一期一期 1 K9玻璃 4900kg/年 用于生产棱镜、透镜、波片 2 玻璃套管 48万片/年 用于生产透镜 3 石英晶体 50kg/年 用于生产波片 4 YVO4 20kg/年 用于生产NdYVO4(掺钒酸钇)5 K2玻璃 500kg/年 用于生产GLC 6 BBO 500片/年 用于生产BBO 7 LN晶片 620片/年 用于生产LN(铌酸锂)8 晶体半成品 200kg/年 用于生产晶体器件 9 毛细管 122万片/年 用于生产光纤头 10 光纤线 366万米/年 用于生产光纤头 11 金刚砂 24万吨/年 51、用于镀膜工序 12 乙醇乙醚混合液 1.5吨/年 用于清洗工序 二期二期 1 碳化硅基片 50万个/年 用于生产SIC器件 2 双氧水 100吨/年 3 异丙醇 18吨/年 4 硫酸 40吨/年 5 盐酸 20吨/年 6 氢氟酸 15吨/年 7 抛光液 200吨/年 8 清洗剂 15吨/年 9 氨水 40吨/年 10 氢氧化钾 0.5吨/年 11 丙酮 1吨/年 12 无色玻璃 20吨/年 用于生产柱面镜 13 抛光液 47瓶/年 14 丙酮 988瓶/年 15 清洗剂 222桶/年 16 腊 52盒/年 17 绿砂 2.28吨/年 19序号 名称 年用量 备注 能源消耗 1 水 68220吨52、/年 2 电 360万Kwh/年 2.2.2 原环评工程生产设备原环评工程生产设备 原环评工程主要生产设备详见表 2.2-3。表表 2.2-3 原环评工程主要生产设备原环评工程主要生产设备 序号序号 设备名称设备名称 数量（台）数量（台）备注备注 一期一期 1 玻璃下料机 1 3 内圆切割机 18 4 无芯磨床 3 5 铣磨机 1 6 滚园机 1 7 点胶机 1 8 二轴抛光机 12 9 超声波清洗机 8 10 三轴研磨机 6 11 单轴磨砂机 10 12 磨边机 23 13 二十轴机 36 15 真空镀膜机 12 16 晶体喷沙机 1 17 磨边机 3 18 发电机 1 二期二期 1 磨边机53、 24 SIC 车间 3 化学抛光机 19 4 喷酸雾剂清洗机 5 5 批次清洗系统 2 6 毛刷清洗机 2 7 洗涤器 6 8 喷酸清洗机 3 9 边缘轮廓检测仪 8 10 表面轮廓测量仪 6 11 检查显微镜 24 20 2.2.3 原环评生产工艺流程及产污环节原环评生产工艺流程及产污环节 原环评工程生产工艺流程及产污环节详见图 2.2-1图 2.2-8。1 一期工程(1)棱镜 图图 2.2-1 棱镜生产工艺流程及产污环节棱镜生产工艺流程及产污环节 (2)掺钒酸钇 NdYVO4 图图 2.2-2 掺钒酸钇掺钒酸钇 NdYVO4生产工艺流程及产污环节生产工艺流程及产污环节 (3)透镜、波片等54、光学玻璃 12 颗粒物检测器 26 13 四轴柱面磨抛机 22 柱面车间 14 柱面滚抛机 11 15 三轴柱面研磨机 10 16 三轴高速精磨抛光机 6 17 四轴气压柱面磨抛机 6 18 单轴机 5 19 净化工作台 35 20 单槽式超声波清洗机 7 21 CNC 雕刻机 4 下料 粗磨 细磨抛光镀膜胶合 切割 成品 废水 废水 废水 废气、固废 切削原料NdYVO4 提拉炉内 生长晶体 成品 取出上盘切片下盘上盘研磨抛光 下盘、擦拭、检测抛光 废水 上盘真空 镀膜抛光 下盘 21 图图 2.2-3 透镜、波片等光学玻璃生产工艺流程及产污环节透镜、波片等光学玻璃生产工艺流程及产污环节 (55、4)光纤头 图图 2.2-4 光纤头生产工艺流程及产污环节光纤头生产工艺流程及产污环节 (5)偏硼酸钡 BBO、铌酸锂 LN 图图 2.2-5 硼酸钡硼酸钡 BBO、铌酸锂、铌酸锂 LN 生产工艺流程及产污环节生产工艺流程及产污环节 (6)晶体器件 图图 2.2-6 晶体器件生产工艺流程及产污环节晶体器件生产工艺流程及产污环节 2 二期工程(1)SIC 器件 对碳化硅基片进行化学机械抛光和斜切，然后进行喷酸雾剂清洗，磨边，洗涤器清洗，再进行各类检测和测试，完了再进行洗涤器和喷酸清洗机清洗，最后分拣和包装。图图 2.2-7 SIC 器件生产工艺流程及产污环节器件生产工艺流程及产污环节 玻璃 半成56、品 精模抛光 楔角清洗检镀膜 产品 废水、废气 废水 上胶 检测 入库 上盘粗磨抛光检测 废水、废气擦拭镀膜 废气、固废 废水、废气废气、固废 废气、固废 废气、固废 半成上盘研磨抛光 下盘、擦拭表面、检测抛光上盘真空 镀膜抛光 下盘 废水、废气 废水、废气、固废成品 废水 定向 切割粗磨上盘废水 镀膜检测 废水 废气、固废 化学机械抛光 收料 斜切清洗检测废水 检测包装 废水、废气废水、废气 末道清洗废水 晶体生长 22(2)柱面镜 将原材料（无色玻璃）切片后进行柱面与侧面的磨砂、抛光，之后进行切割倒角，之后用清洗剂进行清洗，最后对产品进行镀膜，结束后对产品进行成品检测，检验合格后包装为成品57、。图图 2.2-8 柱面镜生产工艺流程及产污环节柱面镜生产工艺流程及产污环节 2.3 改扩建工程建设内容改扩建工程建设内容 2.3.1 本次技术提升改造及扩建项目项目由来本次技术提升改造及扩建项目项目由来 根据实际踏勘情况可知，较原环评相比，由于光电子产品更新换代越来越快，且为了迎合市场的需求，满足人们日益增长的需要，xx光学公司已对部分现有工程的生产车间进行了调整，且优化了生产工艺，同时拟扩大生产规模，拓宽产品种类，主要生产晶体制品、光纤产品、激光器件、光学玻璃和光栅产品等产品。由于原环评编制较早，原环评建设内容、平面布置及污染防治措施与现状存在较大偏差。现状共年产晶体制品 135 万片（规58、模扩大，含原环评含掺钒酸钇、偏硼酸钡产品），光纤产品 500 万件（新增），激光器件 18 万件（含原环评绿色激光器），光学玻璃2330 万片（规模扩大，含原环评中的棱镜、透镜、玻片、SIC 器件、柱面镜）、光栅产品 3.5 万件（新增），相比于原环评平面布置、产品类型及规模均发生了较大变化。现有工程实际建设位置、建设规模与环评、验收对比情况一览表见表 2.3-1，现有工程实际环保措施与环评、验收对比情况一览表见表 2.3-2。柱面磨砂、抛光 切片 检测切割废水、废气 检测包装侧面磨砂、抛光 倒角清洗 废水、废气废水、废气废水、废气 镀膜 23表表 2.3-1 现有工程实际建设位置、建设规模与59、环评、验收对比情况一览表现有工程实际建设位置、建设规模与环评、验收对比情况一览表 工程名称 环评、环评批复及验收情况 实际情况 变化情况 项目位置 建设规模 项目位置 建设规模 xxxx光学有限公司光学器件项目 C 区 2#1-2F、C 区 4#1F 和C 区 8#2-4F 年产棱镜 328 万片（光学玻璃）、透镜4 万片（光学玻璃）、波片 2.8 万片（光学玻璃）、单晶 GaAs 228 千克（晶体制品）、掺钒酸钇 5000 片（晶体制品）、绿色激光器 36 万片（激光器件）、偏硼酸钡 500 片（晶体制品）、铌酸锂 45万片（晶体制品）、晶体器件 5 万片（晶体制品）（合计为光学玻璃 3360、4.8 万件，晶体制品 50.55 万件，激光器件 36 万件，单晶 GaAs 228 千克）A 区 A2#1-3F、A3#1F、A3#3F、A4#1-4F、A5#1F、A5#3F、B区B3#1-3F、B3 南楼 1-2F、B4#1F、B4#3F、C区C2#1-2F、C3#1F、C4#1-2F、C5#1-2F、C8#1-4F、C11#1-2F、C12#1F 单晶 GaAs 停止生产；年产晶体制品135万片，光纤产品500万件，激光器件 18 万件，光学玻璃 2330 万片、光栅产品 3.5万件 车间位置根据生产需要均发生较大变化，单晶GaAs 停止生产；光学玻璃、光栅产品、激光器件、晶体制品等61、规模总体增加 xxxx光学有限公司扩建项目 D 区 1#6-7F及 D 区2#1-5F 年产 SIC 器件 50 万件（光学玻璃）、柱面镜 23 万件（光学玻璃）D 区 1#8F 及 D 区2#1-5F 未达产，建设规模年产 SIC 器件 60 万件、柱面镜 23 万件，现状年产 SIC 器件 10 万件）办公区位置变化、产能增加 表表 2.3-2 现有工程实际环保措施与环评、验收对比情况一览表现有工程实际环保措施与环评、验收对比情况一览表 工程名称 环评批复及验收情况 实际情况 变化情况 项目 环保措施 项目环保措施 xx高意光学有限公司光学器件项目 废水 近期生产废水经沉淀预处理后、食堂厨62、房污水经隔油池预处理后、生活污水经地埋式微动力处理设施处理后排入磨洋河，远期生产废水经沉淀预处理、生活污水经化粪池预处理后通过市政污水管网纳入洋里污水处理厂深度处理废水目前建设单位在 A4 楼南侧地面废水处理设施（预沉淀处理（总容积约 5m3，2m3/h）破乳+气浮+生化（规模 30t/d）；B 区东南角絮凝沉淀废水设施（总容积约 12m3，5m3/h）C 区 8#楼北侧设有一座生产废水处理设施，采用絮凝沉淀工艺，预沉淀处理总容积 15m3，6m3/h，C2 楼建设预沉淀处理，总容积约 8m3，4m3/h；C4 楼预沉淀处理，总容积约 2m3，1m3/h；C11 楼建设预沉淀处理，总容积约 263、m3，1m3/h；现有工程生产废水经厂区生产废水处理设施沉淀处理后与经化粪池预处理的生活污水一同接因厂区平面布局变化，废水处理设施规模及措施相应调整，废水经预处理后排至集中式污水处理厂统一处理 24至市政污水管网排入洋里污水处理厂 废气 擦拭晶体产生的废气和配胶工序产生的废气必须安装集气罩抽高空排放；厨房油烟应集中处理并由专用烟道引至高空排放 废气擦拭及配胶工序有机废气经集中收集后通过“UV 光解+活性炭吸附”装置处理后通过 30m高排气筒排放；其余楼栋非甲烷总烃经收集后排放；厨房油烟应集中处理并由专用烟道引至高空排放 增加了有机废气处理设施，VOCs 经处理达标后排放 噪声 高噪声设备做好隔64、声、减震等降噪措施 噪声高噪声设备做好隔声、减震等降噪措施/固废 应设置专门封闭式的固体废弃物收集间，垃圾应袋装处理，及时清运；生产性固废应委托厂家进行回收处理 固废设置有专门封闭式的固体废弃物收集间，垃圾袋装处理，及时清运；生产性固废委托厂家进行回收处理/xx高意光学有限公司扩建项目 废水 生产废水 经自建污水处理设施处理后接入市政污水管网纳入洋里污水处理厂处理 废水生产废水 经自建污水处理设施（D2 楼南侧负一层（石灰+酸碱中和+絮凝沉淀+生化）处理后接入市政污水管网纳入洋里污水处理厂处理/生活污水 经化粪池预处理后接入市政污水管网纳入洋里污水处理厂处理 生活污水 经化粪池预处理后接入市政65、污水管网纳入洋里污水处理厂处理/废气 酸性废气 酸性废气填料收集塔+40m 高排气筒排放 废气酸性废气 酸性废气水（加入少量氢氧化钠）喷淋填料收集塔+40m 高排气筒排放/碱性废气 碱性废气填料收集塔+40m 高排气筒排放 碱性废气 碱性废气水喷淋填料收集塔+40m 高排气筒排放/有机废气 集气设施+水喷淋系统+UV 光解+活性炭吸附+40m 高排气筒排放 有机废气 集气设施+活性炭吸附+40m 高排气筒排放 措施变化 噪声 设备采用独立基础 噪声设备采用独立基础，厂房隔声等/固废 工业固废 设立临时储存点（地面应硬化）集中收集后外售 固废工业固废 设立临时储存点（地面应硬化）集中收集后外售/66、危险固废 储存于原有项目危险废物临时贮存点（地面应硬化、做防腐防渗处理），委托有资质单位处理 危险固废 储存于原有项目规范化的危险废物临时贮存点，各类危险废物经集中收集后委托有资质单位处理处置/生活垃圾 生活垃圾在厂区内设置垃圾桶袋装化收集后交由环卫部门统一处理 生活垃圾 生活垃圾在厂区内设置垃圾桶袋装化收集后交由环卫部门统一处理/25故本评价拟对xxxx光学有限公司进行全厂整体评价，将该公司全部建设内容纳入本次技术提升改造及扩建项目的环境影响评价编制内容。同时建设单位拟在现有工程基础上扩大原有 SCI 器件产能（由原有年产 50 万件变为年产 60 万件，包含在光学玻璃总规模中），同时增加湿67、法金属化工段（为提高产品性能，在光学玻璃生产工艺中增加该段工艺，位于 C12#楼 F1）；项目建成后全厂年产晶体制品 135 万片，光纤产品 500 万件，激光器件 18 万件，光学玻璃 2330 万片、光栅产品 3.5 万件。根据建设项目环境保护管理规定、建设项目环境保护分类管理名录（2021年）的相关规定，本项目应编制环境影响报告表，具体详见表 2.3-2。表表 2.3-3 建设项目环境影响评价分类管理名录建设项目环境影响评价分类管理名录 环评类别 项目类别 报告书 报告表 登记表 三十七、仪器仪表制造业 40 83、通用仪器仪表制造 401；专用仪器仪表制造 402；钟表与计时仪器制造 68、403*；光学仪器制造 404；衡器制造 405；其他仪器仪表制造业 409 有电镀工艺的；年用溶剂型涂料（含稀 释剂）10 吨及以上的 其他其他（仅分割、焊接、组装的除外；年用非溶剂型低 VOCs 含量涂料 10吨以下的除外）/三十六、计算机、通信和其他电子设备制造业 39 80、电子器件制造 397/显示器件制造；集成电路制造；使用显示器件制造；集成电路制造；使用有机溶剂的；有酸洗的以上均不含仅有机溶剂的；有酸洗的以上均不含仅分割、焊接、组装的分割、焊接、组装的/2.3.2 技术提升改造及扩建项目基本情况技术提升改造及扩建项目基本情况(1)项目名称：xxxx光学有限公司光学器件产品技术提升69、改造及扩建项目；(2)建设单位：xxxx光学有限公司；(3)建设性质：技改、扩建；(4)建设地点：xx市晋安区福兴大道 39 号 A 区、后屿路 5 号 A 区、后屿路 12号 B 区、福光路 67 号 B 区、福新东路 253 号 C 区、福兴大道 56 号 D 区；(5)总 投 资：30000 万元；(6)建筑面积：32586m2；(7)生产规模：年产晶体制品 135 万片，光纤产品 500 万件，激光器件 18 万件，光学玻璃 2330 万片、光栅产品 3.5 万件；(8)人员编制：劳动定员 2792 人，其中 A 区 519 人、B 区 637 人、C 区 1403 人、26D 区 270、33 人；2500 人在厂区内就餐，不住宿。(9)工作制度：项目全年工作天数为 300 天，每天工作 12 小时。2.3.3 技术提升改造及扩建项目工程概况技术提升改造及扩建项目工程概况 2.3.3.1 产品及产能情况产品及产能情况 技术提升改造及扩建项目实施后年产晶体制品 135 万片，光纤产品 500 万件，激光器件 18 万件，光学玻璃 2330 万片、光栅产品 3.5 万件，主要产品产能及与原环评对比情况见表 2.3-4。表表 2.3-4 主要产品及产能一览表主要产品及产能一览表 主要产品名称 主要产品产量 生产车间分布情况 原环评批复现有实际工程 本次改扩建项目 原环评批复 现有工程71、 本次改扩建项目 晶体制品 50.55 万件（含掺钒酸钇 5000 片、偏硼酸钡500 片）、单晶 GaAs 228千克 135 万片 135 万片 C2#1-2F、C4#1F、C8#2-4FA2#1F、A2#3F、A3#1F、A4#1-3F、B3#2F、C5#1F、C8#1-4F A2#1F、A2#3F、A3#1F、A4#1-3F、B3#2F、C5#1F、C8#1-4F 光纤产品/500 万件 500 万件/A3#3F、A5#1F、A3#3F、A5#1F、激光器件 36 万件（绿色激光器 36万件）18 万件 18 万件C2#1-2F、C4#1F、C8#2-4FA5#3F A5#3F 光学玻72、璃 407.8 万件（含棱镜328 万片、透镜 4 万片、波片 2.8 万片、SIC 器件50 万件、柱面镜 23 万件）2257 万件（其中 SIC器件、柱面镜生产线已建成未达产，实际生产 SCI 器件10 万件）2330 万片 C2#1-2F、C4#1F、C8#2-4FD2#1-5F A2#2F、A5#1F、B3#1F、B3#3F、B3南楼 1-2F、C2#1-2F、C3#1F、C4#1-2F、C5#1-2F、C12#1F、C8#1-4F、D1#6-7F、D2#1-5F A2#2F、A5#1F、B3#1F、B3#3F、B3南楼 1-2F、C2#1-2F、C3#1F、C4#1-2F、C5#173、-2F、C12#1F、C8#1-4F、D1#6-7F、D2#1-5F光栅产品3.5 万件/3.5 万件 3.5 万件/C8#1-4F C8#1-4F 2.3.3.2 平面布置平面布置 建设单位现根据实际生产需要，对项目总平面布置进行了调整，本次技改扩建工程由南向北共布置 A、B、C、D 共 4 个区。A 区位于福兴大道西侧、后屿路南侧，包 27括 A2(F1、F2、F3)、A3（F1、F3）、A4(F1、F2、F3)、A5(F1、F3)等厂房；B 区位于后屿路南北两侧、福光路东侧，其中 B3(F1、F2、F3、B3 南楼 F1、F2)、B4(F1、F3)；C 区位于福兴东路南侧，东西两侧分别与74、福光路和福兴大道相邻，包括 C2(F1、F2)、C3（F1）、C4（F1、F2）、C5（F1、F2）、C8（F1、F2、F3、F4）、C11（F1、F2）、C12（F1），D 区与湖塘路南侧、福兴大道西侧相邻，包括 D2（F1、F2、F3、F4、F5）等厂房，详图见附图 3，对项目布局合理性分析如下：(1)总平面布置功能分区明确，主要生产设备均采取基础减震和墙体隔声，高噪声的机械设备均位生产厂房内，可以有效降低噪声对外环境的影响。(2)项目厂房总平面布置合理顺畅、各个功能分区明确。生产区布置比较紧凑、物料流程短，车间能按照生产工序进行布局，功能分区明确，总体布置有利于生产操作和管理，厂区总平面75、布置基本合理。(3)项目分为 A、B、C、D 四个区，各楼栋废气经收集后在本栋楼楼顶处理后排放；各区设置污水预处理设施，需进行预处理的生产废水经各预处理设施处理后排至本区排放口排至洋里污水处理厂。综上所述，项目总平面布置考虑了建、构筑物布置紧凑性、节能等因素，功能分区明确，总图布置基本合理。项目现有工程各厂房功能及布置情况详见下表 2.3-5。表表 2.3-5 各厂房功能及布置情况一览表各厂房功能及布置情况一览表 车间名称 本次技改扩建工程 原环评情况 与环评文件变化情况 工程现状建设情况 A2 F1：晶体提拉车间；F2：光学玻璃车间；F3：器件车间 未涉及 新增 已建 A3 F1：晶体提拉车76、间、光学器件研发室；F3：光纤车间，布置 LC 生产线；未涉及 新增 已建 A4 F1、F2：晶体车间；F3：激光器及激光模组车间；未涉及 新增 已建 A5 F1：柱面原料切割车间、光纤车间（包括 FBG 生产线、coupler 生产线）；F3：激光器及激光模组车间；未涉及 新增 已建 B3 F1：光学玻璃车间，包括 Wafaer 光学玻璃生产车间、明月 chicklet 车间；F2：NPI 装配车间，包括声光器件装配线、光纤装配及光纤阵列、光机组装镜头；F3：明月 chicklet 车间，包括反射镜、窗片、组合件镜；B3 南楼 1、2 层：光学玻璃旋转片车间。未涉及 新增 已建 B4 F3：77、光纤装配车间；F1：镀膜车间；未涉及 新增 已建 28C2 F1：光学玻璃球面车间、镀膜车间；F2：光学玻璃球面车间；F1：镀膜工序F2：偏硼酸钡BBO、铌酸锂LN、晶体器件生产规模与功能均变化 已建 C3 F1：毛坯车间；未涉及 新增 已建 C4 F1：光学玻璃明月 chicklet 车间、光学晶体研发室，内设光学玻璃棒镜切割房；F2：光学晶体研发室；F1：粗磨等前处理工序 生产规模与功能均变化 已建 C5 F1：晶体车间、光学玻璃球面车间；F2：光学玻璃球面车间；未涉及 新增 已建 C8 F1：明月 chicklet 车间、NPI 车间、平面车间，包括光学玻璃硅发射镜切割房及光学组合件等生78、产线；F2：光学车间、平面车间，包括检测房、磨砂、清洗、装配等；F3：光学车间、平面车间，包括检测房、磨砂、清洗、装配等；F4：光学车间、光纤车间；F1：光纤头 F2：棱镜 F3：单晶GaAs、掺钒酸钇NdYVO4、透镜、波片 生产规模与功能均变化 已建 C11 F1：光学玻璃 NPI 车间、光学玻璃球面车间；F2：光学玻璃球面车间；未涉及 新增 已建 C12 F1：光学玻璃 NPI 车间、湿法金属化、镀膜车间；未涉及 新增 湿法金属化工序未建，其余已建 D2 F1-5：柱面车间、SCI 车间、SLENS 车间；1F、2F（SIC 车间）；3F（仓库）；4F、5F（柱面车间）生产规模与功能均变79、化 已建 2.3.3.3 项目组成项目组成 项目组成情况见表 2.3-6。表表 2.3-6 项目组成一览表项目组成一览表 项目名称 工程内容及规模 备注 主体 工程 生产车间 本项目共涉及 A 区、B 区、C 区、D 区四个区域，具体车间设置情况详见表 2.3-7。已建 辅助工程 化学品 仓库 位于 B 区（西北角），共有 7 间（其中包括两间成品防爆仓库），建筑面积 160m2 已建 食堂 分别位于 C 区 7#楼 26 层，D 区 2#楼 8 层，供职工就餐使用 已建 办公区 位于 D 区 1#8 层，建筑面积约 2000m2，主要功能为办公、会议及休闲等 已建 公用 工程 供水系统 依托80、出租方现有供水系统，由市政给水管网供给 依托出租方（已建）纯水制备系统 项目共设有 7 个纯水制备间，制得率约 50%，具体设置情况详见 2.3-10 依托出租方（已建）供电系统 依托出租方现有供电系统，由市政供电系统供给 依托出租方（已建）29项目名称 工程内容及规模 备注 排水系统 依托出租方现有排水系统，采取雨污分流制，雨水经收集接至市政雨水管网，各类污水分别经相应预处理后接至市政污水管网排至洋里污水处理厂集中处理 依托出租方（已建）环保 工程 废水 见表2.3-11 已建 废气 见表2.3-11 见表2.3-11 噪声 采取选用低噪声设备、隔声减震等措施 已建 固废 见表2.3-11 81、已建 301、主体工程、主体工程 本次技术提升改造及扩建项目主体工程主要为各生产车间，详见下表 2.3-7。表表 2.3-7 工程主体工程组成情况表工程主体工程组成情况表 车间名称 技改扩建工程主体工程内容 与原环评文件变化情况 备注 现状建设情况 A2 F1 建筑面积 926m，设晶体提拉车间；F2 建筑面积 946m，设光学玻璃车间；F3 建筑面积 926m2，设器件车间 新增 原环评未涉及 已建 A3 F1 建筑面积 222m，设晶体提拉车间、光学器件研发室；F3 建筑面积 477m，设光纤车间，布置 LC 生产线；新增 原环评未涉及 已建 A4 F1 建筑面积约 360m，F2 建筑面82、积约 510m，均为晶体车间；F3 建筑面积 750m，设激光器及激光模组车间；新增 原环评未涉及 已建 A5 F1 建筑面积约 729m，设有柱面原料切割车间、光纤车间（包括 FBG 生产线、coupler 生产线）；F3 建筑面积 200m，设激光器及激光模组车间；新增 原环评未涉及 已建 B3 F1 建筑面积约 980m，为光学玻璃车间，包括 Wafaer 光学玻璃生产车间、明月 chicklet 车间；F2 建筑面积约 1100m，设 NPI 装配车间，包括声光器件装配线、光纤装配及光纤阵列、光机组装镜头；F3 建筑面积约 1100m，设明月 chicklet 车间，包括反射镜、窗片、83、组合件镜；B3 南楼 1、2 层建筑面积约 700m，为光学玻璃旋转片车间。新增 原环评未涉及 已建 B4 F3 建筑面积 550m，设光纤装配车间；F1 建筑面积 1000m，设镀膜车间；新增 原环评未涉及 已建 C2 F1 建筑面积约 1300m，为光学玻璃球面车间、镀膜车间；F2 建筑面积约 1300m，为光学玻璃球面车间；建设内容发生变化 光学器件项目环评 已建 C3 F1 建筑面积约 480m，为毛坯车间；新增 原环评未涉及 已建 C4 F1 建筑面积约 1340m，为光学玻璃明月 chicklet 车间、光学晶体研发室，内设光学玻璃棒镜切割房；F2 建筑面积约 1340m，为光学晶84、体研发室；建设内容发生变化 光学器件项目环评 已建 C5 F1 建筑面积约 200m，为晶体车间、光学玻璃球面车间；F2 建筑面积约 200m，为光学玻璃球面车间；新增 原环评未涉及 已建 C8 F1 建筑面积约 1340m，设有明月 chicklet 车间、NPI 车间、平面车间，包括光学玻璃硅发射镜建设内容发生光学器件项已建 31切割房及光学组合件等生产线；F2 建筑面积约 1340m，设有光学车间、平面车间，包括检测房、磨砂、清洗、装配等；F3 建筑面积约 1340m，设有光学车间、平面车间，包括检测房、磨砂、清洗、装配等；F4 建筑面积约 1340m，设有光学车间、光纤车间；变化 目环85、评 C11 F1 建筑面积约 1300m，设有光学玻璃 NPI 车间、光学玻璃球面车间；F2 建筑面积约 1300m，设有光学玻璃球面车间；新增 原环评未涉及 已建 C12 F1 建筑面积约 220m，设有光学玻璃 NPI 车间、湿法金属化、镀膜车间；新增 原环评未涉及 湿法金属化工序未建，其余已建 D2 F1-5 建筑面积约 7500m，设柱面车间、SCI 车间、SLENS 车间；建设内容发生变化 扩建项目环评 已建 322、辅助工程、辅助工程 技术提升改造及扩建项目辅助工程主要包括仓库、办公区、食堂等，详见表 2.3-8。表表 2.3-8 辅助工程组成情况表辅助工程组成情况表 辅助工程 技86、改扩建工程建设内容 与环评文件 变化情况 备注 现状建设情况 化学品仓库 位于 B 区（西北角），共有 7 间（其中包括两间成品防爆仓库），建筑面积 160m2 新增 原环评未涉及 已建 食堂 分别位于 C 区 7#楼 26 层，D 区2#楼 8 层，供职工就餐使用 原环评D区食堂设在附属楼，位置变化 光学器件项目环评、扩建项目环评 已建 办公区 位于 D 区 1#8 层，建筑面积约2000m2，主要功能为办公、会议及休闲等 原环评办公区设为 D区 6-7F，位置变化 扩建项目环评 已建 3、公用工程、公用工程 技术提升改造及扩建项目公用工程主要包括给排水、供电、供热等，详见表 2.3-9。表87、表 2.3-9 公用工程组成情况表公用工程组成情况表 公用 工程 技改扩建工程建设内容 与环评文件变化情况 备注 现状建设情况供水系统 依托出租方现有供水系统，由市政给水管网供给 建设内容不变 光学器件项目环评、扩建项目环评 已建纯水制备系统 项目共设有 7 个纯水制备间，制得率约 50%，D 区 1#楼地下室供 SIC 车间制备能力 2m3/h D区1#楼地下室供柱面车间清洗线制备能力15m3/hC 区 8 号楼供 1F 平面清洗线制备能力 2m3/h C 区 8 号楼供 1F 明月划片间制备能力 1m3/h B 区 3 号楼供明月车间清洗线制备能力 4m3/h B 区 3 号南楼供镀膜车间88、制备能力 2m3/h A 区 5 号楼供棱镜车间制备能力 6m3/h 新增 原环评未涉及 已建供电系统 依托出租方现有供电系统，由市政供电系统供给 建设内容不变 光学器件项目环评、扩建项目环评 已建排水系统 依托出租方现有排水系统，采取雨污分流制，雨水经收集接至市政雨水管网，各类污水分别经相应预处理后接至市政污水管网排至洋里污水处理厂集中处理 建设内容总体不变 光学器件项目环评、扩建项目环评 已建 1 给水系统 项目主要用水为清洗用水、切割/粗磨/抛光用水、酸性/碱性废气喷淋吸收用水、喷砂用水以及职工生活用水等，均由市政供水管网统一供给。332 排水系统 项目排水采用雨污分流的排水系统。雨水由89、雨水管道直接排入市政雨水管网。各类生产废水分别经各区内相应污水处理设施预处理后、生活污水经化粪池预处理后通过市政污水管网接至洋里污水处理厂集中处理后达标排放。3 纯水制备 项目共设有 7 个纯水制备间，制得率约 50%，具体设置情况详见 2.3-10。表表 2.3-10 项目纯水制备间设置情况项目纯水制备间设置情况 纯水系统所在位置 所供应的车间 制备能力（m3/h）D 区 1#楼地下室 SIC 车间 2 D 区 1#楼地下室 柱面车间清洗线 15 C 区 8 号楼 1F 平面清洗线 2 C 区 8 号楼 1F 明月划片间 1 B 区 3 号楼 明月车间清洗线 4 B 区 3 号南楼 镀膜车间90、 2 A 区 5 号楼 棱镜车间 6 项目纯水制备水源为自来水。纯水制备流程：采用预处理+两级反渗透+EDI 制备纯水，预处理和一级反渗透作为预脱盐装置，脱除水中大部分的溶解盐类、颗粒、硬度、活性硅，二级反渗透和 EDI 作为精脱盐装置，进一步脱除水中微量的溶解盐类、硬度和 SiO2，使整个系统的出水水质达到超纯水出水水质要求。预处理系统：由盘氏过滤器、超滤系统和 1m 过滤系统组成。目的是去除原水中的悬浮物、胶体、色度、浊度、有机物等妨碍后续工艺系统正常运行的杂质。RO 系统（反渗透系统）：主要由高压泵和反渗透膜两部分组成。在高压的情况下，除水分子以外，水中其它物质（矿物质、有机物、微生物等91、）几乎都被拒于膜外，并被高压水流冲出，渗透到另一方面的水即是安全、卫生的纯净水。EDI 系统（连续式去离子系统）：是一种将离子交换技术、离子交换膜技术和离子电迁移技术相结合的纯水制造技术。它巧妙地将电渗析和离子交换技术相结合，利用两端电极高压使水中带电离子移动，并配合离子交换树脂及选择性树脂膜以加速离子移动去除速率，从而达到纯化水的目的。在 EDI 除盐过程中，离子在电场作用下通过离子交换膜被清除。同时，水分子在电场作用下产生氢离子和氢氧根离子，这些离 34子对离子交换树脂进行连续再生，以使离子交换树脂保持最佳状态。经过二级反渗透后，99%以上的离子已经被除去，为进一步提高水质制造出超纯水，除92、去溶解在水中的微量元素和 CO2 等溶解性气体还必须经过 EDI 处理。EDI 利用混合离子交换树脂吸附给水中的阴阳离子，同时这些被吸附的离子又在直流电压的作用下，分别透过阴阳离子交换膜而被去除的过程。上述工艺制备的纯水通过管道输送至生产线的使用点。4 供电系统 项目用电由市政电网供给，利用出租方已建供电设施，能满足项目用电需求。5 生产车间洁净等级 生产车间采用中央空调过滤系统，洁净度达百级，部分可达一千级。空调新风区中新风空调箱把空气经过初效过滤、中效过滤、高效过滤等三段过滤系统，过滤掉大部分的颗粒之后，然后通过风机送入生产车间，最后经过生产车间内部的终端超高效过滤器除去最后的细微颗粒，达93、到洁净效果。生产车间内部的空气经过回风墙，然后通过超高效过滤往复过滤循环，达到洁净效果。4、环保设施、环保设施 技术提升改造及扩建项目环保工程主要包括废水治理工程和废气治理工程等，详见表 2.3-11。35表表 2.3-11 本次技改扩建工程环保工程组成情况表本次技改扩建工程环保工程组成情况表 本次技术提升改造及扩建项目环保工程 与原环评对比情况现状建设情况 名称 建设位置治理内容 污染源位置 排放口编号 处理工艺 处理规模 排气筒高度（m）废水 A 区废水处理设施(TW001)A4 楼南侧处理清洗、抛光、含油等废水A4F1 DW001破乳+气浮+生化30t/d/新增 已建 B 区废水处理设施94、(TW002)B 区东南角处理抛光废水等 B 区东南角 DW002化学沉淀法 60t/d/新增 已建 C 区废水处理设施(TW003)C8 楼北侧地面 处理抛光废水等 C8 楼 F1DW003化学沉淀法 60t/d/一致 已建 D 区废水处理设施(TW004)D2 楼南侧负一层 处理酸碱、抛光、清洗等废水B1F1 DW004(车间排口)石灰+酸碱中和+絮凝沉淀+生化 酸性废水：5t/d，碱性废水 100t/d，抛光废水 60t/d，生化段包含了酸碱、抛光、清洗等废水，总 250t/d/一致 已建 废气 A2 楼硫酸雾处理设施（TA001）A2 楼楼顶东侧 硫酸雾 A2 楼楼顶东侧 DA001集95、中收集后经水喷淋填料吸收塔处理1000m3/h 15 新增 处理设施拟建，收集系统已建 A2 楼有机废气处理设施（TA002）A2 楼楼顶西北角 有机废气 A2 楼楼顶西北角DA002集中收集后经活性炭吸附处理 10000m3/h 15 新增 A3 楼有机废气处理设施（TA003）A3 楼楼顶南侧 有机废气 A3 楼楼顶南侧 DA003集中收集后经活性炭吸附处理 5000m3/h 15 新增 A4、A5 楼有机废气处理设施（TA004）A4 楼楼顶南侧 有机废气 A4 楼楼顶南侧 DA004集中收集后经活性炭吸附处理 10000m3/h 15 新增 A5 楼氟化物处理设施（TA005）A5 楼96、楼顶氟化物 A5 楼楼顶 DA005集中收集后排放1000m3/h 15 新增 B3、B4 楼有机废气处理设施（TA006）B4 楼楼顶西侧 有机废气 B4 楼楼顶西侧 DA006集中收集后经活性炭吸附处理 25000m3/h 15 新增 C2、C3、C5 楼有机废气处理设施（TA007）C2 楼楼顶西侧 有机废气 C2 楼楼顶西侧 DA007集中收集后经沸石分子筛吸附+脱附催化燃烧后 25000m3/h 15 新增 36C2 楼硫酸雾处理设施（TA008）C2 楼楼顶西北角 硫酸雾 C2 楼楼顶西北角DA008集中收集后经经碱液喷淋处理 1000m3/h 15 新增 C4 楼有机废气处理设施97、（TA009）C4 楼楼顶西侧 有机废气 C4 楼楼顶西侧 DA009集中收集后经活性炭吸附处理 5000m3/h 15 新增 C8 楼有机废气处理设施（TA0010）C8 楼顶楼南侧 有机废气 C8 楼顶楼南侧 DA0010集中收集后经水喷淋+UV+活性炭 60000m3/h 30 新增 已建 C11 楼有机废气处理设施（TA0011）C11 楼楼顶东侧 有机废气 C11 楼楼顶东侧 DA0011集中收集后经活性炭吸附处理 5000m3/h 15 新增 处理设施拟建，收集系统已建 C11 楼氯气处理设施（TA0012）C11 楼楼顶西侧 氯气 C11 楼楼顶西侧 DA0012集中收集后经干式98、滤料吸附处理 1000m3/h 25 新增 C12 楼氯气处理设施（TA0013）C12 楼楼顶西侧 氯气 C12 楼楼顶西侧 DA0013集中收集后经干式滤料吸附处理 1000m3/h 25 新增 C12 楼含氰废气处理设施（TA0014）C12 楼楼顶中部 含氰废气 C12 楼楼顶中部 DA0014集中收集后经催化燃烧处理 3000m3/h 25 新增 未建 C12 楼有机废气处理设施（TA0015）C12 楼楼顶西侧 有机废气 C12 楼楼顶西侧 DA0015集中收集后经活性炭吸附处理 5000m3/h 15 新增 处理设施拟建，收集系统已建 D2 楼有机废气处理设施（TA0016）D299、 楼楼顶北侧 有机废气 D2 楼楼顶北侧 DA0016集中收集后经活性炭吸附处理 30000m3/h 40 一致 已建 D2 楼酸碱废气处理设施（TA0017）D2 楼楼顶南侧 硫酸雾、氯化氢、氟化氢、氨气 D2 楼楼顶南侧 DA0017硫酸雾、氯化氢、氟化氢经一套水（加入少量氢氧化钠）喷淋填料吸收塔吸收，氨气经另一套水喷淋填料吸收塔吸收 17000m3/h 40 一致 已建 固废 危废间 B 区西南侧临时贮存危险废物 各车间危废/40m2/位置变化已建 一般固废间 A 区北侧临时储存一般固废 A 区车间固废/20m2/新增 已建 37B 区南侧B 区车间固废/15m2/新增 已建 C 区南侧100、C 区车间固废/50m2/位置变化已建 D 区西侧D 区车间固废/25m2/一致 已建 385 主要原辅材料消耗情况主要原辅材料消耗情况 本项目主要原辅材料消耗情况详见表 2.3-12表 2.3-13，主要原辅材料性质见表2.3-14。表表 2.3-12 项目主要原辅材料汇总及贮存情况一览表项目主要原辅材料汇总及贮存情况一览表 原辅料 名称 技改扩建工程年用量(t/a)贮存区 现状年用量（t/a）现状储存位置 备注 包装方式及 包装规格 贮存位置最大贮存量 硫酸 51.746 桶装，200L/桶 B 区 化学品 仓库 6t 51.746 B 区 化学品 仓库 氨水 52.8 桶装，200L/桶101、 4t 52.8 乙醇 80.664 桶装，200L/桶 6t 79.329 丙酮 33.807 桶装，200L/桶 2.25t 22.922 异丙醇 96.664 桶装，200L/桶 3t 20.664 乙醚 30.021 桶装，200L/桶 1t 25.571 石油醚 3.43 桶装，200L/桶 0.5t 3.43 氢氟酸 14.4 桶装，200L/桶 2t 14.4 乙酸 0.012 桶装，5L/桶0.01t 0.012 环氧树脂胶 1.678 桶装，25L/桶0.5t 1.678 有机清洗剂 142.602 桶装，200L/桶 6t 50.526 碱性清洗剂 13.635 桶装，20102、0L/桶 4.5t 13.635 氟化液 0.002 瓶装，500ml/瓶 0.00050.002 GT1000 调整盐 0.048 瓶装，1kg/瓶0.012 0 GT1000 开缸剂 480L 桶装，10L/桶200L 0 GT1000 添加剂 48L 瓶装，1L/瓶15L 0 氰化亚金钾 2400g 瓶装，200mg/瓶 500g 0 光刻胶 0.1t 桶装，5L/桶放置于生产车间 0.02t 0.08t 放置于生产车间 显影液 4.98t 桶装，200L/放置于生1700L3.98 放置四甲基氢 39桶 产车间 于生产车间 氧化铵2.38%，水97.62%六氟化硫 0.032 瓶装，1103、L/瓶放置于生产车间 0.008 0.016 放置于生产车间 99.9%SF6八氟环丁烷 0.048 瓶装，1L/瓶放置于生产车间 0.012 0.024 放置于生产车间 99.9%C4F8四氟化碳 0.016 瓶装，1L/瓶放置于生产车间 0.004 0.008 放置于生产车间 99.9%四氟化碳 氩气 0.02 瓶装，1L/瓶放置于生产车间 0.005 0.01 放置于生产车间 99.9%氩气 氧气 0.04 瓶装，1L/瓶放置于生产车间 0.01 0.02 放置于生产车间 99.9%氧气 氯气 0.02 瓶装，1L/瓶放置于生产车间 0.01 0.01 放置于生产车间 氯气 三氟甲烷 0104、.048 瓶装，1L/瓶放置于生产车间 0.012 0.024 放置于生产车间 99.9%三氟甲烷 表表 2.3-13 项目主要原辅材料消耗情况一览表项目主要原辅材料消耗情况一览表 产品 物料名称 化学成分 技改扩建工程年消耗量（t/a）现状使用量（t/a）晶体制品 钒酸钇 YVO4 2.223 吨 2.223 吨 乙醇(无水)C2H6O 1.179 吨 1.179 吨 硫酸（50%）H2SO4 0.01 吨 0.01 吨 氧化锆 ZrO2 1 吨 1 吨 切削液 石油碳氢类润滑剂 3 吨 3 吨 丙酮 CH3COCH3 0.111 吨 0.111 吨 乙醚 C4H10O 2.13 吨 2.1105、3 吨 石油醚/2.017 吨 2.017 吨 有机清洗剂 表面活性剂，助溶剂，有机溶剂 0.002 吨 0.002 吨 抛光液 二氧化硅 0.0035 吨 0.0035 吨 40产品 物料名称 化学成分 技改扩建工程年消耗量（t/a）现状使用量（t/a）擦拭纸/253 包 253 包 光纤产品 无色玻璃/2 吨 2 吨 铝材机械件/4 吨 4 吨 光纤线/3000 万米 3000 万米毛细管/450 万粒 450 万粒 石英基板/24 万片 24 万片 乙醚 C4H10O 0.74 吨 0.74 吨 丙酮 CH3COCH3 5.51 吨 5.51 吨 异丙醇 C3H8O 0.36 吨 0.3106、6 吨 乙醇 C2H6O 2.238 吨 2.238 吨 有机清洗剂/3.76 吨 3.76 吨 氢氟酸 HF 0.001 吨 0.001 吨 偶联剂 缩水甘油氧基丙基三甲氧基硅烷 0.001 吨 0.001 吨 偶联剂 氨丙基、乙氧基硅烷 0.04 吨 0.04 吨 乙酸 CH3COOH 0.012 吨 0.012 吨 环氧树脂胶 树脂 0.12 吨 0.12 吨 石英砂/0.14 吨 0.14 吨 擦拭纸/1046 包 1046 包 激光器件 各类金属件/12 万片 12 万片 各类晶体/3 万片 3 万片 铝材机械件/40 万片 40 万片 各类光学片/3 万片 3 万片 光纤类/5.5107、 万片 5.5 万片 乙醇 C2H6O 0.01 吨 0.01 吨 乙醚 C4H10O 0.01 吨 0.01 吨 环氧树脂胶 树脂 0.005 吨 0.005 吨 锡丝/0.009 吨 0.009 吨 擦拭纸/100 包 100 包 光学玻璃 光学玻璃毛坯件光学玻璃毛坯件/50 吨吨 25 吨吨 丙酮丙酮 CH3COCH3 27.936 吨吨 17.501 吨吨 乙醇乙醇 C2H6O 76.637 吨吨 75.302 吨吨 乙醚乙醚 C4H10O 26.531 吨吨 22.081 吨吨 碳化硅 碳化硅 2 吨 2 吨 抛光粉 氧化铈/氟氧化镧 5.987 吨 5.987 吨 抛光液 稀土氧化108、物 1384.5 吨 1384.5 吨 环氧树脂胶 树脂 1.553 吨 1.553 吨 41产品 物料名称 化学成分 技改扩建工程年消耗量（t/a）现状使用量（t/a）石油醚/1.413 吨 1.413 吨 异丙醇异丙醇/96.304 吨吨 20.304 吨吨 碱性清洗剂/13.635 吨 13.635 吨 有机清洗剂有机清洗剂/138.84 吨吨 62.84 吨吨 铣磨液 脂肪醇醚、润滑添加剂、抗磨添加剂、防锈剂、消泡剂、杀菌剂 1.06 吨 1.06 吨 研磨液 二氧化硅 1.1 吨 1.1 吨 切削液 石油碳氢化合物97%2.2 吨 2.2 吨 氟化液 乙基九氟丁基醚、乙基九氟异丁基醚109、 0.002 吨 0.002 吨 GT1000 调整盐调整盐/48 千克千克 0 GT1000 开缸剂开缸剂/240 升升 0 GT1000 添加剂添加剂/24 升升 0 氰化亚金钾氰化亚金钾/2.4 克克 0 光刻胶光刻胶/50 升升 0 显影液显影液/980 升升 0 六氟化硫六氟化硫 99.9%SF6 0.016 吨吨 0 八氟环丁烷八氟环丁烷 99.9%C4F8 0.024 吨吨 0 四氟化碳四氟化碳 99.9%四氟化碳四氟化碳 0.008 吨吨 0 氩气氩气 99.9%氩气氩气 0.01 吨吨 0 氧气氧气 99.9%氧气氧气 0.02 吨吨 0 氯气氯气 氯气氯气 0.01 吨吨 110、0 三氟甲烷三氟甲烷 99.9%三氟甲烷三氟甲烷 0.024 吨吨 0 擦拭纸/7500 包 7500 包 清洗剂,1-甲基-2-吡咯烷酮,分析纯,500ML/180L 180L 无水乙醇,5L/桶/1335L 1335L 清洗剂,中性全能 JB-112/876L 876L 清洗剂,AMS-8019,20L/桶/4980L 4980L 清洗剂,AMS2021/4200L 4200L 新型有机清洗剂,AMS-8020,20L/桶,深圳市埃美森科技/1620L 1620L 清洗剂,AMS8015/1500L 1500L PGX-01 清洗剂,20kg/桶,云南光电辅料/540kg 540kg 铣磨111、液,SYNICOOL:303/GXJ 25KG/桶/850kg 850kg 42产品 物料名称 化学成分 技改扩建工程年消耗量（t/a）现状使用量（t/a）E-101 清洗剂,25kg/桶/875kg 875kg BHC-2 光学硝材保护膜清洗剂/1225kg 1225kg E-605 环保清洗剂,25kg/桶,誉通新材料/75kg 75kg E-608 环保清洗剂,25kg/桶,誉通新材料/150kg 150kg 腊/45.9kg 45.9kg 绿砂/2260kg 2260kg 玻璃原料/7564kg 7564kg 冷却液K40(60Kg/can),92-000-002/120kg 120k112、g 冷却油,Coolant oil K43 30-It-can,92-000-027/330L 330L 精抛液#80,20kg/bottle/40kg 40kg 新型有机清洗剂,AMS-8029,20L/桶,深圳市埃美森科技/80L 80L 油,蓖麻,0/40L 40L 防锈研磨液,5kg/桶/5kg 5kg 硫酸 H2SO4 52800L 52800L 氢氟酸 HF 14400L 14400L 盐酸 HCl 14400L 14400L 双氧水 H2O2 360000L 360000L 异丙醇 C3H8O 91200L 91200L 氨水 NH3 52800L 52800L 清洗剂 711/113、91200L 91200L 抛光液/1200000L 1200000L清洗剂 SP2500/600kg 600kg 氢氧化钾 KOH 60kg 60kg 光栅产品 光学玻璃/1580 片 1580 片 丙酮 CH3COCH3 0.25 吨 0.25 吨 乙醚 C4H10O 0.61 吨 0.61 吨 乙醇 C2H6O 0.6 吨 0.6 吨 光刻胶 0.091 吨 0.071 吨 显影液 四甲基氢氧化铵 2.38%，水 97.62%4 吨 4 吨 氦气 99.9%氦气 0.168 吨 0.168 吨 六氟化硫 99.9%SF6 0.016 吨 0.016 吨 43产品 物料名称 化学成分 技改114、扩建工程年消耗量（t/a）现状使用量（t/a）八氟环丁烷 99.9%C4F8 0.024 吨 0.024 吨 四氟化碳 99.9%四氟化碳 0.008 吨 0.008 吨 氩气 99.9%氩气 0.01 吨 0.01 吨 氧气 99.9%氧气 0.02 吨 0.02 吨 氯气 氯气 0.01 吨 0.01 吨 三氟甲烷 99.9%三氟甲烷 0.024 吨 0.024 吨 清洗剂/0.1 吨 0.1 吨 擦拭纸/650 包 650 包 44表表 2.3-14 主要原辅材料理化特性、毒理性质一览表主要原辅材料理化特性、毒理性质一览表 名称 主要分子式理化性质 燃烧爆炸性 毒理性质 乙醇 C2H6O115、 无色液体，有酒香，熔点(C)：-114.1，沸点(C)：78.3，相对蒸汽密度(空气=1)：1.59，相对密度(水=1)：0.79，与水混溶，可混溶于醚、氯仿、甘油等多数有机溶剂，CAS：64-17-5，危规号：32061 易燃，其蒸气与空气可形成爆炸性混合物。遇明火、高热能引起燃烧爆炸。与氧化剂接触发生化学反应或引起燃烧。在火场中，受热的容器有爆炸危险。其蒸气比空气重，能在较低处扩散到相当远的地方，遇明火会引着回燃 侵入途径：吸入、食入、经皮吸收。健康危害：本品为中枢神经系统抑制剂。首先引起兴奋，随后抑制。急性毒性：LD50：7060mg/kg(兔经口)；7340mg/kg(兔经皮)；LC116、50：37620mg/m3，10 小时(大鼠吸入)；人吸入 4.3mg/L50分钟，头面部发热，四肢发凉，头痛；人吸入 2.6mg/L39 分钟，头痛，无后作用。刺激性：家兔经眼：500mg，重度刺激。家兔经皮开放性刺激试验：15mg/24小时，轻度刺激。丙酮 CH3COCH3无色液体，具有令人愉快的气味(辛辣甜味)。易挥发，能与水、乙醇、N,N-二甲基甲酰胺、氯仿、乙醚及大多数油类混溶。相对密度(d25)0.7845，熔点-94.7C，沸点 56.05C，相对蒸汽密度(空气=1)：2.00，CAS：67-64-1，危规号：31025 闪点：-45C 爆炸极限(V/V):2.5%12.8%LD117、50：5800mg/kg(大鼠经口)，20000mg/kg(兔经皮)LC50：无资料 乙醚 C4H10O 无色、易燃、极易挥发的液体，其气味带有刺激，能溶于乙醇、苯、氯仿、石油醚、其它极性溶液及许多油类。熔点：-116.2C，沸点：34.6C，相对密度(水=1)：0.71，相对蒸汽密度(空气=1)：2.56，CAS：60-29-7，危规号：31026 闪点：-45C 爆炸极限(V/V):1.85%36.5%LD50：1215mg/kg(大鼠经口)LC50：221190mg/m3 2 小时(大鼠吸入)双氧水 H2O2 无色透明液体，有微弱特殊气味；熔点-2(无水)；沸点 158(无水)；相对密度118、(水=1)1.46(无水)；饱和蒸气压（kPa）：0.13(15.3)；溶于水、醇、醚，不溶于苯、石油醚 爆炸性强氧化剂。过氧化氢本身不燃，但能与可燃物反应放出大量热量和氧气而引起着火爆炸。过氧化氢在 pH值为 3.54.5 时最稳定，在碱性溶液中极易分解，在遇强光，特别是短波射线照射时吸入、食入、经皮吸收。吸入本品蒸气或雾对呼吸道有强烈刺激性。眼直接接触液体可致不可逆损伤甚至失明。口服中毒出现腹痛、胸口痛、呼吸困难、呕吐、一时性运动和感觉障碍、体温升高等。个别病例出现视力障碍、癫痫样痉挛、轻瘫。长期接触本品可致接触性 45名称 主要分子式理化性质 燃烧爆炸性 毒理性质 也能发生分解。当加热到119、100以上时，开始急剧分解皮炎。异丙醇 C3H8O 无色透明液体，有似乙醇和丙酮混合物的气味，熔点-88.5，沸点 80.3，相对密度（水=1）0.79，相对蒸气密度（空气1）2.07，饱和蒸气压(kPa)：4.40(20)，闪点 12，引燃温度 399，爆炸极限2.012.7%，溶于水、醇、醚、苯、氯仿等多数有机溶剂 易燃，其蒸气与空气可形成爆炸性混合物，遇明火、高热能引起燃烧爆炸。与氧化剂接触猛烈反应。在火场中，受热的容器有爆炸危险。其蒸气比空气重，能在较低处扩散到相当远的地方，遇火源会着火回燃 接触高浓度蒸气出现头痛、倦睡、共济失调以及眼、鼻、喉刺激症状。口服可致恶心、呕吐、腹痛、腹泻、120、倦睡、昏迷甚至死亡。长期皮肤接触可致皮肤干燥、皲裂。LD50：5045mg/kg(大鼠经口)；12800mg/kg(兔经皮)硫酸 H2SO4 纯品为无色透明油状液体，无臭，熔点：10.5，沸点：330.0，相对密度(水=1)：1.83，相对蒸气密度(空气=1)：3.4，饱和蒸气压(kPa)：0.13(145.8)。与水混溶 本品遇水大量放热，可发生沸溅，助燃，具强腐蚀性、强刺激性，可致人体灼伤 对皮肤、粘膜等组织有强烈的刺激和腐蚀作用。蒸气或雾可引起结膜炎、结膜水肿、角膜混浊，以致失明；引起呼吸道刺激，重者发生呼吸困难和肺水肿；高浓度引起喉痉挛或声门水肿而窒息死亡。口服后引起消化道烧伤以致溃疡121、形成。溅入眼内可造成灼伤，甚至角膜穿孔、全眼炎以至失明。慢性影响：牙齿酸蚀症、慢性支气管炎、肺气肿和肺硬化。LD50：2140mg/kg(大鼠经口)，LC50：510mg/m3，2 小时(大鼠吸入)；320mg/m3，2 小时(小鼠吸入)盐酸 HCl 氯化氢的水溶液，HCl 为无色气体或无色发烟液体，分子量 36.5，有强烈的腐蚀性，有刺激性臭味；HCl 溶于水（0时在水中溶解度为 823g/l）、乙醇、乙醚和苯。熔点-114.8，沸点-84.9；蒸汽压42.46atm（20）能与一些活性金属粉末发生反应，放出氢气。遇氰化物能产生剧毒的氰化氢气体。与碱发生中合反应，并放出大量的热。具有强腐蚀性122、。吸入、食入、经皮吸收。急性毒性：LD50：900mg/kg(兔经口)；LC50：3124ppm，1 小时(大鼠吸入)。接触其蒸气或烟雾，可引起急性中毒，出现眼结膜炎，鼻及口腔粘膜有烧灼感，鼻衄、齿龈出血，气管炎等。误服可引起消化道灼伤、溃疡形成，有可能引起胃穿孔、腹膜炎等。眼和皮肤接触可致灼伤。慢性影响：长期接触，引起慢性鼻炎、慢性支气管炎、牙齿酸蚀症及皮肤损害 46名称 主要分子式理化性质 燃烧爆炸性 毒理性质 氢氟酸 HF xx，无色、发烟的腐蚀性液体，有剧烈刺激性气味。熔点-83.3，沸点 19.54，闪点 112.2，密度 1.15g/cm3，蒸气压25mmHg(20)，易溶于水、乙123、醇，微溶于乙醚 本品不燃，具强腐蚀性、强刺激性，可致人体灼伤 对皮肤有强烈腐蚀作用。灼伤初期皮肤潮红、干燥。创面苍白，坏死，继而呈紫黑色或灰黑色。深部灼伤或处理不当时，可形成难以愈合的深溃疡，损及骨膜和骨质。本品灼伤疼痛剧烈。眼接触高浓度本品可引起角膜穿孔。接触其蒸气，可发生支气管炎、肺炎等。小鼠腹腔内 LD50：40mg/kg，兔经口 LD10：500mg/kg；大鼠LC50：1044mg/m3/1 小时 氨水 NH3H2O 无色液体，有强烈刺激性气味。相对密度(水=1)：0.602824(25)；熔点：-77.7；沸点：-33.42；易溶于水 与空气混合能形成爆炸性混合物。遇明火、高热能引124、起燃烧爆炸。与氟、氯等接触会发生剧烈的化学反应。若遇高热，容器内压增大，有开裂和爆炸的危险 侵入途径：吸入。低浓度氨对粘膜有刺激作用，高浓度可造成组织溶解坏死。毒性：属低毒类。急性毒性：LD50 350mg/kg(大鼠经口)；LC50 1390mg/m3，4 小时，(大鼠吸入)。刺激性：家兔经眼：100ppm，重度刺激。氢氧化钾 KOH 是一种常见的无机碱，分子量为 56.1，常温下为白色粉末或片状固体。性质与氢氧化钠相似，具强碱性及腐蚀性，0.1 mol/L溶液的 pH 为 13.5。极易吸收空气中水分而潮解，吸收二氧化碳而成碳酸钾 该品不会燃烧，遇水和水蒸气大量放热，形成腐蚀性溶液。与酸发125、生中和反应并放热。具有强腐蚀性 对组织有烧灼作用，可溶解蛋白质，形成碱性变性蛋白质。溶液或粉尘溅到皮肤上，尤其溅到黏膜，可产生软痂。溶液浓度越高，温度越高，作用越强。溅入眼内，不仅可损伤角膜，而且能使眼部深组织损伤。急性毒性：LD50 273 mg/kg（大鼠经口）氰化金钾 KAu(CN)4 白色结晶；溶于水，可溶于水及有机溶剂（如醇类、乙醚、丙酮等）。有剧毒 不燃。受高热或与酸接触会产生剧毒的氰化物气体。与硝酸盐、亚硝酸盐、氯酸盐反应剧烈，有发生爆炸的危险。遇酸或露置空气中能吸收水分和二氧化碳，分解出剧毒的氰化氢气体 吸入、食入、经皮吸收。成人致死量 0.05g。吸入、摄入或经皮肤吸收均有毒126、。对眼、皮肤有刺激作用。口服剧毒，非骤死者，先出现感觉无力、头痛、眩晕、恶心、呕吐、四肢沉重以及呼吸困难等症状，随后面色苍白、失去知觉、甚至呼吸停止而死亡。47名称 主要分子式理化性质 燃烧爆炸性 毒理性质 乙酸 CH3COOH 无色透明液体，有刺激性酸臭，溶于水、醚、甘油，不溶于二硫化碳 易燃，其蒸气与空气可形成爆炸性混合物，遇明火、高热能引起燃烧爆炸。与铬酸、过氧化钠、硝酸或其它氧化剂接触，有爆炸危险。具有腐蚀性 吸入本品蒸气对鼻、喉和呼吸道有刺激性。对眼有强烈刺激作用。皮肤接触，轻者出现红斑，重者引起化学灼伤。误服浓乙酸，口腔和消化道可产生糜烂，重者可因休克而致死。慢性影响:眼睑水肿、结127、膜充血、慢性咽炎和支气管炎。长期反复接触，可致皮肤干燥、脱脂和皮炎。LD50：3530mg/kg(大鼠经口)，1060mg/kg(免经皮)；LC50：13791mg/m3 1 小时(小鼠吸入)显影液 TMAH 四甲基氢氧化铵有一定氨气味，具有强碱性；熔点：62-71C，沸点：120C 小鼠皮下 LD50：19mg/kg 氦气 He 无色无臭惰性气体，不溶于水、乙醇，熔点：-272.1C，沸点：268.9C，相对密度(水=1)：0.15，相对密度(空气=1)：0.14，CAS：7440-59-7，危规号：22007 本品不燃/六氟 化硫 SF6 无色无臭气体，难溶于水，熔点：-51C，相对密度(128、水=1)：6.6，相对密度(空气=1)：1.88，CAS：2551-62-4，危规号：22021本品不燃/八氟环丁烷 C4F8 无色无臭气体，熔点：-41.4C，沸点：6.04C，相对密度(水=1)：1.51，相对密度(空气=1)：7，CAS：115-25-6，危规号：22036，用作稳定无毒的食品气雾喷射剂、介质气体 本品不燃/四氟 化碳 CF4 无色无臭气体，不溶于水，熔点：-183.6C，沸点：128.0C，相对密度(水=1)：1.61，CAS：75-73-0，危规号：22033本品不燃/氩气 Ar 无色无臭惰性气体，微溶于水，熔点：-189.2C，沸点：185.7C，相对密度(水=1)129、：1.40，相对密度(空气=1)：1.38，CAS：7440-37-1，危规号：22011 本品不燃/氧气 O2 无色无味气体，溶于水、乙醇，熔点：本品不燃/48名称 主要分子式理化性质 燃烧爆炸性 毒理性质-218.8C，沸点：-183.1C，相对密度(水=1)：1.14，相对密度(空气=1)：1.43，CAS：7782-44-7，危规号：22001 氯气 Cl2 黄绿色有刺激性气味气体，熔点：-101，沸 点：-34.5，蒸 气 压：506.62KPa（10.3），相对密度(水=1)：1.47，相对密度(空气=1)：2.48。易溶于水 本品不会燃烧，但可助燃。在日光下与易燃气体混合时会发生130、燃烧爆炸。若遇高热，容器内压增大，有开裂和爆炸的危险 属高毒类；LC50：850mg/m3，1 小时(大鼠吸入)三氟 甲烷 CHF3 无色透明重质液体，极易挥发，有特殊气味，不溶于水，溶于醇、醚、苯，熔点：-63.5C，沸点：61.3C，相对密度(水=1)：1.50，相对密度(空气=1)：4.12，CAS：67-66-3，危规号：61553 本品不燃/497 主要生产设备主要生产设备 技改扩建后项目主要生产设备详见表 2.3-15。表表 2.3-15 项目主要生产设备项目主要生产设备 评价 单元 子单元 设备名称 型号规格 数量 单位 现状A 区提拉 车间 单晶炉 400 90 台 已有箱式电131、阻炉 SXX12-161600W 2 台 已有柱面 车间 万能外圆磨床 MW1420B 2 台 已有套料机 M3-ZX 1 台 已有平面磨床 M7130S（300*1000）1 台 已有单轴机 JP350D 1 台 已有玻璃切割机 Q8040 1 台 已有内圆切割机 J5060C1 12 台 已有内圆切片机 QP-301D 6 台 已有外圆多刀切割机 J5025-1 2 台 已有晶体 车间 菱克切割机 S-LM-116G 4 台 已有三轴研磨机 J28150/ZF 9 台 已有二轴机 H015 8 台 已有双轴研磨机 H015 双轴研磨机 2 台 已有电热鼓风干燥箱 DGF25003C 1 台132、 已有玻璃切割机 QP-301D 3 台 已有点胶机 EFP 1400 1 台 已有多线切割机 YJXQ120A 2 台 已有点胶机 EFD ULTRA1400 1 台 已有红外干燥箱 1 台 已有精密研磨抛光机 UNIPOL-1502 2 台 已有单轴机 Y250-1 3 台 已有三轴机 JM012.3B 4 台 已有单轴机 Y250-1 1 台 已有单轴抛光机 JP035-1 2 台 已有八轴精磨抛光机 JPH30.8 1 台 已有四轴精磨抛光机 JM012.4 6 台 已有烘烤平台 JR-400TS/CXL 1 台 已有环抛机 PG-380L 1 台 已有电子干燥箱 万德福 AD-880133、D 1 台 已有玻璃切割机 QP-301T 1 台 已有X 射线定向仪 YX-2/4 1 台 已有精密光学倒角机 CM02B-T610-1200#4 台 已有 50含：金刚砂磨轴 内圆切片机 QP-301T 1 台 已有6S 抛光机 PO 385-1(上盘自动提升)2 台 已有精密双面抛光机 PO385-1 3 台 已有精密抛光机 JM012.4 2 台 已有超声波清洗机 单槽半自动NSD-1009FSD-80KHZ 6 台 已有粉尘离心机 FLQ100-3 1 台 已有多线切割机 DX2226AF 1 台 已有两轴研磨抛光机 JP40.2B 4 台 已有手修磨抛机 JP25A 15 台 已有134、台式 UV 固化灯箱 UV15-5 1 台 已有测厚仪 2 台 已有光胶烘烤炉 LMF3550/240 2 台 已有电热鼓风干燥箱 DGF25003C 1 台 已有X 射线定向仪 YX-2 2 台 已有NIKON 测厚仪 1 台 已有电子干燥箱 WD-200C 1 台 已有ZYGO 激光干涉仪 11423201 1 台 已有激光器 VA-473-50mW 1 台 已有氮气柜 HC-CTD160D 2 台 已有红外线观测仪 1 台 已有电子式不锈钢氮气柜 300*250*300/sus304*1.2T 1 台 已有退火炉 ST-1600C-6612 1 台 已有红外线观测仪 1 台 已有UV 曝135、光测试装置 品牌：Dagesh 1 台 已有UV 灯泡 L9841-02 2 台 已有紫外曝光仪 0120537-001 1 台 已有烤箱 H2200-HC 1 台 已有紫外清洗机 model 18 1 台 已有器件 车间 FBG 刻写工作站 FBG workstation 16 台 已有光纤耦合机 Fiber Optic Coupler Mach 26 台 已有保偏光纤熔接机 Fujikura Special Fusion Splicer 7 台 已有高功率测试机台 6 台 已有千瓦测试机台 1 台 已有准分子激光器 BraggStar M 16 台 已有ASE 光源台式 ASE-LSB-1136、060-08-P-FA 23 台 已有FBG 退火炉 自制 18 台 已有 51熔接机 FSM-60S/FSM-61S 26 台 已有合束器组装机 自制 6 台 已有刻蚀机 FBG workstation 1 台 已有切割刀 Sumitomo FC-6S 45 台 已有光谱分析仪 AQ6370D 27 台 已有紫外光源 Dymax Blue wave 75 with intensity Adjustment 4 台 已有便携式氧分析仪 ADVANCED GPR-1200D 1 台 已有红外测温仪 IRCON Pyrometer SR-20C10-O-0-2 with Model TV-View137、-1 台 已有棱镜 超声波清洗机 MUS-1006T-1 40KHZ 1 台 已有超声波清洗机 11252101/单槽 1 台 已有单轴抛光机 JPS040-2 1 台 已有三轴精磨高速抛光机 JP035.3 1 台 已有平面干涉仪 PG15-J4 激光 1 台 已有二轴机 H015 5 台 已有单轴研磨机 N/A 2 台 已有双轴研磨机 N/A 1 台 已有冰箱 N/A 1 台 已有烤盘 400*300 220V 1.5A 1 台 已有激光打标机 CO2-G10 1 台 已有GDL 车间 ESPEC 温度循环箱 无规格 1 台 已有高低温交变实验箱 WGDF-402 1 台 已有超声波清洗机138、 KQ-5200E 1 台 已有超声波清洗机 MUS-1006 1 台 已有桌面型高低温循环箱 T-TOP-30-E 1 台 已有氧气检测报警仪 RBT-6000-Z 1 台 已有可程式恒温恒湿试验机 T-TH-120-B 1 台 已有激光焊接机 JHM-1GX-200C 2 台 已有激光焊接机 JHM-4GX-100F 2 台 已有激光焊接机 武汉逸飞 4 路能量分光+1 路独立出光焊接机系统 1 台 已有B 区 Wafer 车间 CNC 雕刻机 Multi-Axis VMX24 1 台 已有3 轴 CNC CL-3MGC 2 台 已有CNC 雕刻机 TL-GPR1A-PA 4 台 已有精密139、双面平面抛光机 22BF-4M5P 14 台 已有精密双面平面抛光机 16BF-4M5P 4 台 已有精密双面平面研磨机 13BF-3M9L 1 台 已有精密双面平面抛光机 13BF-3M9P 2 台 已有 52玻璃周边抛光机 JTD-2Z 1 台 已有玻璃槽孔抛光机 JTD-1 1 台 已有激光测厚仪 KEYENCE G5001V 1 台 已有平面干涉仪 PG15-J4 1 台 已有烤盘 1 台 已有高精密滤油机 JNG10-4RS 1 台 已有SRD 甩干机 1 台 已有双槽超声波清洗机 1 台 已有NPI 装配 车间 超声波金丝球焊机 WT2330 2 台 已有激光电源 riot06DL140、D 2 台 已有激光测试台 资产编号 90000083 6 台 已有透反射式偏心仪 LensCT-VTR 1 台 已有时式 TV 型透镜偏心检测 DM-129S/TV 2 台 已有电磁感应焊接机 11EasyHEa 1 台 已有一体式端面检测仪 EC200BC 1 台 已有端面检测仪 EC400KD 9 台 已有光纤装配夹具 PA513557 4 台 已有光纤熔焊机 资产编号 20001356 1 台 已有光纤热剥线钳 HJS-02 1 台 已有光班机 605nmLBP2 1 台 已有红光激光器 02-3A-635-1 2 台 已有激光自动准直检测仪 H400C016S/H55 1 台 已有保141、偏光纤熔接机 FSM100P 1 台 已有激光器 波长 355nm/功率 10mw 1 台 已有355 激光器 FTSS355-Q2 品牌 cry1as 1 台 已有激光红外装配系统 编码 24001379 1 台 已有激光器 0BIS-405 1 台 已有可程式真空充氮烤箱 资产编码 24001554 1 台 已有送风定温恒温箱 DKN612C 2 台 已有可程式高低温试验箱 H-TK3-1BPC 1 台 已有循环箱 UITY TEMPEF 1 台 已有高精度恒温湿试验箱 ZNHWHS-LEIGH 2 台 已有高低箱循环箱 3007C 1 台 已有超声波清洗机 1 台 已有超声波清洗器 SK142、7210LHC 1 台 已有明月 chicklet 车间 6S 抛光机 PO385-1(上盘自动提升)7 台 已有双面抛光机 9B/5L （III）4 台 已有双面抛光机 X62-1112B-1 1 台 已有 53超声波清洗机 NSD-100162SSTH 1 台 已有光胶烘烤柜 自制 2 台 已有通风柜 1800*800*1500 4 台 已有烤盘 自制 4 台 已有中型精密弧摆高速精磨机 2 轴HSGM-2.5(2)含球心设定装 置 TSD-100 1 台 已有精密平面磨床 GTS-450MSI 1 台 已有单轴研磨机 ZY250-1 2 台 已有三轴机 J28150-1/ZF 1 台 已143、有玻璃切割机 Gen-3 TLC Phoenix-600 1 台 已有抛光机/研磨机 LPG-380 3 台 已有四轴精磨抛光机 JM012.4 3 台 已有三轴高速精磨抛光机 JP035.3B 1 台 已有双轴研磨机 JM035.2A 2 台 已有二轴机 H015 15 台 已有平面干涉仪 PG15-J4 激光 2 台 已有超声波清洗机 MUS-1006T-1 16 台 已有超声波清洗机 NSD-100162SSTH 1 台 已有海尔冷柜 BC/BD-203HCN 1 台 已有电热鼓风干燥箱 DGF-25012C 1 台 已有终固化箱 860*380*400 220V 0.5A 5 台 已有144、除湿机 CF-3D/A 品牌：春兰 2 台 已有电子干燥箱 AD-880D 1075*500*1805 4 台 已有滤光片测试仪 V01 4 台 已有马弗炉 LMF-3550/240V 2 台 已有箱式电阻炉 SGM M30/10A 2 台 已有研磨机 YJ2M9B-5L 2 台 已有双面研磨机 X61-1112B-1 1 台 已有手动贴膜机 UH114-8 1 台 已有UV 曝光机 UH102-8 1 台 已有外抽真空包装机 VS-1000WA 1 台 已有光学元件外观检测仪 ZHMV CUT202 4 台 已有滤光片光谱检测系统 PT9140 2 台 已有旋转片 车间 铣磨机 XJM320145、 3 台 已有双轴抛光机 H015A 20 台 已有三轴高抛机 JP035.3C 6 台 已有热风枪 220V 1 台 已有平面干涉仪 PG15-J4 1 台 已有 54烤盘 250*150*15 220V 2.5A 4 台 已有二十轴机 Q9520 1 台 已有电子干燥箱 AD-880D 1075*500*1805 1 台 已有单轴倒角机 ZY250-1 1 台 已有单轴打砂机 1 台 已有除湿机 春兰 CF-3D/A 2 台 已有超声波清洗机 NSD-1006-304L-40KHZ 7 台 已有测厚仪 Digimicro Measuring Unit MH-15M 尼康 1 台 已有冰箱 146、海尔 BCD-315TNGS 1 台 已有镀膜 车间 喷砂机 SY-9080A 1 台 已有镀膜机 OTFC-1550 DBI 2 台 已有超声波清洗机 MUA-1036 单槽 1 台 已有液体喷砂机 SS-3B 1 台 已有吸入式干喷砂机 XR-2 1 台 已有安捷伦光源检测平台 Turnable01 1 台 已有检漏仪 ULTRATEST UL3000 Fab 莱宝物料号 550-200 1 台 已有光学 设备组 车床 J.MK530 1 台 已有砂轮机 250 1 台 已有台转 Z401.2 1 台 已有C 区 明月 chicklet 车间 玻璃切割机 Q8040 1 台 已有棒料切片机147、 Q8020 1 台 已有自动内圆切片机 J5060 15 台 已有平面圆台铣磨机 XM260 2 台 已有变频磨边机 ACD-100 8 台 已有磨边机 SPCM-M1 3 台 已有诺赛德超声波清洗机 1012F 2 台 已有精密烤箱 LY-6100 1 台 已有万能倒角机 DJJ-200-02 1 台 已有万能倒角机 1 台 已有单轴机 3 台 已有烘烤盘 5 台 已有吸雾器 3 台 已有离心机 4 台 已有离心机 PG800 1 台 已有CNC VMA2520 1 台 已有三用紫外分析仪 WFH-203 1 台 已有密度计 1 台 已有 55冷却系统 3 台 已有大环抛机 1 台 已有N148、PI 车间 100G-CWDM 自动测试系统ZATS-CWDM-DLS1-N 2 台 已有4 通道功率计 ZPM817-4N2-20 2 台 已有CNC 雕刻机 CL-3MGC 4 台 已有PLC 系统 软件 2 台 已有冰箱 无 1 台 已有测厚仪 DIGIMICRO MF-501(100V)/Digimicro Stand MS-11C 1 台 已有测厚仪 MH-15M+TC COUNTER+MS-5S 1 台 已有层流罩 1.4 米、1.6 米、1.9 米 10 台 已有超声波金丝球焊机 WT-2330 2 台 已有超声波清洗机 NSD-1006-40K （单槽）1 台 已有超声波清洗机149、 单槽 NSD-1012FS-40K 1 台 已有超声波清洗机 IUC40-24DTH 一体式 1 台 已有超声波清洗机 BRANSON NO.CPN-952-538R 1 台 已有超声波清洗机 MUS-1006T 80KHZ 1 台 已有超声波清洗机 P120H 1 台 已有超声波清洗机 BRANSON CPX5800H-C 1 台 已有单轴机 Y250-1 3 台 已有氮气柜 DG728A 11 台 已有低温恒温槽 DC-0530 2 台 已有点胶机 Performus X15 配点胶笔 11 台 已有点胶机 Performus III 3 台 已有端面检测仪 EC400KD 12 台 已150、有多刀外圆切片机 J5025 2 台 已有分体式数字控温加热台 JR-2020F 4 台 已有感应耦合等离子体刻蚀机 ICP-601 2 台 已有感应耦合等离子体刻蚀机 ICP-8100 1 台 已有高档不锈钢洗涮台 1152*530*1350 2 台 已有高精度恒温恒湿试验箱 ZNHWHS-LEIGH 2 台 已有高精密电动平移台 KSA200-11-X 2 台 已有光斑机 DATARAY S-WCD-USD15+CamIR5 台 已有光纤切割刀 CT-30 5 台 已有光纤熔接机 70R 藤仓新型带状 1 台 已有光纤熔接机 61S+,含电池、充电线 1 台 已有 56光纤调整架 无规格 151、2 台 已有光纤专用五维位移台 APFP-XYZTL 12 台 已有光纤装配夹具 PA513557 5 台 已有光学平台 09*1.2*0.05m/OTBB912-1 1 台 已有光学平台 04SI72242 S-2000A-422 2 台 已有氦镉激光头 IK4171I-G:He-Cd Laser Head 2 台 已有函数发生器 Agilent 33220A 20M 4 台 已有焊台 日本白光 936 2 台 已有红光激光器 FODL-33A-635-10-BL 2 台 已有红外线直热烤箱 OVG50 RT10-300 度 2 台 已有环抛机 HP830 8 台 已有环形抛光机 HP160152、0A/南京耐尔思/1.6m/二工位/修正盘内驱动 2 台 已有环形抛光机 PG-380/高速机型 3 台 已有激光电源 melles griot 06DLD205/IEEE 2 台 已有激光器 OBIS-405 2 台 已有烤盘 136mm*182mm*182mm AC220V 0.5KW 2.2A 1 台 已有烤盘 300*400 220V 10A 1 台 已有烤盘 260*260*20 220V 4A 7 台 已有烤盘 150*150*15 220V 2.5A 2 台 已有空气压缩机 ACWS-02,220V 1 台 已有空气压缩机 型号：GA-61Y?1 台 已有冷藏柜 ULT 1390153、-10-V（5812）2 台 已有立式高温试验机 T-RHD-45S 2 台 已有马弗炉 LMF-3550/240V 1 台 已有马弗炉 LMF-3550/240V 2 台 已有免缠绕测试仪 JGR MS12001 2 台 已有平面干涉仪 PG15-J4 激光 2 台 已有平面铣磨精磨机 南京六创/XJM-320A 3 台 已有热剥钳 JX-280 自动 2 台 已有热水器 AO 史密斯 EWH1005D 2 台 已有蠕动泵 BT100-2J/DG-2(10)2 台 已有三通道可编程电源 IT6322 30V/3A/90W*2CH 2 台 已有三维空间滤波调整架 M-900 6 台 已有三维手154、动位移台 M-562-XYZ 11 台 已有三维调整架 Tsmw13-XYZ-1A 1 台 已有三维调整架 TSMW13-XYZ-1A 6 台 已有三轴高速精磨抛光机 JP035.3 2 台 已有 57三轴精磨高速抛光机 JP035.3 2 台 已有手动装配台 CWDM4-100G TX 3 台 已有数控防潮箱 DHC1000/101*60*174cm/容 积 1000L/功率 48W 1 台 已有数控防潮箱 121x58x180cm/容积:1200L 1 台 已有双轴精磨抛光机 JM035.2A 6 台 已有送风定温恒温箱 DKN612C 3 台 已有台式稳定光源 FS-1550-20-PM155、-FA 4 台 已有藤仓新型带状光纤熔接机 70R 4 台 已有透射式 TV 型透镜偏芯检查仪 DM-129S/TV 2 台 已有万向微调磁性表座 NA 2 台 已有网络分析仪 E5061B-235 品牌 Agilent 2 台 已有位移台 LTS150/M 4 台 已有五维调整架 TSMW-XYZT-1L 5 台 已有五维调整架 NA 5 台 已有箱体+高效过滤器 FFU 箱体+HEPA Filter 高效 过滤器 13 台 已有循环箱 107-EX TESTEQUITY TEMPERATURE CHAMBER 2 台 已有掩膜板储藏柜 680*1000*1060 2 台 已有一体式端面检测156、仪 EC200BC 2 台 已有仪器架 L600XW600XH1700 1 台 已有仪器架 L600XW600XH1700 2 台 已有真空泵 79202-35 2 台 已有真空吸尘器 NILFISK GM80 2 台 已有直流电源 GPC-3060D 22 台 已有终固化箱 860*400420 220V 1.5A 4 台 已有紫外固化箱 860*400*420 220V 1A 11 台 已有紫外固化箱 860*400*420 220V 1A 1 台 已有自动热剥钳 JX-280 6 台 已有激光红外装配系统 LAS-UP-SWIR 1 台 已有皮秒激光切割机 1 台 已有两维调整架 APF157、P-YZ 1 台 已有电磁感应焊接机 Ambrell EasyHeat0224 1 台 已有全自动节能型氮气控湿柜 DG1428 黑色防静电型 1 台 已有保偏光纤熔接机 FSM100P 1 台 已有等离子清洗机 GDR-10PR 1 台 已有光纤装配平台 PA513556 1 台 已有 58光纤准备平台 PA513558 1 台 已有超声波清洗器 SK7210LHC 1 台 已有高低温循环箱 3007C 1 台 已有日本藤仓带状光纤熔接机 70R+1 台 已有光强计 SP1-365-EIT Spot cure intensity meter 1 台 已有紫外辐射照度计 EXFO R2000 158、Radiometer-P/N:010-00161 1 台 已有可程式真空充氮烤箱 T-VNT-29-200P 1 台 已有离心机 TGL-16G 1 台 已有可程式高低温试验机 H-TK3-1BPC 1 台 已有光学平台（不带支架）OTBB36-1 1 台 已有光功率计 无规格 1 台 已有HP 功率计 无规格 1 台 已有电子防潮箱 DHC-300 1 台 已有TSA50-C 电控位移台 行程:50mm 1 台 已有电热恒温鼓风干燥箱 DHG-042-L 1 台 已有梭形光纤固定装配夹具 PA513557 1 台 已有光纤热剥线钳 HJS-02 1 台 已有鼓风干燥箱 DHG-042-L 1159、 台 已有干燥箱 AD-880D 1075*500*1805 1 台 已有电热恒温鼓风干燥箱 DHG-042-L 1 台 已有高低温试验箱 HZ-2019A-80L(-40150）1 台 已有防潮柜 万得福 AD-310D 1 台 已有精密电动升降台 PSA300-11-Z 1 台 已有步进电机控制器 3 轴 SC300-3B 1 台 已有吸尘器 LCR-15 1 台 已有生物安全柜 外尺寸:760*1500*2285 工作尺寸：600*1350*660 1 台 已有2 倍伽利略扩束器 BE02M-A 1 台 已有光电探测器 918D-UV-OD3 1 台 已有六轴组合位移台 HTIMS601160、 1 台 已有波前传感器 WFS150-5C 1 台 已有1550nm 保偏环行器 CIR1550PM-FC 1 台 已有整体调整台 V1 品牌：Shinopto 1 台 已有十字发生器 V1 品牌：Yeaster 1 台 已有光斑分析仪 BGS-USB-SP620 Spiricon 1 台 已有可调衰减系统 SPZ17012 Spiricon 1 台 已有光斑机 1440-1605nm LBP2-HR-IR 1 台 已有 59光纤准备夹具 ASSY,FIBER PREP PA513558 1 台 已有保护盖装配夹具 ASSY,STRAIN RELIEF PA513565 1 台 已有套管成型161、夹具 ASSY,TUBE FORMING PA513569 1 台 已有点胶夹具 ASSY,GLUE APPLICATION PA513570 1 台 已有光束分析仪 BGS-FWB-GRAS 20 1 台 已有自动快速测量 M2 系统 M2-200S-FW-A 1 台 已有传递函数测量仪 OpTest#System part 1 台 已有激光自动准直检测仪 H400C016S/H55 1 台 已有光学装配平台 POT-G10-08 1 台 已有光学调试平台 ZDT10-08 1 台 已有超高精密小尺寸电动位移台NFPA-1462C 1 台 已有超高精密手动平移台 NFP-1462C 1 台 162、已有355 激光器 FTSS355-Q2 品牌 crylas 1 台 已有校准光源 L11416-470 1 台 已有声光测试平台 7.2.00.0476 1 台 已有步进电机控制器 SC300-2A 1 台 已有小尺寸精密划台 CXP20-60 1 台 已有不锈钢面包板 OTBB69-50 1 台 已有五维位移台 NFP-5561L 1 台 已有光学气浮平台 ZDT-P35-15 1 台 已有高精度 AWG 耦合装配台 CWDM4-RX 1 台 已有激光光斑分析仪 BGS-USB3-LT665 1 台 已有光纤专用五维位移台 APFP-XYZTL 1 台 已有重载型电动平移台 TSA300-163、B 1 台 已有红外热像仪 C3 1 台 已有4 通道功率计 Customization 1 台 已有泰克示波器 MDO3034 1 台 已有透反射式偏心仪 LensCT-VTR 1 台 已有校准自准直仪 ACT-25 1 台 已有高精密一维平台 AI-LM-5000-NANO 1 台 已有全自动多芯光纤端面干涉仪BINNA-MTPRO 1 台 已有355 激光器 FTSS355-Q2 1 台 已有CWDM4-RX 监控器 100G CWDM4 1 台 已有M2 测量系统 M2MS-BP209IR/M 1 台 已有光束质量分析仪 BP209-VIS/M 1 台 已有专用型三合一复合式影像测量 164、仪 OPTIV ADVANCE 332 1 台 已有 60紫外硅探测器 918D-UV-OD3R 1 台 已有准直器 FLEX-UV405 1 台 已有烟雾净化器 QUICK6601 1 台 已有数显热风枪 AT852D 1 台 已有光波多功能计 8163A Agilent 1 台 已有光谱分析仪 AQ6370D 光谱分辨率优于 10pm 1 台 已有激光直写光刻系统 MicroWriter ML 1 台 已有相位测试干涉仪 1 台 已有压膜机 10#laminator 10#-XRL-180 1 台 已有曝光机 3#Exposure unit 3#-92540-1000 1 台 已有单面去胶165、机 1#Single Wafer Spin Processor(Stripper)1#-Laurell EDC-650-15NPP 1 台 已有超声波清洗线 8#Cleanline8#-MX2581 1 台 已有真空包装机 6#DZ-600T 1 台 已有烤箱 36#CNCR-1H 1 台 已有排气罩 Actor 1.4m 1 台 已有离子氮气枪 3M 980 1 台 已有压膜机 3#XRL-180 1 台 已有压膜机 11#XRL-180 1 台 已有高倍显微镜 1 台 已有表面轮廓仪 surface Profiler-Dektak 1 台 已有800mm 环抛机 低速抛光 1 台 已有平面166、抛光机 JP560 1 台 已有平面精磨机 JP560 1 台 已有修正板装卸车 1 台 已有研磨机 PLCNC-450 1 台 已有扩张机 xx宇通/YT169/6 寸 1 台 已有贴膜机 FZSYTM010/8 寸 1 台 已有冷水机 LSJ-ZL-25 带制冷 2P 压缩机/与高周波加热器匹配使用 1 台 已有高周波加热器 Xjh-30kw-b 感应圈 280 1 台 已有百级洁净工作台 W 宽*长 L*高 H 1800*850*19501 台 已有百级洁净工作台 W 宽*L 长*高 H 1800*850*19501 台 已有精密光学倒角机 CM02B-T610-1000#1 台 已有环167、磨机 HP830-B 1 台 已有5 轴 CNC 雕刻机 CL-2MD 1 台 已有实验滚筒球磨机 QM-5 1 台 已有 61环形抛光机 HP620 1 台 已有环高抛光机 HP620B 1 台 已有离子束刻蚀机 MIBE-200C 1 台 已有三维平移调整架 7MFP0101 1 台 已有镜头分辨率检测投影机 CT50 1 台 已有推拉力测试台 日本 ATTONIC K-501H 1 台 已有投影仪 尼康/V-12BD/220-230-240V 1 台 已有光纤端面检测仪 FVW409-P 1 台 已有除湿机 CF3D/A 1 台 已有无铅焊台 Weller WSD81 1 台 已有Zem168、ax 13 IE Zemax/Zemax 13 IE 1 台 已有粉尘离心机 FLQ100-3 1 台 已有饮水机 UW-999AS-3 贺众 1 台 已有烘烤箱 YHG-400-BS 1 台 已有可程式真空充氮烤箱 T-VNT-29-200P 1 台 已有激光平面干涉仪 XQ15-GIII 1 台 已有工具金相显微镜 尼康/MM-400/U 1 台 已有旋转台 骏河精机 B43-60NR 1 台 已有粗糙度测试仪 TR200 1 台 已有真空泵站 设备含:2BV2 061 水环真空 泵 2 台-伯仲牌（最大抽气速 率 0.86m3/min、电机功率1.45kW、启动真空度-0.098MPa）169、电控柜 1 台及安 装时附属配件 1 台 已有氧气检测仪 ET2-YZH-02 1 台 已有激光加工平台 1 台 已有飞秒激光器 Amplitude Satsuma HP3 1 台 已有激光高精密钻孔测量系统 XGZK-05X 1 台 已有激光系统 VLASE-UV3W 1 台 已有同轴透镜调节系统 图号：PM-GZ130314A 1 台 已有光洁度自动检测仪 1 台 已有打砂机 N/A 1 台 已有烤箱 NA 1 台 已有振荡清洗机 610*300*6001P220V 5A 1 台 已有小型数控铣床 1 台 已有光胶烘烤炉 LMF3550/240 1 台 已有烘烤箱 YHG-400-S 1 170、台 已有高清显微成像系统 NAVITAR 带 CCD 1 台 已有 62无油真空泵 SML-140-BC 1 台 已有高精度数控匀胶旋涂仪 WS-650Hz-8NPPB 1 台 已有低温制冷机 FD-10 1 台 已有工业冷水机 YK-20 1 台 已有匀胶旋涂仪 8N-UD3B 1 台 已有感应耦合等离子刻蚀机 ICP SI-500 1 台 已有水循环恒温机 YT-30 1 台 已有高精度测角仪 5-100-00 1 台 已有防腐蚀化学品存储柜 1120*1090*460 1 台 已有磁流变抛光系统 Q22-Y 1 台 已有分度盘 M-UTR80,79mm Dia,Metric 1 台 已有171、氦镉激光器 IK4171I-G Power supply:KR1801C，220V 1 台 已有光学隔振柱 S-2000A-419.5 1 台 已有ZYGO 激光干涉仪 Metropro 9&Metroprox 1 台 已有匀胶机 SPIN-1200D 1 台 已有自动离子束刻蚀机 IBE-150B 1 台 已有全自动电感耦合等离子体刻蚀 机 ICP-500 1 台 已有氟系气体安全检测设备 德尔格 SF6、CHF3、C4F8 检 漏监测报警装置 1 台 已有环境氧含量监测设备 Honeywell 固定式环境氧含 量监测设备 1 台 已有半导体湿法制程设备 MSC-EDC-650Hz/23N 172、1 台 已有金属湿化台金属湿化台 Rad-Plater 1 台台 拟建拟建涂胶机涂胶机/1 台台 拟建拟建压膜机压膜机/3 台台 拟建拟建光刻曝光机光刻曝光机/2 台台 拟建拟建直写机直写机/1 台台 拟建拟建刻蚀机刻蚀机/2 台台 拟建拟建单面清洗机单面清洗机/1 台台 拟建拟建超声波清洗机超声波清洗机/1 台台 拟建拟建清洗线清洗线/1 台台 拟建拟建烤箱烤箱/1 台台 拟建拟建白光干涉仪白光干涉仪/1 台台 拟建拟建百级洁净冲氮烤箱 H600*W500*D400 1 台 已有光学 车间 二轴机 H015A 20 台 已有三轴精磨高速抛光机 JP35.3 10 台 已有四轴精磨抛光机 JM173、012.4 2 台 已有 63烘烤箱 YHG-400-S 27 台 已有马弗炉 LMF-3550/240V 4 台 已有超声波清洗机 MUS-1006T 80KHZ/MUS-1006T-40KHZ 26 台 已有CNC 雕刻机 JDPMS16T-A8-P 1 台 已有单轴研磨机 ZY250-1 3 台 已有单轴打砂机 2 台 已有双面精密研磨机 LA 385-1 台 已有投影仪 NIKON V-12BD/WCPJ-3015AZ 4 台 已有椭偏仪#11 115v/M-2000UI 2 台 已有平面 车间 测厚仪 sony 电子式分厘表 U30A 1 台 已有测厚仪 Digimicro Meas174、uring Unit MH-15M 尼康 2 台 已有测角仪 60 2 台 已有电子干燥箱 AD-880D 1075*500*1805 3 台 已有三轴机 J28150-1/ZF 2 台 已有投影仪 NIKON V-12BD 2 台 已有测厚仪 尼康 1 台 已有测角仪 尼康 1 台 已有电子干燥箱 AD-880D 3 台 已有电子防潮机 AD-280DUAL 1 台 已有烘烤箱 自制 4 个 已有超声波清洗机 BRANSON B5510E-DTH 1 台 已有高周波加热机 LSJ-2HP 1 台 已有单轴打砂机 自制改造 5 台 已有单轴倒角机 Y250-1 1 台 已有三轴倒角机 J281175、50-1/2F 2 台 已有测厚仪 MS-4G 1 台 已有二轴研磨机 H015 4 台 已有双轴研磨机 JM035.LA 4 台 已有四轴研磨机 JM012.4 1 台 已有单槽超声波清洗机 7732-18-5 1 台 已有二轴机 H015 26 台 已有三轴机 JP035.3 7 台 已有6S 抛光机 C62 50-2BYJ 8 台 已有超声波清洗机 NSD-1006-304L-40K 3 台 已有水温控制机 SK50PT 2 台 已有现代超声波清洗机 MUA/1012T 1 台 已有 64平面激光干涉仪 PG15-J4 3 台 已有单槽超声波清洗机 NSD-1018FS-80K 3 台 176、已有热风枪 858D 3 台 已有必能信超声波 BRANSON B5510E-DTH 2 台 已有必能信超声波 BRANSON B5510E-DTH 1 台 已有现代超声波 MUS-1006T-1 40KHZ 1 台 已有现代超声波 MUS-1006T-1 40KHZ 1 台 已有诺赛德超声波 NSD-1006A-40K 2 台 已有诺赛德超声波 NSD-1006A-40K 2 台 已有单槽超声波 NSD-1006-304L-40KH2 2 台 已有震荡机 设备组自制 3 台 已有震荡机 设备组自制 1 台 已有海尔冰柜 BC/BD-429HC 1 台 已有烘烤箱 设备组自制 1 台 已有电热177、鼓风干燥箱 DHG-9203A 1 台 已有净化台 TJ101:900*700*1750 12 台 已有测角仪 JJC60 4 台 已有点胶机 PERFORMUS III 8 台 已有恒温柜 NA 1 台 已有冰箱 新飞 BC-48 2 台 已有固化箱 设备组自制 13 台 已有必能信 B5510F 超声波清洗机BRANSON B5510E-DTH 6 台 已有诺赛德 1006F 超声波清洗机NSD-1006F-40K 内槽尺寸 310*230*230 1 台 已有MX2060 半自动超声波清洗机MX-2606 1 台 已有MX2060 全自动超声波清洗机MX-2606 1 台 已有HKD 纯178、水满提拉干燥箱 NA 1 台 已有NSD-2023F-40K 超声波清洗机 NSD-2023F-40K 3 台 已有必能信超声波发生器 BRANSON B5510E-DTH 7 台 已有超声波发生器 NSD-1006-304L-40K 19 台 已有Branson 蒸汽清洗机 BRANSON 1 台 已有NSD-1006-304L-40K 超声波清洗机 NSD-1006-304L-40K 2 台 已有双人净化台 双人百级垂直 TJ-201 1 台 已有单人净化台 TJ101:900*700*1750 1 台 已有电热鼓风干燥箱 DHG-9203A 1 台 已有光纤 车间 电热鼓风干燥箱 CS1179、01-3EB 9 台 已有电子干燥箱 AD-880D 7 台 已有 65绕线机 7 台 已有烘干机 乐创 20 层 1 台 已有紫外点光源 A1000 5 台 已有全自动光纤绕线机 FY-AUTO-R2015CS 2 台 已有自动点胶机 J-331 1 台 已有自动 UV 固化机 DJ-25W 2 台 已有单轴机 1 台 已有自动内圆切割机 J5060C1 1 台 已有吉顺机 LP-15F （进 口）6 台 已有跳线研磨机 APC-8000 8 台 已有超声波清洗机 MUS-1006TX-28KHZ 14 台 已有毛坯 车间 超声波清洗机 MUA1006 7 台 已有电热鼓风(恒温)干燥箱 D180、GF25003C 1 台 已有台式三用紫外分析仪 ZF-105 1 台 已有立式内园切片机 QP-301 17 台 已有菱克切割机 LS-LM-116G 3 台 已有自动内园切割机 J5060C1 22 台 已有下摆式高速研磨机 HSOM-3.0 1 台 已有单轴机 Y250-1 6 台 已有万能倒角机 NA 1 台 已有平面铣磨机 XM260/XM275 3 台 已有多刀外园切片机 NA 1 台 已有万能摇臂铣床 M3-ZX 1 台 已有铣床 JG-618 1 台 已有玻璃切割机 Q8040 2 台 已有烤盘 NA 15 台 已有球面车间 内圆切割机 J5060C1 8 台 已有自动内圆切割181、机 J5060C1 4 台 已有单轴机 Y250-2 7 台 已有二轴机 H015 2 台 已有点胶机 CN1000 4 台 已有调整式球心型抛光机 LP-770B 2 台 已有铣磨床 CHRDIP-80 6 台 已有透镜研磨六轴机 JM012.6 5 台 已有精密平磨机 C6250-3B/YJ 1 台 已有三轴机 JM012.3 2 台 已有精密狐摆高速精磨机 HSGM-0.5 1 台 已有精密狐摆高速抛光机 HSGM-0.5 1 台 已有 66高速定心磨边机 SPCM-M1 5 台 已有玻璃切割机 QP-301D(刀盘加深到 60mm)1 台 已有调整式球心型研磨机 LP-770BB 5 182、台 已有异形平板对应倒角磨边机 TCH-2T-S(伺服马达控制)1 台 已有修正机 HLA-5 型 1 台 已有磨边机 NC 芯取机,BE-WF-502N 型 2 台 已有可变斜轴高速精磨机 HSCGM-2 1 台 已有可变斜轴高速抛光机 HSCPM-6 1 台 已有成盘铣磨机 RCG-2.0 1 台 已有八轴精磨抛光机 JPH30.8 4 台 已有超声波清洗机 MUS-1006T-1 80KHZ 7 台 已有下摆式球心型高速研磨机 LP-660CV/高抛 5 台 已有玻璃滚圆平台 10992101/Dedtru_M-C 1 台 已有平面铣磨机 11062101 1 台 已有球面铣磨机 136183、32101/SJK-CG100R 1 台 已有双面研磨机 10702101/PR1(SN 1896CO)1 台 已有单轴倒角机 11115102 2 台 已有自动加液四轴机 11392101-1/6DE-4(SN 144-8-84)2 台 已有双面抛光机 10612102/PR1 5 台 已有双面抛光机用提升杆控制系统 11442101/主机 1146 1 台 已有4 轴林普研磨机 13652101 1 台 已有2 轴林普研磨机 14552101 1 台 已有定心磨边机 manual centering machine:KJ-100H/+holder corrector:KJH2 台 已有无心184、滚圆机 Dedtru Model C/+Filtru tank/Filter assy/+Splash pan 116-03/+Splash pan assy/+Bla 1 台 已有万能摇臂铣床 M3-ZX/建亚精机/工作 台:1270*250/主轴锥度:R8/电 机:3P 1 台 已有磨床 JG-618 1 台 已有高周波加热器 Xjh-30kw-b 感应圈 280 2 台 已有三轴精磨高速抛光机 JP035.3 2 台 已有六轴球面平推式高速研磨机LP-550NBS 2 台 已有四轴球面平推式高速研磨机LP-550PBS 1 台 已有可变斜轴高速机 HSCM-G4 4 台 已有大型精密弧摆185、高速抛光机 4 轴HSPM-3.0 2 台 已有CZ-4.05 下摆机 CZ-4.05 1 台 已有 67大型精密弧摆高速精磨机 2 轴HSGM-3.0 1 台 已有大型磨边机（配置真空泵）LCM-2.0 1 台 已有6S 抛光机 C62 50-2BYJ 3 台 已有单槽超声波清洗机 MUA-1009TSM-40KHZ 6 台 已有涂墨机 TMK-200 1 台 已有6S 双面精密抛光机 PO 385-1 3 台 已有全自动内圆切片机 J5060F1 2 台 已有中型精密弧摆高速抛光机 HSPM-2.5 4 轴 2 台 已有磨边机 KJ-100H 2 台 已有三轴柱面研磨抛光机 ZM30.3 186、1 台 已有铣磨机自动化装置 CHRDI P-80 中航 7 台 已有集中供油冷却系统 1 台 已有精密双面抛光机 PO 385-1 2 台 已有镜片磨边机 BE-WF-502N 1 台 已有平推式高速研磨机 LP-550LDBS 1 台 已有时代下摆机自动化系统 XY 机械手式（四轴 CH600)1 台 已有时代下摆机自动化系统 XY 机械手式（抛光机 CH680)1 台 已有CNC 抛光机 SPS200 1 台 已有半自动气相超声波清洗机 NSD-3024R 1 台 已有气相超声波清洗机 TEO-3024R 1 台 已有ZYGO 干涉仪 6500-0444-50/4-inch VeriFi187、re XP/D 2 台 已有单轴打砂机 1 台 已有单轴透镜研磨机 1 台 已有镀膜 车间 真空镀膜机 6#APS1104 1 台 已有真空镀膜机 4#ZZSX-800 1 台 已有真空镀膜机 5#ZZSX-800 1 台 已有镀膜机 1#ZZSX-800 1 台 已有镀膜机 8#ZZSX-800 1 台 已有镀膜机 A#ZZSX-800B 1 台 已有镀膜机 R#OTFC-1300 DBI 1 台 已有镀膜机 F#OTFC-1300DBI 型 1 台 已有镀膜机 E#OTFC-1300DBI 型 1 台 已有镀膜机 G#OTFC-1100DBI 1 台 已有镀膜机 H#OTFC-1100DB188、I 1 台 已有镀膜机 B#莱宝 1350/LEYBOLD OPTICS SYRUS C 1350 1 台 已有光学镀膜机 C#11942101/现代 ZZS1100(SN 2004208)1 台 已有 68镀膜机 3#11692101/ZZS1100/SN 2003146 1 台 已有镀膜机 J#OTFC-1300DBI 型 1 台 已有镀膜机 N#OTFC-1300CBI 1 台 已有镀膜机 T#HELOIS 800 MF 1 台 已有南光镀膜机 2#ZZS1100 1 台 已有电热鼓风干燥箱 DGF2028B 1 台 已有退火烤箱 OMH100/97L 1 台 已有箱式电阻炉 SGM.M189、30/10/A/30L/1000/3005002009(mm)6 台 已有液体喷砂机 SS-3 2 台 已有洁净烘烤箱 HS-J1 1 台 已有光学镜片超声波清洗机 Ultrasonic Clean Line MX-2304-2 1 台 已有分光光度计 Lambda900(进 口）1 台 已有NEWPORT 功率计 1830-(CNewPort)进口)1 台 已有分光光度计 LAMBDA900 1 台 已有AGILENT 光波测试系统 1 台 已有正置金相显微镜 C2003B/目镜倍数 10X/物镜 倍数 5X 10X 20X 40X 1 台 已有质谱仪 11552101 1 台 已有检漏仪 190、11972201 1 台 已有633nm 氦氖激光器 R-32734 1 台 已有Veeco 激光光控系统 1 台 已有Cary UMA 平台 G6875AA 1 台 已有VOC 气体报警仪 ET2-YZH-VOC 1 台 已有分光光度计 Cary5000 1 台 已有白光干涉仪 Chromatis 1 台 已有镀膜机 K#OTFC-1300 1 台 已有镀膜机 V#Veeco Spector Coator 1 台 已有镀膜机 L#莱宝/ARES1110 1 台 已有镀膜机 Q#光驰 OTFC-1300DBI 1 台 已有镀膜机 W#Spector-HT 1 台 已有镀膜机 Y#OTFC-15191、50DBI 1 台 已有镀膜机 P#OTFC-1300DBI 1 台 已有莱宝镀膜机 ARES1110 1 台 已有镀膜机 9#Veeco IBS 1 台 已有烤箱 OMH100 2 台 已有人工智能箱式电阻炉 SGM.M30/10A 4 台 已有液体喷砂机 SS-11XX 1 台 已有 69明月 chicklet 车间 光胶烘烤柜 自制 2 台 已有二轴机 H015 2 台 已有单轴机 JP350D 4 台 已有自制单轴打砂机 GY3 2 台 已有两轴抛光机 JP035.2 2 台 已有烤盘 自制 4 台 已有对比测角仪 JJC60 2 台 已有中型精密弧摆高速精磨机 2 轴 HSGM-2.192、5(2)含球心设定装 置 TSD-100 1 台 已有精密平面磨床 GTS-450MSI 1 台 已有单轴研磨机 ZY250-1 2 台 已有三轴机 J28150-1/ZF 1 台 已有玻璃切割机 Gen-3 TLC Phoenix-600 1 台 已有抛光机/研磨机 LPG-380 3 台 已有四轴精磨抛光机 JM012.4 3 台 已有三轴高速精磨抛光机 JP035.3B 1 台 已有双轴研磨机 JM035.2A 2 台 已有二轴机 H015 15 台 已有平面干涉仪 PG15-J4 激光 2 台 已有超声波清洗机 MUS-1006T-1 16 台 已有超声波清洗机 NSD-100162S193、STH 1 台 已有通风柜 1800*800*1500 2 台 已有海尔冷柜 BC/BD-203HCN 1 台 已有电热鼓风干燥箱 DGF-25012C 1 台 已有终固化箱 860*380*400 220V 0.5A 5 台 已有除湿机 CF-3D/A 品牌：春兰 1 台 已有体视显微镜 XTB-02/SZ45-ST1/宁波舜宇 13 台 已有冷光源 13 台 已有净化台 TJ101/900*700*1750 37 台 已有体视显微镜 XTB-02/SZ45-ST1/宁波舜宇 27 台 已有除湿机 CF-3D/A 品牌：春兰 1 台 已有电子干燥箱 AD-880D 1075*500*1805194、 4 台 已有滤光片测试仪 V01 4 台 已有马弗炉 LMF-3550/240V 2 台 已有箱式电阻炉 SGM M30/10A 2 台 已有研磨机 YJ2M9B-5L 2 台 已有双面研磨机 X61-1112B-1 1 台 已有6S 抛光机 PO 385-1(上盘自动提升)7 台 已有 70双面抛光机 9B/5L（III）4 台 已有双面抛光机 X62-1112B-1 1 台 已有超声波清洗机 NSD-100162SSTH 1 台 已有手动贴膜机 UH114-8 1 台 已有UV 曝光机 UH102-8 1 台 已有外抽真空包装机 VS-1000WA 1 台 已有光学元件外观检测仪 ZHM195、V CUT202 4 台 已有滤光片光谱检测系统 PT9140 2 台 已有光学 研发 单晶炉 JGD800 型 1 台 已有日本藤仓单芯光纤熔接机 61S 1 台 已有激光器 IK3501R-G#He-Cd Laser,325nm=50mw 1 台 已有马弗炉 LMF-3550/240V 1 台 已有马弗炉 LMF-3550/240V 1 台 已有马弗炉 KSL-1100X-L 1 台 已有电子干燥箱 AD-410D 1 台 已有防腐蚀化学品存储柜 JSPP04 560*430*430MM 1 台 已有防腐蚀化学品存储柜 JSPP30 1120*1090*460MM 1 台 已有水循环恒温机196、 YT-30 WORLDMENT 1 台 已有真空吸尘器 GM80(含 HEPA)1 台 已有晶体车间 车床 凯达/SN:11802101 1 台 已有品保部 隔振平台 1 台 已有橡皮耐磨擦试验机 ER-2 1 台 已有延迟半角测角仪 DSA6300 1 台 已有激光器 DPGL-3001 1 台 已有激光器 1 台 已有ZYGO 干涉仪 激光 ZYGO 1 台 已有氦氖激光器 JDSU 1101P 1 台 已有扭力测试仪 HP-10,精度:0.5%F.S.1 台 已有推拉力计及测试台 SHIMPO FGP-50-S1 1 台 已有光功率计 1830-C 1 台 已有光功率计 1830-C 197、1 台 已有日本制“SHIMPO”数显推拉力计 FGB-20B 不带信号输出 1 台 已有测厚仪 sony 电子式分厘表 U30A 1 台 已有激光器 1103-2934/31.6*240(L),633n m/4mW,MADE IN U.S.A,JDS Unplphase,ZYGO corp.GPI INTE 1 台 已有千分尺研磨机 研叨剃将褺棄 0-25 1 台 已有 7125-50 50-75 75-100MM 手持式光功率计 2 台 已有光纤切割刀 日本藤仓新型单芯光纤切割 刀 CT-30A 1 台 已有ZYGO 干涉仪标准镜 4”/+FLASHPHASE 软件 1 台 已有中心偏测量198、 SN:20913201 1 台 已有测径仪 三丰/209-660 1 台 已有激光器 RLD-940-20D 1 台 已有索累-巴比涅补偿器 型号：SBC-IR 1 台 已有偏振控制器 安捷伦 8169A 1 台 已有密度计 MH300A 1 台 已有激光损伤阈值测试系统 NA 1 台 已有IPG1064nm 激光器 YLR-10-1064-LP 1 台 已有激光器 GLR-10 1 台 已有功率计 1830-R 818-IG/DB Newport 1 台 已有功率计 1830-R 818-IG/DB Newport 1 台 已有隔振蜂窝平台 ZDT25-15 1 台 已有测厚仪 U30B-199、F 1 台 已有扭矩测试仪 数显 ST-50-LY-5 1 台 已有测厚仪 三丰 543-557DC ID-F150H 1 台 已有D 区 柱面 车间 四轴柱面磨抛机 ZM15.4B 双顶针 24 台 已有柱面滚抛机 CLP-1 19 台 已有三轴柱面研磨机 JP730.3*30 8 台 已有三轴高速精磨抛光机 JM035.3 5 台 已有四轴气压柱面磨抛机 CZM15.4A 6 台 已有单轴机 Q8415 2 台 已有净化工作台 天津洁风:TJ101/900*700*1750/单人垂直 26 台 已有单槽式超声波清洗机 NSD-1009FS-40K 5 台 已有超声波清洗线 INVPOC-G200、LC-11T 2 台 已有CNC 雕刻机 JDSGM400TE_A10H 北京精雕 8 台 已有SLENS CNC 抛光机 SPS200 1 台 已有CNC 雕刻机 JDLVG400E_A10SH 1 台 已有大透镜铣磨机 XM135 4 台 已有大型磨边机（配置真空泵）LCM-2.0 1 台 已有定心磨边机 C-300-2SL 1 台 已有横动式研磨机 LP-880SS220 1 台 已有 72激光雕刻机 FLG-6040 1 台 已有可变斜轴高速机 HSCM-P6 1 台 已有磨边机 KJ-50-250 2 台 已有抛光机 SPS-125 4 台 已有平推式高速研磨机 LP-550RBS2201、00S 7 台 已有平推式研磨机 LP-570SS200 2 台 已有三轴高速精磨抛光机 JM035.3 2 台 已有数控球面铣磨机 LGS200 1 台 已有五轴数控非球面抛光机 SPS140-2SL2A 1 台 已有五轴数控非球面铣磨机 SPM140-2SL1A 1 台 已有铣磨机 SPM-200 1 台 已有SCI 车间 磨边机 1 台 已有化学抛光机 15 台 已有SST 清洗机 4 台 已有超声波清洗线 1 台 已有毛刷清洗机 6 台 已有SAT 清洗机 4 台 已有最终清洗机 2 台 已有边缘轮廓检测仪 3 台 已有表面轮廓检测仪 2 台 已有检测显微镜 Nikon 24 台 已有202、晶圆分选机 2 台 已有 8 水平衡水平衡 本项目用水主要为生产用水、食堂用水和职工生活用水。1、生活用排水 本项目劳动定员为 2792 人，参考建筑给水排水设计标准（GB50015-2019），不住宿，生活用水按每人每日 50 L/d，即职工用水量为 139.6t/d（41880 t/a）。生活污水排放系数按 85%计算，则生活污水排放量为 118.66t/d（35598t/a）。生活污水经化粪池预处理后经 D 区废水总排口排至洋里污水处理厂。2、食堂用排水 项目食堂厨房废水主要来源于食物清洗以及厨房间操作产生的废水。参照建筑给水排水设计标准（GB50015-2019），职工食堂平均日生活用203、水定额取 20 L/次人，根据业主提供资料，项目职工每天在食堂就餐（一日三餐），运营期就餐人数约 2500 73人次（其中 D 区 200 人次在 D 区食堂，A、B、C 区共 2300 人次在 C 区食堂），则项目用水量为 138t/d（41400 t/a，D 区 3312t/a，C 区 38088t/a），排放系数按 85%计算，食堂废水排放量约 117.3t/d（35190t/a，其中 D 区 2815.2t/a，C 区 32374.8t/a）。厨房废水中含有油脂和食物残渣，其有机物、油脂、悬浮物浓度都较高。本评价要求修建隔油池对厨房废水进行预处理，食堂污水经隔油池预处理后与生活污水一道204、进入化粪池，经化粪池预处理后经 D 区废水总排口排至洋里污水处理厂。3、新增工艺湿法金属化不使用水，因此项目 A、B、C 区技改扩建实施后与现状用水量一致，D 区生产用水按产量计算，生产用水按照各楼栋及楼层由建设单位提供，见下表 2-6 4、纯水制备 A、B、C、D 区分别设有纯水制备间供各区所需纯水，纯水制备间设置情况见表2.3-10，纯水用排水情况见表 2.3-16，全厂用排水情况详见表 2.3-16。给排水平衡图见图 2.3-1。表表 2.3-16 技术提升改造及扩建项目各区域给排水情况一览表单位：技术提升改造及扩建项目各区域给排水情况一览表单位：t/d 区域 用水环节 用水量损耗量 排205、水量预处理设施及规模 去向 A 区 2#楼 1 层清洗 0.80 0.16 0.64 废水经 A 区光学废水设施预沉淀处理（总容积约5m3，2m3/h）后经（破乳+气浮+生化，规模 30t/d）处理 经 A 区废水总排放口排至洋里污水处理厂3#楼 1 层清洗 0.40 0.08 0.32 4#楼 1 层切割/粗磨 3.20 0.64 2.56 清洗 6.00 1.20 4.80 4#楼 2 层抛光 2.40 0.48 1.92 4#楼 3 层清洗 1.80 0.36 1.44 5#楼 1 层 清洗（纯水）9.60 1.92 7.68 5#楼 3 层 清洗（纯水）1.20 0.24 0.96 废206、气治理装置 硫酸雾水喷淋1 0.3 0.7 合计 26.4 5.38 21.02B 区 3#楼 1 层切割/粗磨/抛光 1.20 0.24 0.96 经B区絮凝沉淀处理，总容积约 12m3，5m3/h 处理后经 B 区废水总排口排至洋里污水处理厂 清洗（纯水）0.80 0.16 0.64 3#楼 2 层清洗 0.80 0.16 0.64 3#楼 3 层抛光 26.00 5.20 20.80清洗 104.00 20.80 83.203#楼南楼1 层 粗磨/抛光（纯水）4.80 0.96 3.84 743#楼南楼2 层 清洗（纯水）4.80 0.96 3.84 4#楼 1 层喷砂 0.92 0.1207、8 0.74 清洗 104.00 20.80 83.20/合计 247.32 49.46 197.86/C 区 2#楼 1 层粗磨 3.12 0.62 2.50 预沉淀处理，总容积约8m3，4m3/h 处理后经 C 区废水总排口排至洋里污水处理厂 清洗 20.64 4.13 16.51喷砂 1.92 0.38 1.54 2#楼 2 层抛光 12.80 2.56 10.24清洗 49.60 9.92 39.684#楼 1 层切割/粗磨 6.44 1.29 5.15 预沉淀处理，总容积约2m3，1m3/h 清洗 6.40 1.28 5.12 8#楼 1 层切割/粗磨/抛光 5.16 1.03 4.208、13 预沉淀处理，总容积 15m3，6m3/h 清洗（纯水）40.32 8.06 32.268#楼 2 层清洗 14.80 2.96 11.84 8#楼 3 层粗磨/抛光 52.00 10.40 41.60清洗 32.80 6.56 26.248#楼 4 层粗磨/抛光 9.48 1.90 7.58 清洗 8.40 1.68 6.72 11#楼 1 层切割 6.92 1.38 5.54 预沉淀处理，总容积约2m3，1m3/h CNC 加工 0.5 0.2 0.3 12#楼 1 层清洗 24.80 4.96 19.84喷砂 1.52 0.30 1.22 废气治理装置 水喷淋 12 3.6 8.4/209、碱液吸收 0.008 0.0024 0.0056/小计 309.62863.2124 246.4156/D 区 2#1 层 清洗（纯水）10 1 9 酸性废水：5T/d，碱性废水 100T/d，抛光废水60T/d，生化段包含了酸碱、抛光、清洗等废水，总250T/d 处理后经 D 区废水总排口排至洋里污水处理厂 2#2 层 清洗（纯水）60 3 57 2#2 层 抛光 50 5 45 2#4、5 层抛光研磨 60 6 54 废气治理装置 酸喷淋塔 3 0.5 2.5 碱喷淋塔 6 1 5 小计 189 16.5 172.5A 区 纯水间 21.6 10.8 用于 A区生产 10.8 经 A 区废210、水总排口排至洋里污水处理厂 B 区 纯水间 20.8 10.4用于B区生产 10.4 经 B 区废水总排口排至洋里污水处理厂 C 区 纯水间 72 36 用于 C 区36 经 C 区废水总排口排至 75生产 洋里污水处理厂 D 区 纯水间 140 70 用于 D 区生产 70 经 D 区废水总排口排至洋里污水处理厂 C 区 食堂 126.96 19.044 107.916经 C 区废水总排口排至洋里污水处理厂 D 区 食堂 11.04 1.656 9.384经 D 区废水总排口排至洋里污水处理厂 D 区 生活污水 139.6 20.94 118.66A 区小计 37.2 5.38 31.82经211、 A 区废水总排口排至洋里污水处理厂 B 区小计 257.72 49.46 208.26经 B 区废水总排口排至洋里污水处理厂 C 区小计 472.59 82.264 390.326经 C 区废水总排口排至洋里污水处理厂 D 区小计 409.64 39.096 370.544经 D 区废水总排口排至洋里污水处理厂 合计 1177.15176.2 1000.95/76切割、粗磨、抛光等废气治理A区25.4120.320.73#楼切割、清洗、抛光、粗磨，4#1层喷砂4#楼1层清洗B区143.32104114.6683.2A区光学废水设施预沉淀处理（总容积约5m3，2m3/h）后经（破乳+气浮+生化212、，规模30t/d）处理经B区絮凝沉淀处理，总容积约12m3，5m3/h损耗5.38损耗49.462#楼1层、2层粗磨、清洗、喷砂、抛光4#楼1层切割、粗磨、清洗8#楼1、2、3、4层粗磨、清洗、抛光11#楼1层切割、12#楼1层CNC喷砂、清洗废气治理装置C区88.0870.47预沉淀处理，总容积约8m3，4m3/hA区排放口B区排放口C区排放口10.27预沉淀处理，总容积约2m3，1m3/h12.84162.96130.37预沉淀处理，总容积15m3，6m3/h197.8621.0226.9预沉淀处理，总容积约2m3，1m3/h70.4710.27130.3733.7426.912.0088213、.4056损耗63.2124246.41562#楼清洗、抛光、研磨等废气治理D区18091657.5A区光学废水设施预沉淀处理（总容积约5m3，2m3/h）后经（破乳+气浮+生化，规模30t/d）处理损耗5.38D区排放口172.5A区纯水制备间B区纯水制备间C区纯水制备间D区纯水制备间10.8用于A区5#楼清洗21.6D区排放口C区排放口B区排放口A区排放口10.4用于B区3#楼1层及3#楼南楼20.836用于C区8#楼1层清洗工艺7214070用于D区2#楼清洗工序10.810.43670员工生活用水食堂用水139.6126.96损耗20.94损耗20.7118.66107.91611.0214、4D区排放口C区排放口9.384隔油池+化粪池化粪池D区排放口洋里污水处理厂A区排放口31.82B区排放口208.26C区排放口390.326D区排放口370.544合计1000.951177.15 图图 2.3-1 项目全厂水平衡图（项目全厂水平衡图（t/d）772.4 生产工艺流程及产污环节分析生产工艺流程及产污环节分析 项目生产工艺流程除在 C12#楼增加湿法金属化工段外，其余工艺均与现状相同。2.4.1 晶体制品生产工艺流程晶体制品生产工艺流程 晶体制品生产工艺流程包括晶体生长和晶体生产两个工序。其中晶体生长分为不规则生长和提拉式生长两种，提拉式晶体生长工艺流程及产污环节见图 2.4-215、1，不规则晶体生长工艺流程及产污环节见图 2.4-2，晶体制品生产工艺见如 2.4-3。图图 2.4-1 提拉式晶体生长工艺流程及产污环节图提拉式晶体生长工艺流程及产污环节图 提拉式晶体生长工艺流程说明：提拉式晶体生长工艺流程说明：提拉法的生长工艺首先将待生长的晶体的原料放在耐高温的坩埚中加热熔化，调整炉内温度场，使熔体上部处于过冷状态；然后在籽晶杆上安放一粒籽晶，让籽晶接触熔体表面，待籽晶表面稍熔后，提拉并转动籽晶杆，使熔体处于过冷状态而结晶于籽晶上，在不断提拉和旋转过程中，生长出圆柱状晶体。提拉式晶体生长产污环节：提拉式晶体生长产污环节：项目熔料工序为全密闭，且待炉体完全冷却后开炉，因此钒216、酸钇经加热又冷却后会产生五氧化二钒粘在炉壁，每天需对炉壁进行清洁，此过程会产生五氧化二钒；此外，每次生产不同晶体时均需要使用硫酸清洗坩埚，此过程会产生酸雾废气和危险废物废酸等，设备冷却采用循环冷却水进行冷却，循环水定期外排，产生循环冷却水尾水。毛细 配料 熔料 下晶种 晶体生长 包装 提拉 晶体出炉 晶体初检 晶体送检 设备循环冷却钒酸钇 78 图图 2.4-2 不规则晶体生长工艺流程及产污环节图不规则晶体生长工艺流程及产污环节图 不规则晶体生长工艺流程说明：不规则晶体生长工艺流程说明：将待生长的晶体的原料三氧化钼、硼酸、碳酸锂混合放在耐高温的坩埚中加热熔化，调整炉内温度场，使熔体上部处于过冷217、状态；然后在籽晶杆上安放一粒籽晶，让籽晶接触熔体表面，生长出不规则晶体。不规则晶体生长产污环节：不规则晶体生长产污环节：项目熔料工序为全密闭，且待炉体完全冷却后开炉，因此三氧化钼、硼酸、碳酸锂经加热又冷却后会产生废渣在炉壁，每天需对炉壁进行清洁，此过程会产生危险固体废物。上炉 配料 熔料 下晶种 晶体生长 包装 晶体出炉 晶体初检 晶体送检 设备循环冷却三氧化钼、硼酸、碳酸锂 79 图图 2.4-3 晶体制品生产工艺流程及产污环节图晶体制品生产工艺流程及产污环节图 工艺流程及产污环节说明：工艺流程及产污环节说明：(1)线切割：将生长好的晶体放置于切割机内，采用铜线进行切割，此过程需加水对其表面218、进行降温，此过程会产生切割废水。(2)切割：将铜线切割后的晶体进行进一步切割，切割需加入切削液，切削液循环使用不外排。(3)粗磨：使表面粗糙度及球面半径符合细磨要求，粗磨需加入新鲜水，此过程会产生粗磨废水。(4)清洗：清除表面颗粒粉尘及胶等残留物，部分需要用到有机溶剂的浸泡和超切 割 粗 磨 清 洗 抛 光 擦 拭 键 合 检 验 包 装 粗磨废水 清洗剂废水 有机废气 废清洗剂 有机废气 废擦拭纸 有机清洗剂、纯水 新鲜水 切削液 新鲜水 抛光液 抛光液 镀 膜 切削液 有机废气 废擦拭纸 线 切 割 生长好的晶体 切割废水 80声波清洗过程，此过程会产生废水、有机废气和废清洗剂。(5)抛光219、：在加工第一表面时，细磨到抛光过程xx般是不需拆盘的，即一次一盘完成。操作中，先使用粒度依次变细的三至四道金钢砂将被加工面研磨到抛光要求的表面粗糙度，然后清洗，进行抛光。抛光是用一定半径的抛光模加抛光粉进行。一面加工完毕后，涂上保护膜，翻面再进行上盘。细磨抛光加工第二表面。抛光液循环使用不外排。(6)擦拭：使用有机溶剂乙醇进行擦拭，擦拭将产生有机废气及擦拭废纸。(7)镀膜：对表面有透光要求的透镜，要加镀增透膜。球面反射镜要镀反射膜。有的还要镀其它性质的薄膜，依使用要求设计决定，镀膜是在真空条件下进行，将镜片放进镀膜机真空仓内，先抽真空，蒸镀、冷却，镀膜过程无废气产生。真空镀膜是利用膜材加热装置220、的热能将膜材加热蒸发，并在真空条件下，使膜材原子靠热运动而逸出膜材表面，并沉积到产品表面上的一种技术。主要是将镀件和膜材放入真空镀膜室内，被镀件首先安装在模具内，然后放置在真空镀膜室内的上方，而后放置在真空膜材经人工采用镊子放置在真空镀膜室内下方的坩埚内。然后通过热源(电阻或电子束)加热膜材进行镀膜。通常情况下加热温度为 150250之间，膜材的加热温度根据材料的不同有所变化，一般为 10006000之间，膜材加热蒸发通过热运动沉积在镀件表面，当达到设计的厚度时停止加热，降温至 30左右取样。项目生产过程使用的热源为电阻加热或是电子束加热。由于整个镀膜过程均在高真空密闭设备中进行，因此不会产生221、粉尘。同时项目镀膜过程每种膜材使用 1 个坩埚，不混合使用，剩余的膜材待下次镀膜时继续使用，无丢弃膜材。真空镀膜机中防污板在镀膜过程中也会被镀上膜，本项目定期对防污板上镀膜层进行清理，使用喷砂机加入白玉刚砂对镀膜层进行剥离，喷砂工序为全密闭的湿式喷砂，不产生粉尘。(8)键合：两片产品擦拭干净，靠光滑的平面互相粘合在一起。(9)检测：检测工序用到乙醇、乙醚等擦拭去除产品表面的印迹和水迹，此过程会产生有机废气、废擦拭纸。2.4.2 光纤类产品生产工艺流程光纤类产品生产工艺流程 光纤类产品分为三个部分，具体工艺流程图见图 2.4-4图 2.4-6。81(1)A 区光纤类产品生产工艺流程 图图 2.4222、-4 光纤类产品生产工艺流程及产污环节图光纤类产品生产工艺流程及产污环节图 工艺流程说明：拉锥：将两根（或两根以上）除去涂覆层的光纤以一定的方法靠拢，在高温加热下熔融，同时向两侧拉伸，最终在加热区形成双锥体形式的特殊波导结构，通过控制光纤扭转的角度和拉伸的长度，可得到不同的分光比例，最后把拉锥区用环氧树脂胶固化在石英基片上插入不锈铜管内，此工序会产生有机废气和废胶、废擦拭纸。氢氟酸刻蚀：部分产品需要用氢氟酸腐蚀光纤以减少光纤直径，此工序会产生氟化物废气、废酸和废擦拭纸。组装：将锥体光纤和输出光纤进行熔接，此工序会产生有机废气、擦拭纸和废胶。外观目视检查：显微镜下检查产品外观并在特定的位置施加环223、氧树脂胶，此工序会产生废胶。拉 锥 组 装 外观目视检查 封装钢管 测 试 包 装 环氧树脂胶 环氧树脂胶 环氧树脂胶 氢氟酸刻蚀(少部分产品)有机废气 废胶 废擦拭纸 氟化物废气 有机废气 废胶 废擦拭纸 有机废气 废胶 废擦拭纸 有机废气 废胶 废擦拭纸 环氧树脂胶 有机废气 废擦拭纸 光纤线 82 钢管封装：将产品套上钢管保护产品，此工序会产生有机废气、废胶及废擦拭纸。测试：测试产品的光学指标，此工序会产生有机废气和擦拭纸。包装：包装入库。(2)B 区光纤类产品生产工艺流程 图图 2.4-5 光纤类产品生产工艺流程及产污环节图光纤类产品生产工艺流程及产污环节图 工艺流程说明：原料铝材机械224、件和无色玻璃等先进行性能测试后，铝材机械件使用清洗剂和酒精进行清洗，无色玻璃使用乙醇、乙醚等有机溶剂进行擦拭清洁，而后将清洗干净的原料使用环氧树脂胶进行装配，最后经老化循环、成品检测、清洁后包装入库。产污环节：清洗工序会产生清洗废水、有机废气和废酒精；装配工序会产生有机废气和废胶；清洁工序和检测工序会产生有机废气和废擦拭纸。(3)C 区光纤类产品生产工艺流程 检测 装配 老化循环 成品清洁 清洗废水、有机废气、废酒精机械件清洗 原料 有机废气、废擦拭纸光学件清洁 有机废气、废胶检测 包装 有机废气、废擦拭纸有机废气、废擦拭纸 83 图图 2.4-6 光纤类产品生产工艺流程及产污环节图光纤类产品225、生产工艺流程及产污环节图 工艺流程说明：工艺流程说明：毛细管预处理：由于原料较小，单独粗磨不好操作，因此需将零散的原料用胶固定在夹具上，并将固定好的原料进行粗磨，将其磨成合适的厚度尺寸，此过程会产生粗磨废水、有机废气、废胶等；毛细管清洗：主要包含 7 道清洗，其中 4 道为清洗剂清洗、2 道为清水清洗以毛细管清洗 毛细管脱水 绕线 剥线 粗磨废水 有机废气 废胶 上 胶 烘 烤 检 验 清洗废水 有机废气 废酒精 上 盘 研 磨 清 洗 镀 膜 检 测 下 盘、包 装 有机废气 废酒精/废有机溶剂 有机废气 废胶 有机废气 粗磨废水 精磨废水 清洗废水 有机废气 废有机溶剂 有机废气 废擦拭纸226、 环氧树脂胶 环氧树脂胶 石英砂+纯水 清洗剂、酒精、纯水 酒精/偶联剂 边角料 切削液/抛光粉、新鲜水 清洗剂、纯水 毛细管预处理 84及 1 道酒精清洗，清洗剂、清水及酒精等约一周统一更换一次，此过程会产生废水、有机废气和废酒精等；毛细管脱水：主要使用酒精或偶联剂进行浸泡，以去除清洗过程可能产生的水泡，此过程会产生有机废气、废酒精、废有机溶剂；绕线和剥线：将光纤线采用绕线机绕成所需的形状，而后采用人工剥线，此过程会产生边角料。上胶和烘烤：主要使用环氧树脂胶，将已经预处理的毛细管和经剥线后的光纤线进行胶合，并放入烤箱中烘烤，烘烤温度约 100。此过程会产生有机废气、废胶等。上盘、下盘：上盘主227、要是将产品放置于夹具上以调整产品角度，下盘主要是将产品从夹具上取下来，此过程无污染物产生。研磨：主要包含粗磨和精磨，其中粗磨主要是在研磨机中加入新鲜水以切削液为介质，而精磨则是在研磨机中加入新鲜水以抛光粉为介质，对粗磨后的毛细管玻璃棒进行精磨处理。该工序不会产生粉尘，产生的细小玻璃屑随合成的粗磨废水、精磨废水。清洗：将研磨好的产品放入超声波清洗机中，用清洗剂、纯水将产品表面清洗干净，防止压刻。镀膜：根据产品需求，对产品进行镀膜。镀膜是在真空条件下进行，将产品放进镀膜机真空仓内，先抽真空，蒸镀、冷却，镀膜过程无废气产生。检测：将成品进行光学性能和外观确认，此过程需使用乙醇、乙醚等进行擦拭，会产生228、废擦拭纸和废有机溶剂。2.4.3 激光器件生产工艺流程激光器件生产工艺流程 激光器件生产工艺流程及产污环节详见图 2.4-7。图图 2.4-7 激光器件生产工艺流程及产污环节图激光器件生产工艺流程及产污环节图 备料 调试 焊接 装配密封 成品测试 有机废气、废胶 焊接烟气 有机废气、废胶 测试 老化循环 包装入库 有机废气、废擦拭纸 85工艺流程说明：各原料使用环氧树脂胶进行装配后进行调试，并使用检测设备对其性能进行检测，而后使用锡丝进行焊接，再经装配密封后送入设备间进行老化循环，提前筛选产品寿命，最后经测试合格后包装入库。产污环节：备料、装配密封工序产生的有机废气和废胶；焊接工序产生的焊接烟229、气；成品测试工序产生的有机废气和废擦拭纸。2.4.4 光学玻璃生产工艺流程光学玻璃生产工艺流程 本项目涉及的光学玻璃生产工艺有三大类，具体生产工艺流程及产污环节详见图2.4-8图 2.4-10。86 图图 2.4-8 光学玻璃生产工艺流程及产污环节图光学玻璃生产工艺流程及产污环节图 工艺流程说明：工艺流程说明：(1)切割：在切削机中加入水以切削液为介质，对外购来的玻璃毛坯件进行切割，主要目的是去除镜片表面凹凸不平的气泡和杂质，起到成型作用。切削液经沉淀后在切 割 粗 磨 抛 光 上 盘 下 盘 检 测 包 装 粗磨废水 抛光废水 切削液 石英砂、新鲜水 镀 膜 衬板 喷砂 切削液 有机废气 废230、擦拭纸 废玻璃屑、废切削泥 抛 光 抛光废水 抛光液、新鲜水 清 洗 清洗废水 有机废气 废酒精 清洗剂、酒精、纯水 切 割 切割废水 铣磨液/研磨液、新鲜水 检 测 检 测 乙醇、乙醚 有机废气 废擦拭纸 乙醇、乙醚 有机废气 废擦拭纸 乙醇、乙醚 抛光液、新鲜水 玻璃毛坯件 87设备内循环使用，含玻璃屑、切削液和切割油的切削泥作为危险固体废物。(2)粗磨：在粗磨机中加入水以石英砂为介质，对切割后的玻璃进行粗磨处理，使表面粗糙度及球面半径符合细磨要求，此过程会产生粗磨废水。(3)抛光：在抛光机中加入水以抛光液为介质，对粗磨后的玻璃进行抛光处理，此过程会产生抛光废水。(4)清洗：清除表面颗粒粉231、尘及胶等残留物，部分需要用到有机溶剂的浸泡和超声波清洗过程，此过程会产生清洗废水、有机废气和废有机溶剂等。(5)镀膜：对表面有透光要求的透镜，要加镀增透膜。球面反射镜要镀反射膜。有的还要镀其它性质的薄膜，依使用要求由设计决定。(6)检测：使用乙醇、乙醚等有机溶剂擦拭去除产品表面的印迹和水迹，此过程会产生有机废气、废擦拭纸等。88 图图 2.4-9 光学玻璃生产工艺流程及产污环节图光学玻璃生产工艺流程及产污环节图 工艺流程说明：工艺流程说明：(1)CNC 加工：将片料边缘进行倒角加工，满足客户指标；(2)钢化：玻璃化学强化，CS/DOL 等满足客户指标，提高玻璃强度；CNC 加抛 光 清 洗 曝232、 光 钢 化 包 装 抛光液、新鲜水烘 烤 丝网印清 洗 清洗废水碱性 清洗刻 蚀 喷 涂 检 测 有机废气乙醇、烘 烤 去 胶 冷却液CNC 废水 清洗废水 油墨/环氧 有机废气 废油墨抛光废水 镀 膜 衬板 喷砂 废胶 氟化液、稀释剂 碱性 清洗剂 镀 膜 涂胶 曝光 显影光刻胶有 机 废气 废胶 显影液光光刻 蚀湿法金属湿法金属化（化（C12镀 膜 去 胶 清 洗 氩去 胶废胶 切割 包 装 检 测 有机废气 乙醇、废胶 衬喷衬喷砂 清洗废水碱性 清洗氰化亚金钾氰化亚金钾 调整盐、开调整盐、开缸剂添加缸剂添加氯气、氩气、氧气、氮气、三氟甲烷、四氟化碳、六氟化硫有机废气 含氰废含氰废切 割233、 切削液 切削液 废玻璃屑 切削液 切削液 氯气 有机废气 89(3)镀膜：镀膜是在真空条件下进行，将镜片放进镀膜机真空仓内，先抽真空，蒸镀、冷却，镀膜过程无废气产生。(4)涂胶：在表面均匀涂上一层光刻胶，光刻胶主要由对光与能量非常敏感的高分子聚合物和有机溶剂组成，前者是光刻胶的主体，主要成分为酚醛树脂、丙二醇醚酯等，后者是光刻胶的介质，主要成分为丙酮等，由于光刻胶涂层很薄，为了使涂覆的光刻胶层绝对均匀，涂覆的方法是让基片旋转，光刻胶的涂敷是用转速和旋转时间可自由设定的匀胶机来进行的。首先，用真空吸引法将基片吸在匀胶机的吸盘上，将具有一定粘度的光刻胶滴在基片的表面，然后以设定的转速和时间匀胶。234、由于离心力的作用，光刻胶在基片表面均匀地展开，多余的光刻胶被甩掉并回收使用，会产生部分不可回用的废光刻胶，获得一定厚度的光刻胶膜，光刻胶的膜厚是由光刻胶的粘度和匀胶的转速来控制。涂胶过程中会有部分光刻胶被离心力带出基片，这些光刻胶由于纯度已不能达到工艺要求，因此只能作为废物处置。为了使光刻胶附着在外延片表面，涂胶后要进行软烤，在 80左右的烘箱中、惰性气体环境下烘烤 1530 分钟，去除光刻胶中的溶剂。光刻胶中的有机溶剂挥发成有机废气经有机废气收集系统收集处理，而光刻胶中的高分子聚合物作为涂层牢固地附着在基质的表面。(5)曝光：由于光刻胶对很窄的紫外光敏感，被光照射后会发生化学变化，很容易被显235、影液剂去除，而没有感光的光刻胶则不会被去除。曝光就是利用光刻胶的这种特性，使用曝光机、将事先设计好的光学图案通过掩模版以照像术透射到面板表面，使部分光刻胶得到光照，另外部分光刻胶得不到光照，从而改变光刻胶性质。(6)显影：显影是用显影液将感光的光刻胶去除，在光刻胶上形成了沟槽，使下面的产品表面的镀层暴露出来，以便于进行下一道工序；而没有感光的光刻胶则不会被清洗下来，从而使下面产品表面的镀层得以保护。(7)湿法金属化：引入先进湿法金属化：引入先进“金属湿化金属湿化”单台设备，液体完全封闭循环，本工段不产生废液，异常情况下产生的废液，须按危废处理，主要反应过程如下：单台设备，液体完全封闭循环，本工236、段不产生废液，异常情况下产生的废液，须按危废处理，主要反应过程如下：4 Au(s)+8CN(aq)+2H2O(l)+O2(g)4Au(CN)2(aq)+4OH(aq)Sn+6KOHK2SnO3+4K+4e-+3H2O Si+2KAu(CN)2+4KOH2Au+H2+K2SiO3+4KCN+H2O Si+K2SnO3Sn+K2SiO3 902AuCl4+3H2O22Au+3O2+8Cl+6H+由于氰化物参与反应，考虑产生少量含氰废气。由于氰化物参与反应，考虑产生少量含氰废气。(8)清洗：清洗主要使用碱性清洗剂，主要是清除产品表面颗粒、杂质等，表面洁净度达到客户需求；(9)丝网印刷和曝光：在产品表237、面印制需要的图案，并对只对使用环氧树脂胶进行丝网印刷的产品进行曝光固化；(10)烘烤：对印刷后的油墨烘烤，产生有机废气；(11)去胶：去胶以及产品表面初步处理，产生废胶；(12)刻蚀：利用惰性气体氩气进行刻蚀，对产品进行表面处理，起到疏水和耐磨作用；(13)喷涂：提高产品表面疏水和耐磨作用；(14)检测：检测产品外观缺陷、表面光洁度。抛 光 磨 边 检 测 清 洗 清 洗 抛光废水 抛光液、双氧水 清 洗 清洗废水 碱性废气 清 洗 氨水 碳化硅基片 有机清洗剂+异丙醇+双氧水 清洗废水 有机废气 包 装 检 测 氢氟酸+硫酸+盐酸 氨水+双氧水 清洗废水 酸性废气 清洗废水 碱性废气 不合格238、品 91 图图 2.4-10 光学玻璃生产工艺流程及产污环节图光学玻璃生产工艺流程及产污环节图 工艺流程说明：工艺流程说明：对碳化硅基片进行化学机械抛光和磨边，然后用按一定比例配比好的有机清洗剂、异丙醇、双氧水等对基片进行清洗，而后经检测后，再经三道清洗，并进行各类检测和测试合格后包装成成品。产污环节：产污环节：抛光工序会产生抛光废水；清洗会产生清洗废水、碱性废气和酸性废气；检测工序会产生不合格品；包装工序会产生废包装物。2.4.5 光栅产品生产工艺流程光栅产品生产工艺流程 光栅产品生产工艺流程及产污环节详见图 2.4-11。92 图图 2.4-11 光栅产品生产工艺流程及产污环节图光栅产品生239、产工艺流程及产污环节图 工艺流程说明：工艺流程说明：(1)擦拭：擦拭主要是在不破坏外基片表面特性的前提下，有效的使用酒精和乙涂胶 曝光 显影 镀膜 去膜 刻蚀 去胶 光刻胶 有机废气 废擦拭纸 废有机溶剂 包装 擦拭 基片 有机废气 废胶 废显影液 显影液 光刻光刻切割 防污板 喷砂 显影液 废显影液 氦气、六氟化硫、氩气、氧气、氯气、三氟甲烷 含氯废气 检测 清洗 新鲜水 有机废气 废有机溶剂 清洗剂 有机废气 废擦拭纸 上盘 切割废水 清洗废水 纯水 93醚调配的有机溶剂对基片表面各种残留污染物进行清除。(2)涂胶：清洗后的基片需先在表面均匀涂上一层光刻胶，光刻胶主要由对光与能量非常敏感的240、高分子聚合物和有机溶剂组成，前者是光刻胶的主体，主要成分为酚醛树脂、丙二醇醚酯等，后者是光刻胶的介质，主要成分为丙酮等，由于光刻胶涂层很薄，为了使涂覆的光刻胶层绝对均匀，涂覆的方法是让基片旋转，光刻胶的涂敷是用转速和旋转时间可自由设定的匀胶机来进行的。首先，用真空吸引法将基片吸在匀胶机的吸盘上，将具有一定粘度的光刻胶滴在基片的表面，然后以设定的转速和时间匀胶。由于离心力的作用，光刻胶在基片表面均匀地展开，多余的光刻胶被甩掉并回收使用，会产生部分不可回用的废光刻胶，获得一定厚度的光刻胶膜，光刻胶的膜厚是由光刻胶的粘度和匀胶的转速来控制。涂胶过程中会有部分光刻胶被离心力带出基片，这些光刻胶由于纯度241、已不能达到工艺要求，因此只能作为废物处置。为了使光刻胶附着在外延片表面，涂胶后要进行软烤，在 80左右的烘箱中、惰性气体环境下烘烤 1530 分钟，去除光刻胶中的溶剂。光刻胶中的有机溶剂挥发成有机废气经有机废气收集系统收集处理，而光刻胶中的高分子聚合物作为涂层牢固地附着在基质的表面。(3)曝光：由于光刻胶对很窄的紫外光敏感，被光照射后会发生化学变化，很容易被显影液剂去除，而没有感光的光刻胶则不会被去除。曝光就是利用光刻胶的这种特性，使用曝光机、将事先设计好的光学图案通过掩模版以照像术透射到面板表面，使部分光刻胶得到光照，另外部分光刻胶得不到光照，从而改变光刻胶性质。(4)显影：显影是用显影液将242、感光的光刻胶去除，在光刻胶上形成了沟槽，使下面的产品表面的镀层暴露出来，以便于进行下一道工序；而没有感光的光刻胶则不会被清洗下来，从而使下面产品表面的镀层得以保护。显影后的显影液将变为废显影液。(5)镀膜：镀膜是在真空条件下进行，将镜片放进镀膜机真空仓内，先抽真空，蒸镀、冷却，镀膜过程无废气产生。(5)去膜：将镀膜后的基片浸泡至显影液内。去膜后显影液被污染将产生废显影液。(6)刻蚀：本项目刻蚀即气体刻蚀，反应气主要有六氟化硫、氩气、氯气、三氟甲烷，Cl2、SF6、CHF3刻蚀原理是在射频作用下产生高能等离子体，同 InP反应达到刻蚀效果，生成挥发性的 InClx、N2，生成的挥发性氯化铟等被泵243、抽离反应腔体；氩 94主要是物理轰击功效，同时 Cl2、SF6、CHF3也有物理轰击功效。因此气体刻蚀步骤产生的大气污染物有氯化物和氟化物（未完全反应的 BCl3和反应生成的 InClx），Cl2（未完全反应的）。结合排放标准及排放量，气体刻蚀步骤的大气污染物考虑 Cl2。(7)上盘：烤盘加热 70-90，玻璃垫片涂上热胶上入硅片，在硅片上涂上热胶，把画好线的产品上入硅片上，待热胶完全冷却后在高精度测角仪上上好靠体，在放入紫外固化箱固化 0.5H，在涂上保护漆，待保护漆完全凝固后送切割。(8)切割：切割将产生切割废水(9)去胶和清洗：经刻蚀完成图形复制以后，需将基片表面的光刻胶去除，去胶步骤为244、：先将基片浸泡在装有 stripper 和 NMP 的 1.5L 容器中，浸泡 5min，然后放入丙酮、异丙醇等有机溶剂按一定比例配制溶液清洗槽中进一步去除基片表层的光刻胶，去胶后再放入冲洗槽进行清洗。(9)检测：使用乙醇、乙醚等有机溶剂擦拭去除产品表面的印迹和水迹，此过程会产生有机废气、废擦拭纸等。2.4.6 全厂产污环节分析全厂产污环节分析 本项目各类产品产污环节分析详见表 2.4-1。表表 2.4-1 主要产污环节一览表主要产污环节一览表 产品 污染因素 污染源名称 产污环节 主要污染因子 晶体制品 废水 循环冷却水尾水 提拉式晶体生长 溶解性总固体 切割废水 线切割 悬浮物 粗磨废水 245、粗磨 悬浮物 清洗废水 清洗 清洗剂 废气 酸雾废气 提拉式晶体生长 硫酸雾 有机废气 清洗 挥发性有机物 有机废气 擦拭、检验 乙醇等 固体废物 炉壁废渣 提拉式晶体生长 五氧化二钒 废酸 提拉式晶体生长 硫酸 炉壁废渣 不规则晶体生长 三氧化钼、硼酸、碳酸锂 废清洗剂 清洗 废清洗剂 废擦拭纸 擦拭、检验 废擦拭纸 光纤类产品生产（A区）废气 有机废气 拉锥、组装、外观目视检查、封装钢管环氧树脂中的挥发性有机物 有机废气 测试、包装 乙醇、乙醚等有机溶剂 刻蚀废气 刻蚀 氢氟酸 95产品 污染因素 污染源名称 产污环节 主要污染因子 固废 废胶 拉锥、组装、外观目视检查、封装钢管环氧树脂 246、废擦拭纸 拉锥、组装、外观目视检查、封装钢管、测试、包装 乙醇、乙醚等有机溶剂 光纤类产品生产（B区）废气 有机废气 机械件清洗、光学件清洗 乙醇 有机废气 装配 环氧树脂中的挥发性有机物 有机废气 成品清洁 乙醇、乙醚等有机溶剂 废水 清洗废水 机械件清洗 乙醇等 固废 废酒精 机械件清洗 乙醇等 废擦拭纸 光学件清洗 乙醇等 废胶 装配 废胶 废擦拭纸 成品清洁 乙醇、乙醚等有机溶剂 光纤类产品生产（C区）废气 有机废气 毛细管预处理 环氧树脂中的挥发性有机物 有机废气 毛细管清洗 乙醇 有机废气 上胶、烘烤 环氧树脂中的挥发性有机物 有机废气 检测 乙醇、乙醚等有机溶剂 废水 粗磨废水 247、毛细管预处理 有机物、悬浮物 清洗废水 毛细管清洗 清洗剂、酒精 研磨废水 研磨 悬浮物等 清洗废水 清洗 清洗剂 固废 废胶 毛细管预处理、上胶废胶 废有机溶剂 毛细管清洗 废酒精等有机溶剂 边角料 剥线 边角料 废擦拭纸 检测 乙醇、乙醚等有机溶剂 激光器件生产 废气 有机废气 备料 环氧树脂胶中的有机物 焊接烟气 焊接 含锡烟尘 有机废气 装配密封 环氧树脂胶中的有机物 有机废气 成品检测 乙醇、乙醚等有机溶剂 固废 废胶 备料 废胶 废胶 装配密封 废胶 废擦拭纸 成品检测 乙醇、乙醚等有机溶剂 光学玻璃生产工艺 废气 有机废气 检测 乙醇、乙醚等有机溶剂 有机废气 清洗 乙醇 废水 248、粗磨废水 粗磨 悬浮物 抛光废水 抛光 悬浮物、抛光液 清洗废水 清洗 乙醇等有机物 96产品 污染因素 污染源名称 产污环节 主要污染因子 切割废水 切割 悬浮物、研磨液 固废 废切削泥 切削 废切削液、玻璃屑 废玻璃屑 切割 废玻璃屑 废擦拭纸 检测 乙醇、乙醚等有机溶剂 废酒精 清洗 废酒精 光学玻璃生产工艺 废气 有机废气 丝网印刷、曝光 油墨、环氧树脂胶中的挥发性有机物有机废气 烘烤 油墨、环氧树脂胶中的挥发性有机物有机废气 检测 乙醇、乙醚等有机溶剂 有机废气 光刻 丙酮等 含氯废气 刻蚀 Cl2和氟化物 含氰废气 湿法金属化 氰化物 废水 CNC 废水 CNC 加工 冷却液 抛光249、废水 抛光 抛光液 清洗废水 清洗 碱性清洗剂 固废 废玻璃屑 切割 废玻璃屑 废油墨 丝网印刷、曝光 废油墨、废胶 废胶 去胶 废胶 废擦拭纸 检测 乙醇、乙醚等有机溶剂 废光刻胶 光刻涂胶 废光刻胶 废显影液 光刻显影 废显影液 湿法金属化废液（异常时产生）湿法金属化 KCN、K2SiO3、Cl等 光学玻璃生产工艺 废气 有机废气 清洗 异丙醇等有机溶剂 碱性废气 清洗 氨 酸性废气 清洗 氢氟酸、硫酸、盐酸 废水 抛光废水 抛光 抛光液 清洗废水 清洗 有机清洗剂 清洗废水 清洗 氢氟酸、硫酸、盐酸、氨 固废 不合格产品 检测 不合格产品 光栅产品 废气 有机废气 擦拭 酒精、乙醚 有机250、废气 光刻 丙酮等 废气 刻蚀 含氯废气 有机废气 去胶 丙酮、异丙醇等有机溶剂 有机废气 检测 乙醇、乙醚等有机溶剂 废水 切割废水 切割 悬浮物 清洗废水 清洗 悬浮物 固废 废光刻胶 光刻涂胶 废光刻胶 97产品 污染因素 污染源名称 产污环节 主要污染因子 废显影液 光刻显影 废显影液 废显影液 去膜 废显影液 废有机溶剂 去胶 丙酮、异丙醇等有机溶剂 废擦拭纸 检测 乙醇、乙醚等有机溶剂 环保设施 废水 硫酸雾水喷淋废水 A 区废气治理装置硫酸 水喷淋及碱液吸收废水 C 区废气治理装置碱液、有机物 水喷淋及碱液吸收废水 D 区废气治理装置氨、碱液等 固废 废活性炭 活性炭吸附 有机物251、 废干式滤料 干式滤料吸附 氯 废紫外灯 UV 装置 紫外灯 污水处理站污泥 絮凝沉淀、生化等污泥 污泥 废油脂 气浮产生的废油脂油脂 98 2.5 与项目有关的原有环境污染问题与项目有关的原有环境污染问题 2.5.1 现有工程污染防治措施及达标排放情况现有工程污染防治措施及达标排放情况 现有工程污染物主要包括废水、噪声及固废等，本评价主要根据现有工程环境影响报告表、验收报告及常规监测数据等，对现有工程的污染物排放情况进行分析。2.5.1.1 废水废水 本项目生产废水主要为切割/粗磨/抛光废水、清洗废水、酸碱废水，切割/粗磨/抛光废水、清洗废水经絮凝沉淀，酸碱废水经中和，含油废水经除油预处理后252、与经化粪池处理后的生活污水从各区排放口排出。厂区分为 A、B、C、D 四个区，每个区均有单独的排放口接入市政污水管网，根据公司近期自行委托检测结果，A、B、C、D区各总排口监测结果如下：表表 2.5-1 各排放口废水现状监测结果各排放口废水现状监测结果 厂区区域 监测日期 监测类型 COD BOD5石油类 动植物油 SS pH mg/L mg/L mg/L mg/L mg/L 无量纲A 区 20220104 委托监测 286 96.7 1.64 2.1 15 7.4 20220209 委托监测 197 66.3 0.48 1.11 57 7.2 20220303 委托监测 133 46.7 0253、.58 1.27 60 7.1 20220415 委托监测 195 58.8 0.58 1.96 113 7.2 20220507 委托监测 209 64.2 0.76 1.97 45 7.2 20220704 委托监测 127 61.7 0.56 6.58 91 7.2 B 区 20210423 委托监测 164 55 1.61 4.92 70 6.75 20220507 委托监测 315 94.8 0.41 4.52 112 7.4 C 区 20220303 委托监测 115 39.8 1.58 8.7 245 7.2 20220415 委托监测 328 114 1.09 7.73 68 254、7.2 20220507 委托监测 356 130 1.19 7.03 210 7.3 20220606 委托监测 385 142 1.96 13.9 128 7.4 20220704 委托监测 320 90.1 0.97 18.8 131 7.3 D 区 20210423 委托监测 63 21.3 0.85 1.56 11 6.94 20220507 委托监测 174 52.8 0.73 0.54 41 7.2 标准限值/500 300 20 100 400 6.0-9.0 根据监测结果可知，现有工程废水经处理后均能够满足 GB39731-2020电子工业水污染物排放标准表 1 间接排放限值255、及 GB8978-1996污水综合排放标准表 4三级标准（氨氮参考 GB/T31962-2015污水排入城镇下水道水质标准中 B 等级的最高允许值的排放要求）中的要求。992.5.1.2 废气废气 生产废气主要来自生产过程中擦拭清洗抛光各种晶体所使用的乙醇乙醚混合液的挥发，此外在配胶工序也有少量的工艺废气产生，根据现有废气处理措施调查，A区、B 区废气收集系统已建，废气处理设施还未建成，C 区仅 C8 楼顶楼南侧：非甲烷总烃经水淋+UV+活性炭吸附经 DA010 排气筒（30m）排放措施已建，其余楼栋有机废气收集系统已建，废气处理措施未建；D 区废气处理措施已建，目前 D 区项目还为试生产；因256、此建设单位仅对 C8 楼顶排气筒进行了委托监测。2022 年委托监测结果见表 2.5-2。表表 2.5-2 现有工程有组织废气排放监测结果一览表现有工程有组织废气排放监测结果一览表 监测点位 监测时间 非甲烷总烃（mg/L）流量（m3/h）排放速率（kg/h）C8 排气筒（DA010）20220104 18.1 40800 0.74 20220415 21.1 42100 0.93 20220704 20.1 44600 0.89 根据监测结果可知，现有工程 C8 楼废气经处理后，非甲烷总烃有组织排放能够满足 DB35/1782-2018工业企业挥发性有机物排放标准表 1 限值要求。2.5.1257、.3 噪声噪声 现有工程高噪声的生产设备主要集中于粗磨等前处理工序和镀膜工序，噪声在75-90dB（A）之间，项目选用低噪声设备，并采取墙体隔声；并加强设备日常维护，维持设备处于良好的运转状态。引用xxxx通讯有限公司于 2021 年 12 月 21 日委托xx省煤炭工业环境监测中心站对项目厂界噪声进行监测。根据现场监测可知，A、B、C 区厂界临福兴东路、福兴大道一侧厂界噪声均可达到工业企业厂界环境噪声排放标准(GB12348-2008)中 4 类标准，其他各厂界噪声均可达到工业企业厂界环境噪声排放标准(GB12348-2008)中 3 类标准，现有工程噪声排放情况详见表 2.5-3。表表 2258、.5-3 厂界噪声监测结果一览表厂界噪声监测结果一览表 单位：单位：dB(A)监测 编号 监测点位 昼间 LeqdB(A)夜间 LeqdB(A)标准值 12 月 14 日 12 月 15 日12 月 14 日12 月 15 日 昼间(dB)夜间(dB)1#A 区 项目东侧64 64 54 54 70 55 2#项目南侧63 63 53 53 65 55 3#项目西侧64 64 53 53 65 55 100监测 编号 监测点位 昼间 LeqdB(A)夜间 LeqdB(A)标准值 12 月 14 日 12 月 15 日12 月 14 日12 月 15 日 昼间(dB)夜间(dB)4#项目北侧63259、 63 54 54 65 55 5#B 区(南)项目东侧58 58 53 53 65 55 6#项目南侧64 64 54 53 65 55 7#项目西侧64 64 53 53 65 55 8#项目北侧57 57 51 51 65 55 9#B 区(北)项目东侧59 59 54 54 65 55 10#项目南侧62 62 53 52 65 55 11#项目西侧63 63 54 54 65 55 12#项目北侧59 59 52 52 65 55 13#C 区 项目东侧64 64 53 53 70 55 14#项目南侧59 59 53 53 65 55 15#项目西侧62 62 52 52 65 5260、5 16#项目北侧63 63 52 53 70 55 根据监测结果可知，厂界所监测昼夜噪声均符合工业企业厂界环境噪声排放标准（GB12348-2008）3 类及 4 类标准要求。2.5.1.4 固体废物固体废物 现有工程该公司生产过程产生的固废主要包括颗粒砂和抛光粉沉淀物、污水处理污泥、废玻璃边角料、纯水处理树脂、包装材料、报废设备、电子设备、炉壁废渣、废玻璃屑等。危险废物主要为生产性固废委托专业厂家进行回收处理。生活垃圾经统一收集后委托环卫部门统一处理。表表 2.5-4 现有工程一般固体废物产生情况一览表现有工程一般固体废物产生情况一览表 名称 废物类别 代码 产生量(t/a)产生环节产废周261、期 利用处置 方式 颗粒砂和抛光粉沉淀物 污泥 SW07 87 生产线 每天 综合利用 无机废水污泥 无机废水污泥 SW07 15 废水站 每周 综合利用 有机废水污泥 有机废水污泥 SW07 5 废水站 每月 综合利用 废玻璃边角料 可再生类废物 SW17 129.4 生产线 每天 综合利用 纯水处理树脂 其他废物 SW59 5.5 辅助设备每天 综合利用 包装材料 废包装 SW17 12 生产线 每天 综合利用 报废设备 废机械产品 SW59 5 生产线 每年 综合利用 电子设备 废电器电子产品 SW59 0.5 生产线 每年 综合利用 炉壁废渣 其他废物 SW59 1.2 生产线 每年 262、综合利用 注：根据一般工业固体废物管理台账制定指南进行编码。101 表表 2.5-5 现有危险废物产生情况一览表现有危险废物产生情况一览表 产生工序 公司废物编号及名称 危废代码 危险特性 产生量（t/a）处理方式原料储存 失效药品 HW03(900-002-03)T 0.015 委托资质单位处理打磨 废油及油渣 HW08(900-249-08)T、I 4.7195 切割 油/水混合物、切削铣磨液、乳化液废液 HW09（900-006-09）T 0 配胶 废弃的胶、松香、蜂蜡等胶物 HW13（900-014-13）T 0.11 氢氟酸刻蚀 使用氢氟酸进行刻蚀产生的刻蚀废液 HW32(900-0263、26-32)T、C 1.032 酸洗 废酸液 HW34(900-300-34)C、T 0.2385 失效碱剂 氢氧化钠，氢氧化钾 HW35(900-399-35)C、T 0.7375 清洗 废有机溶剂 HW06(900-404-06)T、I、R142.6015 擦拭 废油抹布、粘胶擦拭物、胶瓶 HW49(900-041-49)T/In 17.979 废气处理 废活性炭 HW49(900-039-49)T 合计 167.433 注：数据来源于 2021 年危废管理台账，废油墨及废显影液、废活性炭由于产生量较少，2021 年暂存于车间，计入 2022 年台账。2.5.2 现有工程污染物实际排放量现264、有工程污染物实际排放量 2.5.2.1 废气废气 由于原环评xxxx光学有限公司光学器件项目未定量计算废气排放量，xx高意光学有限公司扩建项目环境影响报告表环评批复未给出全厂废气允许排放量情况，且现有工程环保措施相对于原环评发生部分变化，因此，原环评文件中的废气排放情况不足以反映本项目现状，大多数环保设施处于收集系统已建而处理系统在建状态，未进行实际监测，因此本次环评根据原辅材料使用量对污染物现状排放情况进行重新核定。1 污染源强 本项目运营期产生的废气主要为酸性废气、碱性废气、含氰废气、有机废气、焊接烟尘以及食堂油烟等。(1)酸性、碱性废气 本项目酸性废气主要来自酸清洗工序，碱性废气主要来自265、碱清洗工序。酸/碱清洗 102A 晶体生产时，在每次生产不同晶体时均需要使用硫酸清洗坩埚，清洗过程会产生酸性气体，主要为硫酸雾。B 部分光学玻璃产品在 SIC 车间生产时需使用氢氟酸、盐酸、硫酸、氨气等进行清洗，清洗过程会产生酸性气体和碱性气体，其中酸性气体主要为氯化氢、硫酸雾和氟化氢，碱性气体主要为氨气。C 部分光学玻璃产品在光学玻璃车间生产时需使用硫酸，清洗过程会产生酸性气体，主要为硫酸雾。本项目酸性气体、碱性气体挥发量采用 环评统计手册 中的液体蒸发量的计算，本计算方法适用于氢氟酸、硫酸、盐酸、氨水等酸洗工艺中的酸液蒸发量与其他液体蒸发量的计算，其计算公式如下：Gz=M（0.000352266、+0.000786V）PF 式中，Gz液体的蒸发量，kg/h；M液体的分子量；V蒸发液体表面上的空气流速，m/s，以实测数据为准，无条件实测时，一般可取 0.2-0.5，本项目清洗操作均位于密闭车间内，取 0.2m/s；P相应于液体温度下的空气中的蒸气分压力，mmHg。项目使用的硫酸浓度为 75%，盐酸浓度为 37%，氢氟酸浓度 49%。根据化学化工物性数据手册中的数据，本项目中使用的对应浓度硫酸、盐酸、氢氟酸蒸汽分压力在 25下的数据分别取，4.5mmHg、52.1mmHg、31mmHg；根据氨水溶液的氨蒸气压和水蒸气压计算式中的数据，项目使用的 37%浓度的氨水在 25下的蒸汽分压力为 2267、27mmHg。F液体蒸发面的表面积，m2。项目单台清洗机液体蒸发表面积0.01m2，计算以 0.01m2计。其中提拉车间（A 区 2#楼）共有清洗机 2 台，蒸发表面积以 0.02m2计，C 区光学玻璃车间（C2#）清洗机 2 台，蒸发表面积以 0.02m2计；SIC 车间（D 区 2#楼）共有喷酸清洗机 4 台，喷酸蒸发表面积以 0.04m2计，氨水清洗方式为批次清洗系统清洗，蒸发表面积以 0.05m2计。103表表 2.5-6 酸性气体产生情况一览表酸性气体产生情况一览表 车间 参数 分子量M 空气流速 V 蒸气分压力 P蒸发面表面积F 蒸发量 G/m/s mmHg m2 kg/h 提拉 268、车间 硫酸 98 0.2 4.5 0.02 0.0045 光学玻璃车间 硫酸 98 4.5 0.02 0.0045 SIC 车间 硫酸 98 4.5 0.04 0.0090 盐酸 36.5 52.1 0.04 0.0387 氢氟酸 20 31 0.04 0.0126 氨水 17 227 0.05 0.0983 经过计算可得，项目提拉车间清洗工序酸性气体产生量为硫酸雾 0.0045kg/h，SIC车间清洗工序酸性/碱性气体的产生量为硫酸雾 0.0090kg/h、氯化氢 0.0387kg/h、氟化氢 0.0126kg/h、氨气 0.0983kg/h。车间内酸性废气经独立收集管路收集后输送至酸性废气269、填料吸收塔后通过 15m 高排气筒排放，碱性废气经独立收集管路收集后输送至碱性废气填料吸收塔后通过 15m 高排气筒排放。湿法刻蚀：少部分光纤类产品生产时，需使用氢氟酸进行湿法刻蚀，主要位于A 区 5#楼，主要污染物为氟化物。根据类比同类型企业，氢氟酸刻蚀过程废气挥发率约占使用量（0.001t/a）的 2%，则氟化物产生量约为 0.00002t/a。刻蚀工序在密闭车间内进行，车间内酸性废气经独立收集管路收集后通过 15m 高排气筒排放。干法刻蚀：干法刻蚀过程主要是通入氦气、六氟化硫、氩气、氧气、氯气、三氟甲烷等，主要位于 C 区 11#楼和 C 区 12#楼，产生的废气污染物主要为氯气。针对氯270、气排放按最不利情况，考虑全部挥发，根据建设单位提供资料可知，C 区11#楼和 12#楼氯气用量分别为 0.01t/a、0.04t/a，则氯气产生量分别为 0.01t/a、0.04t/a，氯气集中收集后通过 25m 高排气筒排放，氯气柜为全密闭，收集效率按 100%考虑。小结 综上所述，本项目酸性/碱性废气分别经酸性/碱性废气填料吸收塔处理后高空排放，废气处理效率约为 90%，具体产排情况见表 2.5-7。104表表 2.5-7 本项目酸性、碱性废气有组织产排情况一览表本项目酸性、碱性废气有组织产排情况一览表 区域 污染物 风量(mg/m3)产生情况 治理设施 处理 效率(%)排放情况 排放 时271、间(h)产生浓度(mg/m3)产生速率(kg/h)产生量(t/a)排放浓度(mg/m3)排放速率(kg/h)排放量(t/a)A 区 2#楼 硫酸雾 1000 4.500 0.0045 0.0162 硫酸雾经水喷淋填料吸收塔+15m 排气筒DA001 排放 0 4.500 0.0045 0.0162 3600 A 区 5#楼 氟化物 1000 0.006 5.5610-6 0.00002收集后+15m 排气筒DA005 排放 0 0.006 5.5610-6 0.00002 C 区 2#楼 硫酸雾 1000 4.500 0.0045 0.0162 硫酸雾经水喷淋填料吸收塔+15m 排气筒DA00272、8 排放 0 4.500 0.0045 0.0162 C 区 11#楼 氯气 1000 2.778 0.028 0.0100 干式滤料吸附+25m 高DA012 排气筒 0 2.778 0.028 0.0100 C 区 12#楼 氯气 1000 11.111 0.0111 0.0400 干式滤料吸附+25m 高DA013 排气筒 0 11.111 0.0111 0.0400 D 区 2#楼（两套设备处理后经同一排气筒排放）硫酸雾 5000 1.800 0.0090 0.0324 硫酸雾、氯化氢、氟化氢经一套水（加入少量氢氧化钠）喷淋填料吸收塔吸收，氨气经另一套水喷淋填料吸收塔吸收后统一经 40273、m 排气筒 DA017 排放 90 0.05 0.0009 0.0032 氯化氢 7.740 0.0387 0.139 0.23 0.0039 0.0139 氟化氢 2.520 0.0126 0.0454 0.08 0.0013 0.0045 氨气 12000 8.192 0.0983 0.3539 90 0.58 0.0098 0.0354 105(3)有机废气 本项目有机废气包括清洗有机废气、光刻有机废气、擦拭有机废气等。清洗工序有机废气 本项目清洗过程需使用酒精、异丙醇、丙酮或有机清洗剂，此过程会挥发有机废气，以非甲烷总烃计，根据建设单位提供资料可知，以上清洗剂基本最终以危废形式排放，A274、B、C 挥发量约按 20%考虑；D 区由于均为密闭空间操作，挥发量较少，根据建设单位提供资料可知，D 区由于为密闭空间操作，有机溶剂绝大部分存在于危废中，挥发量按 1%考虑。本项目各区域使用的酒精、异丙醇、丙酮或有机清洗剂的情况及有机废气产生情况详见表 2.5-8。表表 2.5-8 清洗工序有机废气产生情况清洗工序有机废气产生情况 单位：单位：t/a 区域 具体位置 使用量 合计 使用量 非甲烷总烃 产生量 酒精 丙酮 异丙醇 有机清洗剂 A 区 2#楼 1 层 0.260/0.260 0.052 2#楼 2 层 0.179/0.480 0.200 0.859 0.172 3#楼 1 层 0275、.280/0.280 0.056 3#楼 3 层 0.160/0.160 0.032 4#楼 1 层 0.200/0.110 0.001 0.311 0.062 4#楼 2 层 0.253/0.001 0.001 0.255 0.051 4#楼 3 层 0.001/0.001 0.0002 5#楼 1 层 0.160 0.180 6.640 0.840 7.820 1.564 5#楼 3 层 0.007/0.007 0.0014 小计小计 1.500 0.180 7.231 1.042 9.953 1.9906 B 区 3#楼 1 层 0.080/0.317/0.397 0.079 3#楼 2276、 层 0.590 0.00050.160 0.420 1.171 0.234 3#楼 3 层 2.346/0.821 16.525 19.692 3.938 3#楼南楼 2 层 3.333/0.600/3.933 0.787 4#楼 1 层 0.505/0.600 1.105 0.221 4#楼 3 层 0.001/0.0002/0.001 0.0002 小计小计 6.855 0.00050.1898217.545 26.299 5.2597 C 区 2 楼#1 层 1.263/0.384 0.300 1.947 0.389 2#楼 2 层 4.365/0.966 1.920 7.251 1.277、450 3#楼 1 层 0.007 0.001 1.905 2.660 4.573 0.915 4#楼 1 层 0.040/0.190 0.968 1.198 0.240 5#楼 2 层 0.003/0.024 1.920 1.947 0.389 1068#楼 1 层 0.008 4.800 0.838 15.663 21.309 4.262 8#楼 2 层 0.902/0.902 0.180 8#楼 3 层 1.518/1.518 0.304 8#楼 4 层 4.476/0.070 7.580 12.126 2.425 11#楼 1 层 3.113/0.202/3.315 0.663 11#278、楼 2 层 0.005/0.005 0.001 12 楼#1 层 0.667/0.667 0.133 小计小计 16.367 4.801 4.579 31.011 56.758 11.352 D 区 2#楼 2 层/15.2 15.2 30.4 0.304 小计小计/15.2 15.2 30.4 0.304 合计合计 24.722 27.2 64.798 123.40 18.9 擦拭工序有机废气 本项目在各产品生产过程中均需采用酒精、乙醚等对半成品、成品等进行擦拭，其过程会挥发一定的有机废气，以非甲烷总烃计，考虑到酒精和乙醚均为易挥发物质，因此，挥发量按 100%考虑，本项目各区酒精和乙醚年使279、用量及产生情况详见表 2.5-9。表表 2.5-9 擦拭工序有机废气产生情况擦拭工序有机废气产生情况 单位：单位：t/a 区域 具体位置 使用量 合计使用量 非甲烷总烃 产生量 酒精 乙醚 A 区 2#楼 1 层 0.130/0.130 0.130 2#楼 2 层 0.090 0.240 0.330 0.330 3#楼 1 层 0.130 0.030 0.160 0.160 3#楼 3 层 0.080/0.080 0.080 4#楼 1 层 0.100 0.130 0.230 0.230 4#楼 2 层 0.126 2.000 2.126 2.126 4#楼 3 层 0.001 0.001 0280、.002 0.002 5#楼 1 层 0.080/0.080 0.080 5#楼 3 层 0.003 0.010 0.013 0.013 小计小计 0.740 2.411 3.151 3.151 B 区 3#楼 1 层 0.040 0.018 0.058 0.058 3#楼 2 层 0.295 0.930 1.225 1.225 3#楼 3 层 1.173 2.110 3.283 3.283 3#楼南楼 2 层 1.667 2.500 4.167 4.167 4#楼 1 层 0.252 0.343 0.595 0.595 4#楼 3 层 0.001 0.001 0.002 0.002 小计小计281、 3.428 5.902 9.330 9.330 107区域 具体位置 使用量 合计使用量 非甲烷总烃 产生量 酒精 乙醚 C 区 2 楼#1 层 0.631 1.928 2.559 2.559 2#楼 2 层 2.182 6.790 8.972 8.972 3#楼 1 层 0.003/0.003 0.003 4#楼 1 层 0.020 0.036 0.056 0.056 4#楼 2 层 0.002/0.002 0.002 5#楼 2 层 0.004 0.168 0.172 0.172 8#楼 1 层 0.451 0.421 0.872 0.872 8#楼 2 层 0.759 1.603 2.282、362 2.362 8#楼 3 层 2.238 4.647 6.885 6.885 8#楼 4 层 1.556 2.195 3.751 3.751 11#楼 1 层 0.003/0.003 0.003 11#楼 2 层 0.333 0.500 0.833 0.833 12 楼#1 层 0.195 0.120 0.315 0.315 小计小计 8.377 18.408 26.785 26.785 合计合计 12.545 26.712 39.266 39.266 组装工序废气 本项目在生产过程中需使用环氧树脂胶等对零部件进行组装、装配，其过程会挥发一定的有机废气，以非甲烷总烃计，本项目环氧树脂胶挥283、发分含量为 510%，挥发分（按最大 10%计）使用过程全部挥发，以非甲烷总烃计，则装配工序非甲烷总烃产生量详见表 2.5-10。表表 2.5-10 组装工序有机废气产生情况组装工序有机废气产生情况 单位：单位：t/a 区域 具体位置 环氧树脂胶使用量 非甲烷总烃产生量 A 区 4#楼 1 层 0.011 0.011 4#楼 2 层 0.012 0.012 4#楼 3 层 0.0005 0.0005 5#楼 3 层 0.0005 0.0005 小计小计 0.024 0.024 B 区 3#楼 2 层 0.033 0.033 3#楼 3 层 0.050 0.050 4#楼 3 层 0.002 0284、.002 小计小计 0.085 0.085 C 区 2 楼#2 层 0.020 0.020 108区域 具体位置 环氧树脂胶使用量 非甲烷总烃产生量 3#楼 1 层 0.001 0.001 8#楼 1 层 0.0005 0.0005 8#楼 2 层 0.0005 0.0005 8#楼 3 层 0.0005 0.0005 8#楼 4 层 0.058 0.058 11#楼 1 层 0.440 0.440 小计小计 0.5205 0.5205 合计合计 0.6295 0.6295 因此，本项目各栋设置有机废气处理设施，同栋楼产生的清洗、擦拭及组装工序有机废气可经集中收集后分别经各栋相应废气处理设施处285、理后高空排放，本项目均在洁净车间内进行生产，车间为微负压，收集效率按 98%计，则结合表 2.3-11 主要环保设施配套情况，本项目有机废气具体采取的措施及其产排情况见表 2.5-11 和表 2.5-12。109表表 2.5-11 本项目有组织废气产生及排放情况表本项目有组织废气产生及排放情况表 区域 污染物 风量(m3/h)产生情况 治理设施 处理效率(%)排放情况 排放时间(h)产生浓度(mg/m3)产生速率(kg/h)产生量(t/a)排放浓度(mg/m3)排放速率(kg/h)排放量(t/a)A区 2#楼 非甲烷总烃 10000 18.61 0.19 0.67 活性炭吸附+15m 高 DA286、002 排气筒 0 18.61 0.19 0.67 3600h 3#楼 5000 17.83 0.09 0.321 活性炭吸附+15m 高 DA003 排气筒 0 17.83 0.09 0.321 4#、5#楼 10000 113.09 1.13 4.071 活性炭吸附+15m 高 DA004 排气筒 0 113.09 1.13 4.071 B区 3#、4#楼 20000 199.72 3.99 14.38 沸石分子筛吸附+脱附催化燃烧”装置+15m 高DA006 排气筒 0 199.72 3.99 14.38 C区 2#、3#、5#楼 25000 161.92 4.05 14.573沸石分子287、筛吸附+脱附催化燃烧”装置+15m 高DA007 排气筒 0 161.92 4.05 14.573 4#楼 5000 16.22 0.08 0.292 活性炭吸附+15m 高 DA009 排气筒 0 16.22 0.08 0.292 8#楼 60000 95.73 5.74 20.678依托现有，经水淋+UV+活性炭吸附+30m 高DA0010 排气筒 60 38.29 2.30 8.27 11#楼 5000 105.61 0.53 1.901 活性炭吸附+15m 高 DA0011 排气筒 0 105.61 0.53 1.901 12#楼 5000 24.39 0.12 0.439 活性炭吸附288、+15m 高 DA0015 排气筒 0 24.39 0.12 0.439 D区 2#楼 30000 2.78 0.083 0.298 活性炭吸附+40m 高DA0016 排气筒 70 0.83 0.025 0.089 合计/16.003 57.623/12.505 45.006 110表表 2.5-12 无组织废气排放情况一览表无组织废气排放情况一览表 区域 污染物 产生量 车间面源参数(m)时间 kg/h t/a 长度 宽度 高度 h/a A 区 非甲烷总烃 0.029 0.103 180 55 15 3600 B 区（南）0.081 0.293 70 55 15 C 区 0.215 0.7289、73 340 80 25 D 区（2#）0.002 0.006 60 50 40 小计 0.327 1.175/111(4)焊接烟尘 项目激光器件生产时的焊接工序使用无铅焊丝对产品进行激光焊接，此过程会产生焊接烟尘，主要污染物为锡及其化合物，根据船舶工业劳动保护手册（上海工业出版社，1989 年第一版，江南造船厂科协），锡丝在焊锡时发尘量为 58g/kg 原料（按最大量 8g/kg 原料计），项目用于焊锡工序的无铅锡丝使用量为 9kg/a，则焊接烟尘产生量为 0.072kg/a，焊接工艺主要在 A 区 4#楼 3 层车间内进行，为无组织排放，。2.5.2.2 废水废水 现有工程产生的废水主要为290、生产过程中的抛光、研磨工序产生的生产废水以及职工生活污水。根据建设单位提供资料可知，食堂含油废水经隔油池、生活污水经化粪池预处理后通过市政管网排至洋里污水处理厂集中处理后达标排放；本项目 A 区生产废水及生活污水废水经各自预处理后经 A 区总排口排放；B 区生产废水及生活污水废水经各自预处理后经 B 区总排口排放；C 区生产废水及生活污水废水经各自预处理后经 C 区总排口排放；D 区生产废水及生活污水废水经各自预处理后经 D 区总排口排放项目。根据建设单位提供的用水量统计，排水按用水量的 0.85计，污染物浓度按实际监测结果平均值计入，主要污染物排放情况如下：表表 2.5-13 废水污染物排放291、情况废水污染物排放情况 污染物 单位 A 区 B 区 C 区 D 区 合计 废水量 t/a 23315.5 73992.5115030.5 55658 267996.5 COD 浓度 mg/L 204 202 300.8 118.5/排放量 t/a 4.76 14.95 34.60 6.60 60.90 BOD5 浓度 mg/L 66.54 70.5 103.18 37.05/排放量 t/a 1.55 5.22 11.87 2.06 20.70 石油类 浓度 mg/L 0.808 0.86 1.358 0.79/排放量 t/a 0.02 0.06 0.16 0.04 0.28 动植物油 浓度 292、mg/L 1.682 5.34 11.232 1.05/排放量 t/a 0.04 0.40 1.29 0.06 1.78 SS 浓度 mg/L 58 91 156.4 26/排放量 t/a 1.35 6.73 17.99 1.45 27.52 pH 浓度 无量纲 7.22 7.12 7.28 7.07/2.3.8.2 固体废物固体废物 现有工程固体废物产排情况根据公司一般固废及危废管理台账得出，见表 2.5-14及表 2.5-15。112表表 2.5-14 现有工程一般固体废物产生情况一览表现有工程一般固体废物产生情况一览表 名称 废物类别 代码 产生量(t/a)产生环节产废周期 利用处置 方293、式 颗粒砂和抛光粉沉淀物 污泥 SW07 87 生产线 每天 综合利用 无机废水污泥 无机废水污泥 SW07 15 废水站 每周 综合利用 有机废水污泥 有机废水污泥 SW07 5 废水站 每月 综合利用 废玻璃边角料 可再生类废物 SW17 129.4 生产线 每天 综合利用 纯水处理树脂 其他废物 SW59 5.5 辅助设备每天 综合利用 包装材料 废包装 SW17 12 生产线 每天 综合利用 报废设备 废机械产品 SW59 5 生产线 每年 综合利用 电子设备 废电器电子产品 SW59 0.5 生产线 每年 综合利用 炉壁废渣 其他废物 SW59 1.2 生产线 每年 综合利用 注：根294、据一般工业固体废物管理台账制定指南进行编码。表表 2.5-15 现有危险废物产生情况一览表现有危险废物产生情况一览表 产生工序 公司废物编号及名称 危废代码 危险特性产生量（t/a）处理方式原料储存 失效药品 HW03(900-002-03)T 0.015 委托资质单位处理打磨 废油及油渣 HW08(900-249-08)T、I 4.7195 配胶 废弃的胶、松香、蜂蜡等胶物 HW13（900-014-13）T 0.11 氢氟酸刻蚀 使用氢氟酸进行刻蚀产生的刻蚀废液 HW32(900-026-32)T、C 1.032 酸洗 废酸液 HW34(900-300-34)C、T 0.2385 失效碱剂295、 氢氧化钠，氢氧化钾 HW35(900-399-35)C、T 0.7375 清洗 废有机溶剂 HW06(900-404-06)T、I、R142.6015 擦拭 废油抹布、粘胶擦拭物、胶瓶 HW49(900-041-49)T/In 17.979 废气处理 废活性炭 合计 167.433 注：数据来源于 2021 年危废管理台账，废油墨及废显影液由于产生量较少，2021 年暂存于车间，计入 2022 年台账。2.5.3 现有工程存在问题及整改措施现有工程存在问题及整改措施 1、对照生态环境部关于印发的通知（环办环评函2020688 号）中第 5 条，本项目现有工程xxxx光学有限公司光学器件项目选296、址及平面布局发生变动，xxxx光学有限公司扩建项目规模变动超过 10%，均属于重大变动。根据中华人民共和xx境影响评价法第二十四条，113建设项目的环境影响评价文件经批准后，建设项目的性质、规模、地点、采用的生产工艺或者防治污染、防止生态破坏的措施发生重大变动的，建设单位应当重新报批建设项目的环境影响评价文件。因此，就现有工程重大变动部分，建设单位应重新编制环境影响评价文件进行报批。2、现有工程废气处理设施不完善，除 C8#及 D2#外，工艺有机废气基本为收集后直接排放，部分非甲烷总烃排放浓度超过标准限值，废气处理设施在建，应加快废气治理设施建设。114三、区域环境质量现状、环境保护目标及评价297、标准 区域 环境 质量 现状 1 地表水环境地表水环境(1)环境功能区划及环境质量标准 本项目污水纳入洋里污水处理厂处理，洋里污水处理厂纳污水体为光明港，而项目周边涉及的地表水体为磨洋河。根据闽政文2006133 号批准实施xx市地表水环境功能区划方案，光明港、磨洋河均属于xx内河河网，主要水体功能为一般景观用水，执行 GB3838-2002地表水环境质量标准中类水质标准。具体标准详见表 3-1。表表 3-1 地表水环境质量标准（摘录）地表水环境质量标准（摘录）单位：单位：mg/L序号 项目 类水质标准 标准来源 1 pH(无量纲)69 GB3838-2002 2 高锰酸盐指数 15 3 BO298、D5 10 4 NH3-N 2.0 5 石油类 1.0(2)环境质量现状 项目生产废水和生活污水均排入城市污水管网，最终由洋里污水处理厂处理；污水厂尾水排入光明港。为了解项目周边光明港水系的水环境质量，本评价引用xx市生态环境局2021年对光明港水质监测结果，引用的断面报告光明港河(九孔闸断面)监测数据，监测断面分布图见图3-1，监测结果详见下表3-2。表表 3-2 光明港水系水质现状监测值光明港水系水质现状监测值 断面 监测日期 水温 PH DO CODMnCODBOD NH3-N 总磷 总氮九孔闸 2021-01-13 13.2 6.84 9.8 2.7 20 4.1 1.11 0.23 299、4.852021-03-10 16.7 7.12 5.8 3.0 20 2.7 1.52 0.21 4.872021-05-13 25.0 7.6 6.0 2.6 20 3.0 0.22 0.12 4.842021-07-12 29.2 7.3 4.1 2.7 19 6.1 0.26 0.38 4.822021-09-09 29.6 6.8 6.5 3.9 20 3.3 0.43 0.20 4.802021-11-29 20.6 7.3 7.5 2.8 19 2.5 0.37 0.21 4.66标准值/69 2 15 40102.0 0.4 2.0单位 无量纲mg/Lmg/L mg/Lmg/L300、mg/L mg/L mg/L 115由上表可知，监测的光明港水系九孔闸断面水质可满足 GB3838-2002地表水环境质量标准中的 V 类标准。图图 3-1 水质现状监测断面图水质现状监测断面图 2 环境空气环境空气(1)环境功能区划及环境质量标准 根据xx市环境空气质量功能区划（2014 年 2 月），项目评价区域环境空气功能规划为二类区，环境空气质量执行 GB3095-2012环境空气质量标准中的二级标准，特征污染物特征因子为氯化氢、氟化氢、氰化氢、非甲烷总烃、硫酸、氨等，其中氟化物执行 GB3095-2012环境空气质量标准附录 A 所列的浓度限值要求，非甲烷总烃参照大气污染物综合排放标301、准详解中的相关要求执行，硫酸、TVOC、氯化氢、氨参照 HJ2.2-2018环境影响评价技术导则 大气环境附录 D 所列的参考限值，具体详见表 3-3。表表 3-3 环境空气质量标准环境空气质量标准 单位：单位：g/m指标 取值时间 单位 浓度限值评价标准来源 SO2 年平均 g/m3 60 GB3095-2012 11624 小时平均 g/m3 150 环境空气质量标准 二级标准 1 小时平均 g/m3 500 NO2 年平均 g/m3 40 24 小时平均 g/m3 80 1 小时平均 g/m3 200 NOx 年平均 g/m3 50 24 小时平均 g/m3 100 1 小时平均 g/m302、3 250 TSP 年平均 g/m3 200 24 小时平均 g/m3 300 PM10 年平均 g/m3 70 24 小时平均 g/m3 150 丙酮 1 小时平均 g/m3 800 HJ2.2-2018 环境影响评价技术导则 大气环境附录 D 硫酸 1 小时平均 g/m3 300 日平均 g/m3 100 氯化氢 1 小时平均 g/m3 50 日平均 g/m3 15 氯 1 小时平均 g/m3 100 日平均 g/m3 30 氨 1 小时平均 g/m3 200 氟化物 24 小时平均 g/m3 7 GB3095-2012 环境空气质量标准附录 A 1 小时平均 g/m3 20 非甲烷总烃 303、小时均值 mg/m3 2 大气污染物综合排放标准详解(2)环境质量现状 根据大气专题，评价区域内华伦中学晋安校区处的非甲烷总烃小时平均浓度能达到大气污染物综合排放标准详解一次值限值，氯气、氯化氢、硫酸雾、氟化物、氨、丙酮能达到环境评价技术导则大气环境(HJ2.2-2018)附录 D 中小时浓度限制，氰化氢小时浓度较低，说明项目所在地大气环境质量良好。2021年xx市环境空气中二氧化硫(SO)、二氧化氮(NO)、可吸入颗粒物(PM)和细颗粒物(PM.)的年均值分别为 5g/m、21g/m、38g/m和 21g/m，一氧化碳(CO)和臭氧(O)的百分位数浓度分别为 0.9mg/m和 128g/m。304、项目所在区域为达标区。3 声环境声环境(1)环境功能区划及环境质量标准 117本项目位于xx市晋安区福兴投资区，根据xx市人民政府（榕政综201430号）正式批复实施的xx市声环境质量功能区划（报批稿）的规定，项目评价区域声环境为 3 类区，声环境执行 GB3096-2008声环境质量标准中的 3 类标准，临福兴大道、湖塘路、福光路、福新东路、后屿路一侧厂界声环境执行GB3096-2008 中的 4a 类标准。详见表 3-4。表表 3-4 声环境质量标准声环境质量标准 单位：单位：dB(A)类别 昼间 夜间 标准来源 3 类 65 55 GB3096-2008声环境质量标准 4a 类 70 5305、5(2)环境质量现状 本项目位于xx市晋安区福兴投资区，项目厂界周边 50m 范围内无声环境敏感目标，根据建设项目环境影响报告表编制技术指南（污染影响类）(环办环评202033 号)要求，可不进行声环境质量现状调查。4 地下水环境地下水环境(1)监测布点 为了解项目所在区域地下水环境污染现状，本次评价引用2021年8月xxxx检测技术有限公司编制的xxxx光学有限公司土壤环境自行监测报告中对项目厂区的地下水监测数据。监测点的基本情况见表3-5，监测点位见附图。表表 3-5 监测点位情况表监测点位情况表 类别 点位名称 点位位置 经度 纬度 地下水 W1(背景点)C 区厂区绿化处 1192140306、.70 26455.27 W2 C 区垃圾站 1192137.79 26453.69 W3 C 区切削油储油区 1192138.86 26452.46 W4 K8 厂区 CNC 废水设施1192133.35 26454.35 W5 B 北区化学品库 1192134.26 26448.97 W6 B 北区废水总排口 1192133.73 26447.23 W7 B 南区光学废水处理设施1192136.64 26442.26 W8 A 区生产区 1192143.05 26446.17 W9 D 区西南角 1192137.96 2655.97 (2)监测时间、频率及监测单位 118监测时间与频次:W307、1W9:2021 年 08 月 27 日，一天一次。监测单位:xxxx检测技术有限公司、xxxx环境检测有限公司。(3)监测因子:pH 值、溶解性总固体、氯化物、耗氧量、氨氮、镉、铅、铬(六价)、铜、镍、汞、砷、锑、锡、苯、甲苯、二甲苯、三甲苯、乙苯、苯乙烯、氟化物、氰化物、石油烃(4)分析方法:详见附表 01。(5)监测结果:地下水监测结果详见附表 02。厂内地下水水质指标均可达地下水质量标准(GB/T14848-2017)III 类标准。5 土壤环境土壤环境(1)监测布点 为了解项目所在区域土壤环境污染现状，本次评价引用2021年8月xxxx检测技术有限公司编制的xxxx光学有限公司土壤环308、境自行监测报告。监测点的基本情况见表3-6，监测点位见附图。表表 3-6 监测断面情况表监测断面情况表 类别 点位编号 位置 采样深度 经度 纬度 土壤 S1(背景点)C 区厂区绿化处 00.5m1192140.73 26455.30 S2 C 区垃圾站 00.5m1192139.58 26453.26 S3 C 区垃圾站 00.5m1192139.79 26453.69 S4 C 区切削油储油区 00.5m1192138.66 26452.46 S5 C 区切削油储油区 00.5m1192138.89 26452.65 S6 K8 厂区 CNC 废水设施00.5m1192132.79 264309、53.67 S7 K8 厂区 CNC 废水设施00.5m1192133.35 26454.35 S8 B 北区化学品库 00.5m1192134.26 26448.97 S9 B 北区化学品库 00.5m1192135.07 26449.30 S10 B 北区废水总排口 00.5m1192133.73 26447.23 S11 B 北区废水总排口 00.5m1192135.93 26447.47 S12 B 南区光学废水处理设施 00.5m1192136.64 26442.26 S13 B 南区光学废水处理设施 00.5m1192134.55 26442.13 S14 A 区生产区 00.5m310、1192143.05 26446.17 S15 A 区生产区 00.5m1192143.39 26446.33 S16 D 区西南角 00.5m1192137.96 2655.97 119 S17 D 区西南角 00.5m1192138.35 2655.92 (2)监测时间、频率及监测单位 监测时间与频次:S1S17 表层样:2021 年 08 月 27 日，一天一次。监测单位:xxxx检测技术有限公司、xxxx环境检测有限公司。(3)监测因子:镉、铅、铬(六价)、铜、镍、汞、砷、四氯化碳、氯仿、氯甲烷、1,1-二氯乙烷、1,2-二氯乙烷、1,1-二氯乙烯、顺-1,2-二氯乙烯、反-1,2-二311、氯乙烯、二氯甲烷、1,2-二氯丙烷、1,1,1,2-四氯乙烷、1,1,2,-四氯乙烷、四氯乙烯、I,1,1-三氯乙烷、1,1,2-三氯乙烷、三氯乙烯、1,2,3-三氯丙烷、氯乙烯、苯、氯苯、1,2-二氯苯、1,4-二氯苯、乙苯、苯乙烯、甲苯、间二甲苯+对二甲苯、邻二甲苯、硝基苯、苯胺、2-氯酚、苯并a蒽、苯并a芘、苯并b荧蒽、苯并k荧蒽、二苯并a,h蒽、茚并I,2,3-cd芘、萘、pH 值、锑、锡、氟化物、氰化物、石油烃(C10C40)、钒、钡。(4)分析方法:详见附表 03。(5)监测结果:土壤监测结果详见附表 04。土壤监测各项目的检测值符合土壤环境质量建设用地土壤污染风险管控标准(试行)312、(GB36600-2018)中的第二类用地筛选值要求限值。环境 保护 目标 1 大气环境大气环境 项目厂界外500m范围内无自然保护区、风景名胜区等保护目标，其他居住区、文化区等人群较集中的保护目标详见表3-7、附图5。表表 3-7 大气环境保护目标一览表大气环境保护目标一览表 编号 保护目标 相对方位及距离受影响对象 基本情况 环境功能区划 及保护要求 1 华伦中学晋安校区 东南侧 60m 学校，600 人 环境空气满足 环境空气质量标准(GB3095-2012)二类区环境功能 2 横屿鳝溪佳园 北侧 450m 约 6848 人 3 阳光城檀悦 北侧 440m 约 4152 人 4 xx警官313、学院 西侧 275m 学校，5000 人5 汇诚雅园 西南侧 295m 约 3664 人 6 福兴楼 西侧 430m 约 128 人 7 晋安区委党校 西南侧 215m 约 150 人 8 鼓山镇派出所 西南侧 310m 约 80 人 1209 晋安区图书馆 西南侧 395m 约 60 人 10 鼓山实验幼儿园 西南侧 340m 约 200 人 2 声环境声环境 项目周围50m范围内无声环境敏感目标。3 地下水环境地下水环境 项目周围500m范围内无地下水集中式饮用水水源和热水、矿泉水、温泉等特殊地下水资源。4 生态环境生态环境 项目位于xx福兴经济开发区，厂房均为租赁，无新增占地。污染 物排314、 放控 制标 准 1 废水废水 本项目运营期产生的废水主要为生产废水（清洗废水以及切割、粗磨、抛光、CNC 加工废水等）和职工生活污水。其中生产废水经区内相应污水处理站预处理、食堂废水经隔油池、生活污水经化粪池预处理后通过市政污水管网，送xx市洋里污水处理厂进行处理。生产废水排放执行 GB39731-2020 电子工业水污染物排放标准表 1 间接排放限值和表 2 单位产品基准排水量；生活污水排放执行GB8978-1996 污水综合排放标准 表 4 三级标准（氨氮参考 GB/T31962-2015 污水排入城镇下水道水质标准中 B 等级的最高允许值的排放要求）；污水处理厂尾水排放执行 GB189315、18-2002城镇污水处理厂污染物排放标准表 1 一级 A 标准。具体标准限值详见表 3-8表 3-11。表表 3-8 电子工业水污染物排放标准电子工业水污染物排放标准(摘录摘录)单位：单位：mg/L(pH 除外除外)污染物项目 排放限值 间接排放 电子元件 显示器件及光电子器件 pH 6.09.0 6.09.0 悬浮物（SS）400 400 石油类 20 20 化学需氧量（CODCr）500 500 总有机碳（TOC）200 200 氨氮(以 N 计)45 45 121总氮 70 70 总磷 8.0 8.0 阴离子表面活性剂（LAS）20 20 总氰化物 1.0 1.0 氟化物 20 20 316、总铜 2.0 2.0 总锌 1.5 1.5 总镉 0.05 0.05 表表 3-9 单位产品基准排水量单位产品基准排水量 适用企业适用企业 产品规格产品规格 单位单位 单位产品单位产品 基准排水量基准排水量 排水量计量位置排水量计量位置 电子元件 压电晶体元器件 m3/万只产品 3.5 与污染物排放监控位置一致其他 m3/万只产品 0.2 显示器件及光电子器件 薄膜晶体管液晶显示器件（TFT-LCD）m3/m2（以彩膜玻璃基板或列阵玻璃基板投入面积较大的计）0.36m/3.5/6.2 有源矩阵有机发光二极管显示器件（AMOLED）m3/m2（以阵列玻璃基板投入面积计）12 发光二极管（LED）317、m3/万粒 0.5 表表 3-10 生活污水排放标准生活污水排放标准 指标 三级标准值 标准来源 pH 69 污水综合排放标准GB8978-1996 表 4 COD 500 BOD5 300 石油类 20 SS 400 氨氮(以 N 计)45 GB/T31962-2015 注：注：由于污水综合排放标准表 4 中的三级标准未对氨氮的标准值作出规定，因此，氨氮参考 污水排入城镇下水道水质标准(GB/T31962-2015)中 B 等级的最高允许值的排放要求。表表 3-11 城镇污水处理厂污染物排放标准城镇污水处理厂污染物排放标准(摘录摘录)单位：单位：mg/L（除（除 pH 外）外）指标 一级 A318、 标准值 标准来源 pH 69 GB18918-2002 表 1 COD 50 BOD5 10 氨氮 5 SS 10 122石油类 1 2 废气废气 1 工艺废气 本项目产生的工艺废气主要为酸性气体、碱性气体、含氰废气、焊接烟尘和有机废气等，主要污染物为颗粒物、氯化氢、硫酸雾、氟化氢、氯气、氨、氰化氢以及非甲烷总烃等，其中颗粒物、硫酸雾、氟化物、氯气、氰化氢排放执行大气污染物综合排放标准(GB16297-1996)表 2 中二级标准限值，氨、硫化氢执行恶臭污染物排放标准(GB14554-93)表 2 限值要求；根据xx省生态环境厅关于国家和地方相关大气污染物排放标准执行有关事项的通知(xx保大319、气20196 号)，非甲烷总烃有组织排放执行 DB35/1782-2018工业企业挥发性有机物排放标准表 1 限值要求，无组织排放执行 DB35/1782-2018 表 2、表 3 标准限值及挥发性有机物无组织排放控制标准(GB37822-2019)中附录 A 表 A.1 标准限值。具体详见表 3-12表 3-13。表表 3-12 大气污染物有组织排放标准一览表大气污染物有组织排放标准一览表 排气筒 污染物 最高允许排放浓度 mg/m3 最高允许排放速率环评要求更严格 排放速率kg/h 标准来源 排气筒 m 排放速率 kg/h DA001 硫酸雾 45 15 1.5 0.045 大气污染物综合320、排放标准（GB16297-1996）表2二级 DA002 非甲烷总烃 80 15 1.8 0.8 工业企业挥发性有机物排放标准DB35/1782-2018表1 电子产品制造 DA003 非甲烷总烃 80 15 1.8 0.4 DA004 非甲烷总烃 80 15 1.8 0.8 DA005 氟化物 9.0 15 0.10 0.009 大气污染物综合排放标准（GB16297-1996）表2二级 DA006 非甲烷总烃 80 15 1.8 1.8 工业企业挥发性有机物排放标准DB35/1782-2018表1 电子产品制造 DA007 非甲烷总烃 80 15 1.8 1.8 DA008 硫酸雾 45 321、15 1.5 0.045 大气污染物综合排放标准 123（GB16297-1996）表2二级 DA009 非甲烷总烃 80 15 1.8 0.4 工业企业挥发性有机物排放标准DB35/1782-2018表1 电子产品制造 DA0010 非甲烷总烃 80 30 9.6 4.8 DA0011 非甲烷总烃 80 15 1.8 0.4 DA0012 氯气 65 25 0.52 0.065 大气污染物综合排放标准（GB16297-1996）表2二级 DA0013 氯气 65 25 0.52 0.065 DA014 氰化氢 0.5 15 0.15 0.0015 DA015 非甲烷总烃 80 15 1.8 322、0.4 工业企业挥发性有机物排放标准DB35/1782-2018表1 电子产品制造 DA016 非甲烷总烃 80 40 17.4 2.4 DA017 硫酸雾 45 40 15 0.765 大气污染物综合排放标准（GB16297-1996）表2二级 氯化氢 100 2.6 0.3 氟化氢 9.0 1.0 0.12 氨/35 1 恶臭污染物排放标准(GB14554-93)表2限值 表表 3-13 大气污染物无组织排放标准一览表大气污染物无组织排放标准一览表 污染物 监控点 无组织排放监控浓度限值（mg/m3）来源及标准 颗粒物 周界外浓度最高点 1.0 大气污染物综合排放标准（GB16297-19323、96）表 2 无组织排放监控浓度限值 硫酸雾 1.2 氟化物 20g/m3 氯化氢 0.2 氯气 0.40 氰化氢 0.024 锡及其化合物 0.24 氨 1.5 恶臭污染物排放标准(GB14554-93)表2 限值 非甲烷总烃 厂区内监控点浓度限值 8.0 工业企业挥发性有机物排放标准DB35/1782-2018 表 2 企业边界监控点浓度限值 2.0 工业企业挥发性有机物排放标准DB35/1782-2018 表 3 厂区内任意一次浓度值 30（排放限值）20（特别排放限值）挥发性有机物无组织排放控制标准（GB37822-2019）表 A.1 124注：厂区内无组织监控点任意一次浓度值执行 324、GB37822-2019，其余执行 DB35/1782-2018。3 噪声噪声 项目运营期厂界噪声执行 GB12348-2008工业企业厂界环境噪声排放标准中 3 类标准，临福兴大道、湖塘路、福光路、福新东路、后屿路一侧厂界执行GB12348-2008 中 4 类标准。具体标准见表 3-14。表表 3-14 工业企业厂界环境噪声排放限值工业企业厂界环境噪声排放限值 单位：单位：dB(A)时段 声环境功能区类别 昼间 夜间 3 类 65 55 4 类 70 55 4 固体废物固体废物 一般工业固体废物采用包装工具(包装袋等)贮存，其贮存过程应满足相应防渗漏、防雨淋、防扬尘及中华人民共和国固体废物325、污染环境防治法中相关要求。危险废物在贮存时应满足危险废物贮存污染控制标准(GB18597-2001)及其 2013 年修改单要求。总量 控制 指标 根据国家“十四五”期间污染物总量控制要求及xx市“十四五”生态环境保护规划、xx省人民政府关于推进排污权有偿使用和交易工作的意见(试行)(闽政201424号)、xx省环保厅关于贯彻落实的通知(xx发20149号)、xx省环保厅关于环评审批中落实排污权交易工作要求的通知(xx保评201443号)等有关文件要求，需进行排放总量控制的污染物为COD、NH3-N、SO2、NOX、VOCs。1 现有工程总量控制指标现有工程总量控制指标 根据 xx市生态环境局326、关于xx省海欣药业股份有限公司等 39 家企业初始排污权核定情况的函(榕环保函2019406 号)，xxxx光学有限公司主要污染物初始排污权核定量为:COD 1.178t/a、NH3-N 0.118t/a。2 本项目总量控制指标本项目总量控制指标 125根据国家制定的总量控制指标，对化学需氧量（COD）和氨氮（NH3-N）、二氧化硫（SO2）、氮氧化物（NOX）四项主要污染物实施总量控制。1 本项目污染物排放情况(1)废水 本项目清洗废水经区内污水处理站预处理、粗磨、精磨、抛光废水经沉淀处理、食堂废水经隔油池、生活污水经化粪池预处理后通过市政污水管网，送xx市洋里污水处理厂进行处理。根据工程分327、析计算可知，项目废水排放情况详见表3-15，废水排放至洋里污水处理厂达一级 A 后排放。表表 3-15 废水总量排放情况废水总量排放情况 指标指标 厂区排出情况厂区排出情况 最终排放情况最终排放情况 总量总量 废水（t/a）300285 300285 300285 COD（t/a）62.97 15.015 15.015 氨氮 13.51 1.5 1.5 (2)废气 本项目没有排放二氧化硫（SO2）、氮氧化物（NOx）。本项目外排废气中的主要污染物为 VOCs（以非甲烷总烃表征），项目建成后，非甲烷总烃排放量为 22.458t/a。2 总量控制方案及现役源削减替代(1)废水污染物 根据 xx省环328、保厅关于进一步加快推进排污权有偿使用和交易工作的意见（xx发20156 号）中的相关规定“对水污染物，仅核定工业废水部分”，因此，项目生活污水污染物允许排放量由xx市洋里污水处理厂统计在内，不需重新申请污染物排放总量。建设单位应对区内排放的生产废水中的 COD、NH3-N 进行排污权的有偿使用和交易。由于项目生产废水与生活污水混排，根据计算，确定本次主要污染物需购买的总量控制指标为 COD 13.837t/a、NH3-N 1.382t/a。(2)废气污染物 根据xx市人民政府关于实施“三线一单”生态分区管控的通知（榕政综2021178 号）要求，xx福兴经济开发区内涉新增 VOCs 排放项目，329、VOCs 126排放实行区域内倍量替代。因此，本项目 VOCs 实行 2 倍削减量替代。表表 3-21 本项目大气污染物总量控制及区域削减替代本项目大气污染物总量控制及区域削减替代 单位：单位：t/a控制因子 排放量（t/a）总量控制建议指标（t/a）区域削减替代量（t/a）备注 挥发性有机物 24.404 24.404 48.808 倍量替代 本项目实施后污染物相关替代削减情况由建设单位向生态环境主管部门提交申请核定。建设单位应在项目投产前取得 VOCs 区域削减替代方案批复意见。127四、主要环境影响和保护措施 施工 期环 境保 护措 施 本项目租赁已建厂房进行生产，因此施工期仅在厂房内进330、行设备安装，不涉及土建。施工期污染仅为设备安装噪声和少量设备包装材料。项目施工期主要治理措施如下：1 噪声防治措施噪声防治措施 本项目施工期不涉及土建工程，噪声源主要为设备安装过程中使用的各种机械设备：钻孔机、电锤等，其噪声值在 7090dB(A)之间。施工方需要采取的防治措施包括：文明施工方式，装卸、搬运不抛掷。为进一步防止施工噪声对周围环境影响，在后续施工过程中，除了采取上述措施外，还应选用低噪声设备，合理进行施工布置；合理安排施工时间，每天 22点至次日凌晨 7 点禁止高噪声机械施工和电动工具作业。通过采取以上对策措施，使施工期间场界噪声满足建筑施工场界噪声限值（GB12523-2011331、）标准。2 固废防治措施固废防治措施 项目施工期产生的固体废物主要为设备废包装材料和废漆桶。设备废包装材料收集后交由环卫部门清运处置。根据 关于用于原始用途的含有或直接沾染危险废物的包装物、容器是否属于危险废物问题的复函(环函2014126 号)，“用于原始用途的含有或直接沾染危险废物的包装物、容器不属于固体废物，也不属于危险废物；用于原始用途的含有或直接沾染危险废物的包装物、容器，是指由原所有者回收并重新用于包装或盛装该危险废物的包装物、容器”。项目废漆桶交由厂家回收用于原始用途，不纳入固体废物管理中。运营 期环 境影 响和 保护 措施 见下述 4.1 章节 1284.1 运营期环境影响和保332、护措施运营期环境影响和保护措施 4.1.1 废气废气 1 污染源强 本项目运营期产生的废气主要为酸性废气、碱性废气、含氰废气、有机废气、焊接烟尘等。(1)酸性、碱性废气 本项目酸性废气主要来自酸清洗工序，碱性废气主要来自碱清洗工序。酸/碱清洗 A 晶体生产时，在每次生产不同晶体时均需要使用硫酸清洗坩埚，清洗过程会产生酸性气体，主要为硫酸雾。B 部分光学玻璃产品在 SIC 车间生产时需使用氢氟酸、盐酸、硫酸、氨气等进行清洗，清洗过程会产生酸性气体和碱性气体，其中酸性气体主要为氯化氢、硫酸雾和氟化氢，碱性气体主要为氨气。C 部分光学玻璃产品在光学玻璃车间生产时需使用硫酸，清洗过程会产生酸性气体，主333、要为硫酸雾。本项目酸性气体、碱性气体挥发量采用环评统计手册中的液体蒸发量的计算，本计算方法适用于氢氟酸、硫酸、盐酸、氨水等酸洗工艺中的酸液蒸发量与其他液体蒸发量的计算，其计算公式如下：Gz=M（0.000352+0.000786V）PF 式中，Gz液体的蒸发量，kg/h；M液体的分子量；V蒸发液体表面上的空气流速，m/s，以实测数据为准，无条件实测时，一般可取 0.2-0.5，本项目清洗操作均位于密闭车间内，取 0.2m/s；P相应于液体温度下的空气中的蒸气分压力，mmHg。项目使用的硫酸浓度为 75%，盐酸浓度为 37%，氢氟酸浓度 49%。根据化学化工物性数据手册中的数据，本项目中使用的对应浓度硫酸、盐酸、氢氟酸蒸汽分压力在 25下的数据分别取，4.5mmHg、52.1mmHg、31mmHg；根据氨水溶液的氨蒸气压和水蒸气压计算式中的数据，项目使用的 37%浓度的氨水在 25下的蒸汽分